【技术实现步骤摘要】
利用液态金属抛光液进行大平面抛光的装置
本技术涉及液态金属抛光液抛光
，更具体的说，尤其涉及一种利用液态金属抛光液进行大平面抛光的装置。
技术介绍
科技的进步极大地推动了技术的发展，随着光学领域和微电子学领域及其相关技术的发展，对所需材料的表面质量的要求越来越高，大规模和超大规模集成电路对所用衬底材料的表面精度提出了很高的要求。但是目前的平面抛光技术存在报废率高、生产成本高、生产效率低等问题。液态金属通常是指在常温下呈液态的合金功能材料，如熔点在30℃以下的金属及其合金材料，也包括在40℃～300℃工作温区内呈液态的低熔点合金材料。利用液态金属抛光液进行抛光，指的是当混有金属离子的液态金属抛光液在磁场的作用下与工件抛光表面发生相对运动时，液态金属抛光液丝带上的柔性磨头对抛光表面产生大的切削力，从而对工件抛光表面进行抛光。目前尚无利用液态金属抛光液进行抛光的技术，对该技术的研究对大平面的抛光具有非常种重要的意义。
技术实现思路
本技术的目的在于解决传统的大平面抛光技术存在报废率高、生产成本高、生产效率低等问题，提出了一种加工效率高、加工精度高的利用液态金属抛光液进行大...
【技术保护点】
1.一种利用液态金属抛光液进行大平面抛光的装置，其特征在于：包括工件(1)、磨盘(2)、负电极(3)、主轴(4)、电机(5)、喷头(6)、液态金属输送管(7)、液态金属泵(8)、回收孔(9)、正电极(10)、电热丝(11)、抛光槽(13)和工作平台(12)，所述正电极(10)安装在工作平台(12)内；所述磨盘(2)安装在正电极(10)上方的工作平台(12)上，所述磨盘(2)上设有有多个孔，工作平台(12)内盛有液态金属抛光液且液态金属抛光液通过磨盘(2)孔流动到工作平台(12)内；工件(1)安装磨盘(2)正上方的主轴(4)上；所述负电极(3)固定在工件(1)上；所述主轴(4...
【技术特征摘要】
1.一种利用液态金属抛光液进行大平面抛光的装置，其特征在于：包括工件(1)、磨盘(2)、负电极(3)、主轴(4)、电机(5)、喷头(6)、液态金属输送管(7)、液态金属泵(8)、回收孔(9)、正电极(10)、电热丝(11)、抛光槽(13)和工作平台(12)，所述正电极(10)安装在工作平台(12)内；所述磨盘(2)安装在正电极(10)上方的工作平台(12)上，所述磨盘(2)上设有有多个孔，工作平台(12)内盛有液态金属抛光液且液态金属抛光液通过磨盘(2)孔流动到工作平台(12)内；工件(1)安装磨盘(2)正上方的主轴(4)上；所述负电极(3)固定在工件(1)上；所述主轴(4)上端连接驱动主轴(4)转动的电机(5)，电机(5)安装在三自由度平台上并受三自由度平台控制进行X轴、Y轴和Z轴三个方向的自由U运动；所述抛光槽(13)内设置有电热丝(11)，所述抛光槽(13)内还安装用于检测抛光槽(13)内液体金属抛...
【专利技术属性】
技术研发人员：夏卫海，张利，傅昱斐，王亚良，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：新型
国别省市：浙江,33
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。