【技术实现步骤摘要】
铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用
本专利技术涉及玻璃制造领域,具体涉及铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用。
技术介绍
随着光电行业的快速发展,对各种显示器件的需求正在不断增长,比如有源矩阵液晶显示(AMLCD)、有机发光二极管(OLED)以及应用低温多晶硅技术的有源矩阵液晶显示(LTPSTFT-LCD)器件,这些显示器件都基于使用薄膜半导体材料生产薄膜晶体管(TFT)技术。主流的硅基TFT可分为非晶硅(a-Si)TFT、多晶硅(p-Si)TFT和单晶硅(SCS)TFT,其中非晶硅(a-Si)TFT为现在主流TFT-LCD应用的技术,其生产制程可以在300-450℃温度下完成。对于像素密度不超过300ppi的显示产品,非晶硅(a-Si)TFT游刃有余;但是当像素密度超过400ppi后,就需要电子迁移率更高的多晶硅技术支撑。LTPS(p-Si)TFT在制程过程中需要在450-600℃温度下多次处理,基板必须在多次高温处理过程中不能发生显著的变形,对基板玻璃热稳定性和尺寸稳定性提出更高的要求,也即基板必须具有足够小的“热收缩”。基板玻璃热收缩的影响因素主要有三个:第一方面,基 ...
【技术保护点】
1.一种铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,该铝硅酸盐玻璃含有62‑68%的SiO2、11‑15%的Al2O3、0‑4%的B2O3、5‑15%的MgO、1‑10%的CaO、3‑9%的SrO、0.01‑1%的ZnO和0.001‑0.5%的MoO3。
【技术特征摘要】
2017.08.10 CN 20171068341951.一种铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,该铝硅酸盐玻璃含有62-68%的SiO2、11-15%的Al2O3、0-4%的B2O3、5-15%的MgO、1-10%的CaO、3-9%的SrO、0.01-1%的ZnO和0.001-0.5%的MoO3。2.根据权利要求1所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,该铝硅酸盐玻璃含有62-68%的SiO2、11-15%的Al2O3、0%的B2O3、5-15%的MgO、1-10%的CaO、3-9%的SrO、0.01-1%的ZnO和0.001-0.5%的MoO3。3.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,SiO2的含量为64-67.5%。4.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,Al2O3的含量为12-14.5%。5.根据权利要求1所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,B2O3的含量大于0小于等于4,优选为1-3.5%,更优选为1.51-2.99%。6.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,MgO的含量为6-14%,优选为6.5-13.5%,较优选为7-12%,更优选为7.5-9.5%。7.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,CaO的含量为1-8.5%。8.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,CaO的含量为3.8-7.3%。9.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,SrO的含量为3.5-8.5%,优选为4-8%,较优选为4.3-7.5%,更优选为4.6-7%。10.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,ZnO的含量为0.05-0.7%。11.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,以该铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准,以氧化物计,MoO3的含量为0.005-0.3%。12.根据权利要求1或2所述的铝硅酸盐玻璃,其特征在于,该铝硅酸盐玻璃还含有澄清剂;优选地,所述澄清剂为硫酸钡、硝酸钡、硝酸锶、氧化锡和氧...
【专利技术属性】
技术研发人员:李青,张广涛,王俊峰,黄晓亮,李俊锋,闫冬成,王丽红,郑权,
申请(专利权)人:东旭科技集团有限公司,东旭集团有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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