阵列基板、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，用于改善因像素界定层中的水氧对有机发光材料进行侵蚀，导致像素发光面积减小的问题。所述阵列基板，包括衬底和设置在所述衬底上的像素界定层，所述像素界定层包括镂空区和第一凹陷部，所述镂空区对应所述阵列基板的开口区。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及阵列基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机电致发光二极管)显示装置由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、高色域、高对比度、响应速度快、耗能小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为具有发展前景的下一代显示技术。OLED制作时像素和像素之间通过像素界定层隔开，同时在像素界定层上会制作周期性排布的支撑柱，来支撑有机发光材料的蒸镀掩膜板，像素界定层和支撑柱均为PI(Polyimide，聚酰亚胺)材料，易吸水氧。由于有机发光材料对水氧敏感，因此在制作像素界定层和支撑柱后会经过高温烘烤(oven)去除水氧。由于像素界定层面积较大，导致即使进行高温烘烤，大面积的像素界定层中仍会含有少量的水氧，这部分水氧在OLED的后续使用中会缓慢渗透出来，对有机发光材料造成侵蚀。这样一来，会造成有机发光材料可发光的面积收缩，导致像素发光面积减小，直至不发光。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板、显示面板及显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括衬底和设置在所述衬底上的像素界定层，其特征在于，所述像素界定层包括镂空区和第一凹陷部，所述镂空区对应所述阵列基板的开口区。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底和设置在所述衬底上的像素界定层，其特征在于，所述像素界定层包括镂空区和第一凹陷部，所述镂空区对应所述阵列基板的开口区。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述阵列基板的厚度方向，所述第一凹陷部的深度小于所述像素界定层的厚度。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层包括多个所述第一凹陷部，多个所述第一凹陷部阵列排布。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层包括多个相互平行的所述第一凹陷部，所述第一凹陷部的延伸方向与所述像素界定层的侧边平行。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王格，蒋志亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11