正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用制造技术

本发明专利技术提供一种正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用。正型感光性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)以及含受阻胺基的硅化合物(D)。使用正型感光性聚硅氧烷组成物所制得的薄膜可具有良好的耐热性和密着性。

【技术实现步骤摘要】
正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用
本专利技术是有关于一种正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用，且特别是有关于一种包含特定的含受阻胺基的硅化合物的正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用。利用上述正型感光性聚硅氧烷组成物所制得的薄膜具有良好的耐热性和密着性。
技术介绍
近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影制程中所需图案的微细化亦要求日高。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影而形成，其中，以硅氧烷聚合物为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。在液晶显示器或有机电激发光显示器中，层状配线间通常会配置层间绝缘膜以作为绝缘。由于从正型感光性材料获得图案形状的必要工序数较少，同时，所获得的绝缘膜平坦度佳，故被广泛使用于形成层间绝缘膜的材料。例如，用于液晶显示器的层间绝缘膜需形成微细配线的接触孔的图案。而实际上，负型感光性组成物形成的接触孔难以达到可使用水准的孔径，因此，业界广泛使用正型感光性组成物以形成液晶显示元件的层间绝缘膜。一般作为形成层间绝缘膜的正型感光性组成物的主要成分可为丙烯酸聚合物或硅氧烷聚合物，其中，使用硅氧烷聚合物类材料的感光性组成物的耐热性及透明性较佳。然而，硅烷化合物或硅氧烷聚合物类材料因其本身易与同类或不同类化合物产生水解缩合反应，在制备正型感光性组成物时，这些副反应的发生会导致正型感光性组成物的保存稳定性变差，其产品的寿命亦会缩短。为抑制上述的缩合反应，业界已开发通过控制聚硅氧烷的分子量以及分枝结构以抑制缩合反应。习知借由酸催化剂、金属螯合物和碱催化剂的作用可得到不同分子量的聚硅氧烷以控制聚硅氧烷的结构。然而，当应用于层间绝缘膜时，使用上述聚硅氧烷的正型感光性树脂组成物却有耐热性不足及密着性不足的缺点，而无法令业界所接受。因此，如何同时达到目前业界对耐热性与密着性的要求，为本专利技术所属
中努力研究的目标。
技术实现思路
本专利技术的一态样在于提供一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其包含特定的含受阻胺基的硅化合物，以使利用上述正型感光性聚硅氧烷组成物所获得的薄膜可具有良好的耐热性和密着性。本专利技术的另一态样在于提供一种薄膜的制造方法，其是用以将上述正型感光性聚硅氧烷组成物形成于基板上，以制得薄膜。本专利技术的又一态样在于提供一种薄膜，其是利用上述的制造方法所制得。本专利技术的再一态样在于提供一种装置，其是包含前述的薄膜。正型感光性聚硅氧烷组成物根据本专利技术的上述态样，首先提出一种正型感光性聚硅氧烷组成物。在一实施例中，正型感光性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)以及含受阻胺基的硅化合物(D)，以下分述之。聚硅氧烷(A)聚硅氧烷(A)可使用硅烷单体(silanemonomer)进行聚缩合(即水解(hydrolysis)及部分缩合)来合成，或是使用硅烷单体及其他可聚合的化合物进行聚缩合来合成。所述硅烷单体可包括硅烷单体(a-1)及硅烷单体(a-2)；其他可聚合的化合物包含硅氧烷预聚物(a-3)、二氧化硅粒子(a-4)，或其组合。以下，进一步说明各个成分以及聚缩合的反应步骤与条件。硅烷单体(a-1)硅烷单体(a-1)为由式(I-1)表示的化合物：Si(Ra)w(ORb)4-w式(I-1)式(I-1)中，Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基，至少一个Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基；Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；以及，w表示1至3的整数。更详细而言，当式(I-1)中的Ra表示碳数为1至10的烷基时，具体而言，Ra例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、正己基或正癸基。又，Ra也可以是烷基上具有其他取代基的烷基，具体而言，Ra例如是三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-胺丙基、3-巯丙基或3-异氰酸丙基。当式(I-1)中的Ra表示碳数为2至10的烯基时，具体而言，Ra例如是乙烯基。又，Ra也可以是烯基上具有其他取代基的烯基，具体而言，Ra例如是3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。当式(I-1)中的Ra表示碳数为6至15的芳香基时，具体而言，Ra例如是苯基、甲苯基(tolyl)或萘基(naphthyl)。又，Ra也可以是芳香基上具有其他取代基的芳香基，具体而言，Ra例如是对-羟基苯基(p-hydroxyphenyl)、1-(对-羟基苯基)乙基(1-(p-hydroxyphenyl)ethyl)、2-(对-羟基苯基)乙基(2-(p-hydroxyphenyl)ethyl)或4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl)。此外，式(I-1)中的Ra表示含有酸酐基的烷基，其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言，所述含有酸酐基的烷基例如是式(I-1-1)所示的乙基丁二酸酐、式(I-1-2)所示的丙基丁二酸酐或式(I-1-3)所示的丙基戊二酸酐。值得一提的是，酸酐基是由二羧酸(dicarboxylicacid)经分子内脱水(intramoleculardehydration)所形成的基团，其中二羧酸例如是丁二酸或戊二酸。再者，式(I-1)中的Ra表示含有环氧基的烷基，其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言，所述含有环氧基的烷基例如是环氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)或2-(3,4-环氧环己基)乙基(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl)。值得一提的是，环氧基是由二元醇(diol)经分子内脱水所形成的基团，其中二元醇例如是丙二醇、丁二醇或戊二醇。式(I-1)中的Ra表示含有环氧基的烷氧基，其中烷氧基较佳为碳数为1至10的烷氧基。具体而言，所述含有环氧基的烷氧基例如是环氧丙氧基丙基(glycidoxypropyl)或2-环氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)。另外，当式(I-1)的Rb表示碳数为1至6的烷基时，具体而言，Rb例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(I-1)中的Rb表示碳数为1至6的酰基时，具体而言，Rb例如是乙酰基。当式(I-1)中的Rb表示碳数为6至15的芳香基时，具体而言，Rb例如是苯基。在式(I-1)中，w表示1至3的整数。当w表示2或3时，多个Ra可为相同或不同；当w表示1或2时，多个Rb可为相同或不同。所述硅烷单体(a-1)的具体例包括：3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane，简称GPTMS)、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane)、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三苯氧基硅烷(2-oxetanylbuto本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于包含：聚硅氧烷(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；溶剂(C)；以及含受阻胺基的硅化合物(D)。

【技术特征摘要】
2017.06.12 TW 1061195161.一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于包含：聚硅氧烷(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；溶剂(C)；以及含受阻胺基的硅化合物(D)。2.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于该聚硅氧烷(A)是由混合物聚缩合而得，且该混合物包含式(I-1)所示的硅烷单体(a-1)：Si(Ra)w(ORb)4-w式(I-1)在该式(I-1)中，该Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或烷氧基，且至少一个该Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或烷氧基；该Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；以及，该w表示1至3的整数。3.根据权利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于该混合物包含四官能性硅烷单体。4.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于该含受阻胺基的硅化合物(D)是如式(II-1)所示：Si(R1)n(OR2)4-n式(II-1)在该式(II-1)中，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴明儒，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71