辐射成像装置、辐射成像系统、辐射成像方法和程序制造方法及图纸

一种辐射成像系统，包括：检测单元，被配置为检测来自辐射源的辐射照射的剂量；第一处理单元，被配置为当基于对检测结果进行第一处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第一停止信号；第二处理单元，被配置为当基于对已经历第一处理的信号进行第二处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第二停止信号；以及控制单元，被配置为控制辐射源，以便基于第一停止信号或第二停止信号停止辐射照射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射成像装置、辐射成像系统、辐射成像方法和程序
本专利技术涉及辐射成像装置、辐射成像系统、辐射成像方法和程序。
技术介绍
包括矩阵基板的辐射成像装置已经投入实践，作为用于医学图像诊断和非破坏性检查的辐射成像装置，其中矩阵基板包括通过组合诸如TFT(薄膜晶体管)之类的开关和诸如光电转换元件之类的转换元件而获得的像素阵列。作为多功能辐射成像装置的示例，PTL1公开了其中模拟信号从诸如光定时器之类的辐射接收部分输入到辐射生成装置的剂量控制单元的布置，作为用于执行辐射的剂量控制的辐射成像系统，并且执行剂量控制，使得当模拟信号的积分值超过预定阈值时，剂量控制单元停止辐射的照射。引文列表专利文献PTL1：日本专利No.4217505
技术实现思路
技术问题但是，当以模拟信号的形式从辐射成像装置向辐射生成装置输出剂量信息时，模拟信号易受噪声的影响。因此，例如，辐射捕获系统存在如下问题：当来自辐射源的照射剂量低时，由于噪声等的影响，用于停止辐射的照射的剂量控制的精度降级。考虑到上述问题而做出了本专利技术，并且本专利技术提供了能够执行控制以使用多种信号停止辐射的照射的辐射成像技术。对问题的解决方案根据本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种辐射成像系统，其特征在于包括：检测装置，用于检测来自辐射源的辐射照射的剂量；第一处理装置，用于当基于对检测结果进行第一处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第一停止信号；第二处理装置，用于当基于对已经历第一处理的信号进行第二处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第二停止信号；以及控制装置，用于控制辐射源，以便基于第一停止信号或第二停止信号停止辐射照射。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.28 JP 2016-0916531.一种辐射成像系统，其特征在于包括：检测装置，用于检测来自辐射源的辐射照射的剂量；第一处理装置，用于当基于对检测结果进行第一处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第一停止信号；第二处理装置，用于当基于对已经历第一处理的信号进行第二处理而获得的剂量信息超过阈值时输出第二停止信号；以及控制装置，用于控制辐射源，以便基于第一停止信号或第二停止信号停止辐射照射。2.如权利要求1所述的辐射成像系统，其特征在于第二处理装置包括：转换处理装置，用于输出对已被第一处理装置进行第一处理的信号进行了第二处理的信号；以及积分确定装置，用于确定通过对从转换处理装置输出的信号执行积分而获得的剂量信息是否超过阈值。3.如权利要求2所述的辐射成像系统，其特征在于还包括通信装置，用于经由第一信号路径输出从第一处理装置输出的信号，并经由第二信号路径输出从转换处理装置输出的信号。4.如权利要求2或3所述的辐射成像系统，其特征在于，如果积分确定装置确定剂量信息超过阈值，那么第二处理装置输出第二停止信号。5.如权利要求1至4中任一项所述的辐射成像系统，其特征在于还包括用于选择第一停止信号或第二停止信号的选择装置，其中选择装置从第一停止信号和第二停止信号当中选择首先输入到选择装置的信号。6.如权利要求5所述的辐射成像系统，其特征在于控制装置控制辐射源，以便基于由选择装置选择的信号停止辐射的照射。7.如权利要求1至5中任一项所述的辐射成像系统，其特征在于第一处理装置生成通过对检测装置的检测结果执行数字信号处理而获得的信号，作为第一处理。8.如权利要求7所述的辐射成像系统，其特征在于第一处理装置输出生成的信号，作为与辐射源的同步控制信号。9.如权利要求2所述的辐射成像系统，其特征在于转换处理装置生成通过对由第一处理装置生成的信号执行模拟转换处理而获得的信号，作为第二处理。10.如权利要求1至9中任一项所述的辐射成像系统，其特征在于还包括：设置装置，用于设置辐...

【专利技术属性】
技术研发人员：田村敏和，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP