工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置和存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置、存储介质，包括：非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，基准工艺文件包括基准工艺设备的配置参数；非基准工艺设备的控制装置根据非基准工艺设备的工艺配置和基准工艺文件中的配置参数确定非基准工艺设备的配置参数，生成非基准工艺设备的工艺文件，非基准工艺设备的工艺配置包括非基准工艺设备的配置参数与基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，非基准工艺设备的工艺文件包括非基准工艺设备的配置参数。本申请通过各工艺设备与基准工艺设备的配置参数的差异信息来自动生成所述非基准工艺设备的工艺文件，提高了各工艺设备生成工艺文件的效率及可靠性。

【技术实现步骤摘要】
工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置和存储介质
本专利技术涉及光伏电池制备
，尤其涉及一种工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置和存储介质。
技术介绍
光伏电池生产线中，执行离线工艺配方的核心工艺设备，包括化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)设备、物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)设备等。为保护核心设备工艺的数据安全，且更方便、安全地管理工艺数据，光伏电池生产线的核心工艺设备采用离线编写工艺并加密，之后在设备机台上进行解密、运行的方式来执行工艺。如图1所示，研发人员使用研发计算机上的工艺编辑器软件编写工艺，生成加密的工艺文件，并传输到设备计算机上；设备计算机上的工艺解码器解析工艺文件，并导入设备软件执行工艺。上述方式下，由于每台工艺设备的硬件略有不同，导致标准工艺在各台设备上执行的结果也略有不同。如图2所示，为实现最优工艺结果，需要给每个工艺设备单独生成一个工艺文件，每个工艺文件的内容都会略有区别。在当扩充产能增加工艺设备或者修改、升级工艺时，也需要花大量时间为每台工艺设备重新生成工艺文件。这样，研发人员需要大量的时间去针对每台设备编写工艺，执行测试，且执行过程中容易出错。对于其他生产线上的工艺设备，其工艺文件的生成也存在类似的问题。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置和存储介质，能够提高工艺设备执行离线工艺配方的效率。为了达到本专利技术目的，本专利技术实施例的技术方案是这样实现的：本专利技术实施例提供了一种工艺文件生成方法，包括：非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数；所述非基准工艺设备的控制装置根据所述非基准工艺设备的工艺配置和所述基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。本专利技术实施例还提供了一种工艺文件生成方法，包括：非基准工艺设备的控制装置获取待检测非基准工艺设备的控制装置上保存的工艺文件和工艺配置，所述待检测非基准工艺设备的工艺文件包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数，所述待检测非基准工艺设备的工艺配置包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数和一基准工艺设备的配置参数之间的差异信息；所述非基准工艺设备的控制装置根据所述待检测非基准工艺设备的工艺配置、所述非基准工艺设备的工艺配置和所述待检测非基准工艺设备的工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。本专利技术实施例还提供了一种存储介质，所述存储介质上存储有一个或者多个程序，所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行，以实现如上所述的工艺文件生成方法的步骤：本专利技术实施例还提供了一种非基准工艺设备的控制装置，包括处理器及存储器，所述处理器用于执行存储器中存储的工艺文件生成程序，以实现如上所述的工艺文件生成方法的步骤。本专利技术实施例还提供了一种非基准工艺设备的控制装置，包括第一基准参数获取单元和第一非基准参数生成单元，其中：第一基准参数获取单元，用于获取一基准工艺设备的基准工艺文件，所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数；第一非基准参数生成单元，用于根据所述非基准工艺设备的工艺配置和所述基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。本专利技术实施例还提供了一种非基准工艺设备的控制装置，包括第二基准参数获取单元和第二非基准参数生成单元，其中：第二基准参数获取单元，用于获取待检测非基准工艺设备的控制装置上保存的工艺文件和工艺配置，所述待检测非基准工艺设备的工艺文件包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数，所述待检测非基准工艺设备的工艺配置包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数和一基准工艺设备的配置参数之间的差异信息；第二非基准参数生成单元，用于根据所述待检测非基准工艺设备的工艺配置、所述非基准工艺设备的工艺配置和所述待检测非基准工艺设备的工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述所述非基准工艺设备的配置参数。本专利技术实施例还提供了一种工艺控制系统，包括一工艺编辑器、一基准工艺设备的控制装置，及至少一非基准工艺设备的控制装置，其中：所述工艺编辑器，用于根据基准工艺设备离线编写、生成基准工艺文件，将所述基准工艺文件加密后下发给所述基准工艺设备的控制装置和非基准工艺设备的控制装置，所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数；所述基准工艺设备的控制装置，用于解密得到所述基准工艺文件，根据所述基准工艺文件执行工艺；所述非基准工艺设备的控制装置，用于解密得到所述基准工艺文件，根据所述非基准工艺设备的工艺配置和基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件并根据生成的工艺文件执行工艺，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。本专利技术实施例的技术方案，具有如下有益效果：本专利技术实施例提供的工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置、存储介质，只需为选定的一基准工艺设备生成一个基准工艺文件，对于其他的非基准工艺设备，通过各非基准工艺设备的工艺配置自动生成适合各非基准工艺设备的工艺文件。在当扩充产能增加工艺设备或者修改、升级工艺时，也不需要为非基准工艺设备重新编写工艺文件、执行测试，因而极大地提高了各个工艺设备生成工艺文件的效率及可靠性，提高了工艺升级与工艺改进的效率。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为相关技术中一台工艺设备的工艺文件生成和使用方法示意图；图2为相关技术中多台工艺设备的工艺文件生成和使用方法示意图；图3为本专利技术实施例一的一种工艺文件生成方法的流程示意图；图4为本专利技术实施例一的一种非基准工艺设备的控制装置的结构示意图；图5为本专利技术实施例一的待检测种非基准工艺设备的控制装置的结构示意图；图6为本专利技术实施例三的一种工艺文件生成方法的流程示意图；图7为本专利技术实施例三的一种非基准工艺设备的控制装置的结构示意图；图8为本专利技术实施例四的一种工艺控制系统的结构示意图；图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工艺文件生成方法，包括：非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数；所述非基准工艺设备的控制装置根据所述非基准工艺设备的工艺配置和所述基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。

【技术特征摘要】
1.一种工艺文件生成方法，包括：非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数；所述非基准工艺设备的控制装置根据所述非基准工艺设备的工艺配置和所述基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，包括：接收工艺编辑器下发的所述基准工艺文件；或者，接收工艺编辑器下发的对所述基准工艺文件加密得到的加密文件，对所述加密文件解密后得到所述基准工艺文件；其中，所述基准工艺文件是所述工艺编辑器根据所述基准工艺设备编写的离线工艺文件。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件，包括：获取所述基准工艺设备的控制装置上保存的所述基准工艺文件。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述配置参数包括以下至少一种参数的配置值：气体流量、工艺压力、电源功率、工艺温度、工艺时间。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述非基准工艺设备为化学气相沉积设备或物理气相沉积设备；所述基准工艺设备为化学气相沉积设备或物理气相沉积设备。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述差异信息为偏移量，所述偏移量通过相对差值或偏移百分比来表示。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述非基准工艺设备的控制装置生成所述非基准工艺设备的工艺文件后，所述方法还包括：所述非基准工艺设备的控制装置保存生成的所述工艺文件。8.一种工艺文件生成方法，包括：非基准工艺设备的控制装置获取待检测非基准工艺设备的控制装置上保存的工艺文件和工艺配置，所述待检测非基准工艺设备的工艺文件包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数，所述待检测非基准工艺设备的工艺配置包括所述待检测非基准工艺设备的配置参数和一基准工艺设备的配置参数之间的差异信息；所述非基准工艺设备的控制装置根据所述待检测非基准工艺设备的工艺配置、所述非基准工艺设备的工艺配置和所述待检测非基准工艺设备的工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数，生成所述非基准工艺设备的工艺文件，所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息，所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述配置参数包括以下至少一种参数的配置值：气体流量、工艺压力、电源功率、工艺温度、工艺时间；所述差异信息为偏移量，所述偏移量通过相对差值或偏移百分比来表示。10.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质上存储有一个或者多个程序，所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行，以实现如权利要求1至权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨斌，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11