一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件技术

本发明专利技术提供一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件，属于显示技术领域，其可解决现有的缓冲包装不足以保护显示装置的问题。本发明专利技术的缓冲挡块中的填充物可以使得其具有良好的缓冲性能，其中的框架在受到外力时会发出不同强度的光，框架发出的光可用来激发填充物的自修复，从而促使框架恢复形变。显示装置在运输或储存的过程中使用该缓冲挡块，可避免因碰撞而受损，该缓冲挡块可为显示装置提供持续的保护。

【技术实现步骤摘要】
一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件
本专利技术属于显示
，具体涉及一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件。
技术介绍
显示装置在运输或储存过程中难免会受到外力的碰撞，为了保护显示装置，通常需要在显示装置的外部增加一些缓冲材料以吸收外力作用时的对显示装置的撞击能量，从而有效地保护显示装置，避免显示装置在运输或储存的过程中因碰撞而受损。目前常用的缓冲包装主要包括：用发泡塑料做全面缓冲包装箱，在其四角安装缓冲挡块，然而在装载和运输的过程中产品仍然会受到不同强度的冲击与磨损，其中跌落冲击最为强烈，破损后的挡块对产品的保护性急剧下降，使产品处于危险状态，目前的解决方法主要是增加缓冲挡块的面积和厚度，这样不仅会增加包装的成本，还会给结构设计带来不便。
技术实现思路
本专利技术针对现有的缓冲包装不足以保护显示装置的问题，提供一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是：一种缓冲挡块，包括多个矩阵排列的框架和设于所述框架内的填充物；其中，所述框架包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物进行自修复并使框架恢复形变。可选的是，所述力致发光材料包括铝酸盐、硫化物、钛酸盐中的任意一种或几种的混合物。可选的是，所述光敏材料含有光敏基团，所述光敏基团包括双硒共价键、肉桂酰基、香豆素、蒽中的至少一种。可选的是，所述第一基材包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物。可选的是，所述第二基材包括部分聚合的聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物。可选的是，所述缓冲挡块设有孔洞，所述孔洞内设有光强记录仪和用于向所述光强记录仪提供电源的电池。可选的是，所述孔洞内还设有湿度仪和/或温度仪，所述电池为太阳能电池。可选的是，所述缓冲挡块的外表面设有反射涂层，用于将框架发出的光反射至填充物。可选的是，所述缓冲挡块用于支撑显示装置，所述缓冲挡块设有卡合结构，且所述卡合结构与显示装置被支撑的位置处的形状相互对应。本专利技术还提供一种缓冲挡块的制备方法，包括以下制备步骤：将力致发光材料与第一基材混合形成多个矩阵排列的框架；将光敏材料与第二基材混合在框架内形成填充物；其中，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；在所述框架的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物进行自修复并使框架恢复形变。本专利技术还提供一种包装组件，包括箱体，和设于所述箱体内的上述的缓冲挡块。附图说明图1为本专利技术的实施例1的缓冲挡块的俯视示意图；图2为本专利技术的实施例2的缓冲挡块的局部的立体示意图；图3为本专利技术的实施例2的缓冲挡块的截面示意图；图4为本专利技术的实施例2的缓冲挡块的整体的立体示意图；图5为本专利技术的实施例4的包装组件的示意图；其中，附图标记为：10、缓冲挡块；20、缓冲边；1、框架；2、填充物；3、孔洞；4、卡合结构；5、反射涂层。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种缓冲挡块，如图1所示，包括多个矩阵排列的框架1和设于所述框架1内的填充物2；其中，所述框架1包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物2包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架1的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物2进行自修复并使框架1恢复形变。本实施例的缓冲挡块中的填充物2使得其具有良好的缓冲性能，其中的框架1在受到外力时会发出不同强度的光，其发出的光可用来激发填充物2的自修复，从而促使框架1恢复形变。显示装置在运输或储存的过程中使用该缓冲挡块，可避免因碰撞而受损，该缓冲挡块可为显示装置提供持续的保护。实施例2：本实施例提供一种缓冲挡块，如图2-4所示，包括多个矩阵排列的框架1和设于所述框架1内的填充物2；其中，所述框架1包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物2包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架1的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物2进行自修复并使框架1恢复形变，其中，所述力致发光材料包括铝酸盐、硫化物、钛酸盐中的任意一种或几种的混合物。本实施例中的力致发光材料在应力、摩擦、刮擦、断裂、超声波震荡等影响下可发出可见光，在此不限定力致发光材料的具体种类，也不限定其发光颜色，具体的，可以根据实际应用的需要进行选择，例如，铝酸盐类SrAl2O4:Eu可发出绿光，SrAl2O4:Ce可发出紫外光，CaYAl3O7:Eu和硅酸盐CaAl2Si2O8:Eu可发出蓝光，硫化物ZnS:Mn可发出橙光，钛酸盐(Ba,Ca)TiO3:Pr和ZnS:Mn,Te可发出红光等，在第一基材中掺杂不同种类的上述无机发光材料，可使第一基材在受到外界力的情况下发出不同颜色的光，发光强度受第一基材受力大小以及掺杂无机发光材料的含量的影响。需要说明的是，在此不限定框架1的具体形状，其可以是矩阵排列的蜂窝状的，可以是图2所示的菱形，也可以是与之类似的六边形、八边形等，其中，菱形结构使其在受力时易发生一定程度的变形，可最大限度的吸收能量达到缓冲效果，在修复过程中也更容易恢复原型，实现修复目的。本实施例不限定第一基材的具体材料，通常可选用韧性或缓冲性能较好的聚合物。作为本实施例中的一种可选实施方案，所述第一基材包括聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物，例如聚乙烯与聚苯乙烯混合物材料(EPO)。在此也不限定第二基材的具体材料，其也可选用韧性或缓冲性能较好的聚合物。在一个实施例中，所述第二基材包括部分聚合的聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物。在一个实施例中，所述光敏材料含有光敏基团，所述光敏基团包括双硒共价键、肉桂酰基、香豆素、蒽中的至少一种。其中，在第二基材中添加一定量光敏材料，当第一基材在外界作用下发生损伤时，在力致发光材料的光的照射下，这些光敏材料的光敏基团会形成二聚体，也就是说光敏材料可作为光引发剂引发第二基材的聚合物进一步聚合交联，完成自修复过程。不同光敏基团引发自修所需的光照强度不同，如双硒共价键的键能较低，在温和的可见光照射下即可实现材料的自修复，肉桂酰基团可在波长大于280nm的紫外光照下实现材料的自修复，香豆素可在波长为254nm和350nm的紫外光下实现材料的自修复，蒽对可在波长为254nm的紫外光下实现材料的自修复，修复时间与聚合物材料种类、光敏基团种类以及光敏基团的添加量有关，从几分钟到几十分钟不等。在一个具体实施例中，在第一基材中添加SrAl2O4:Ce，SrAl2O4:Ce在外力的作用下可发出紫外光；在第二基材中添加肉桂酰基、香豆素、蒽等可在紫外光照下实现自修复的光敏基团。在另一个具体实施例中，在第一基材中添加铝酸盐类SrAl2O4:Eu(绿光)，CaYAl3O7本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种缓冲挡块，其特征在于，包括多个矩阵排列的框架和设于所述框架内的填充物；其中，所述框架包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物进行自修复并使框架恢复形变。

【技术特征摘要】
1.一种缓冲挡块，其特征在于，包括多个矩阵排列的框架和设于所述框架内的填充物；其中，所述框架包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物进行自修复并使框架恢复形变。2.根据权利要求1所述的缓冲挡块，其特征在于，所述力致发光材料包括铝酸盐、硫化物、钛酸盐中的任意一种或几种的混合物。3.根据权利要求1所述的缓冲挡块，其特征在于，所述光敏材料含有光敏基团，所述光敏基团包括双硒共价键、肉桂酰基、香豆素、蒽中的至少一种。4.根据权利要求1所述的缓冲挡块，其特征在于，所述第一基材包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物。5.根据权利要求1所述的缓冲挡块，其特征在于，所述第二基材包括部分聚合的聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的任意一种，或者乙烯、丙烯、苯乙烯中任意几种的共聚物。6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：周俊丽，李强，付开鹏，赵亮亮，李平礼，张卿彦，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11