回旋加速器及其控制方法技术

本发明专利技术涉及一种回旋加速器及其控制方法。所述回旋加速器包括加速腔室、真空系统、离子源系统和控制系统，所述控制系统配置成当粒子束沿所述回旋加速器的束路径被引导时确定至少一个操作参数。所述控制系统配置成基于所述至少一个操作参数降低对所述粒子束的带电粒子的供应。在降低所述带电粒子的供应之后，所述粒子束继续。所述控制系统还配置成在预定的时段之后或者响应于基于所述至少一个操作参数确定所述气体分子的量已经减小，提高对所述粒子束的所述带电粒子的供应。

【技术实现步骤摘要】
回旋加速器及其控制方法
本文的主题总体上涉及回旋加速器，并且更具体地涉及用于降低回旋加速器内的表面或部件的辐射的机构。
技术介绍
回旋加速器是一种类型的粒子加速器，在回旋加速器中，带电粒子(例如H-带电粒子或D-带电粒子)束沿螺旋轨道向外加速。回旋加速器可以用来生成放射性同位素(也被称为放射性核素)，其在药物治疗、成像和研究中具有若干应用，以及具有不与医疗有关的其它应用。在这种系统中，回旋加速器将束引导到靶材料中以产生同位素。回旋加速器包括离子源，离子源提供带电粒子进入到回旋加速器的加速腔室中。回旋加速器使用电场和磁场加速带电粒子且沿着加速腔室内的预定轨道导引带电粒子。磁场由电磁体和包围加速腔室的磁轭提供。电场由位于加速腔室内的一对射频(RF)电极产生。RF电极电联接到给RF电极通电以提供电场的RF发电机。电场和磁场使带电粒子具有增大的半径的螺旋状轨道。当带电粒子到达轨道的外部分时，带电粒子从其电子剥离，形成朝向靶材料引导以用于同位素产生的粒子束。然而，当带电粒子沿着轨道被导引时，带电粒子可与其它粒子碰撞，其它粒子例如来自离子源的残余气体分子或通过加速腔室内的除气、脱气或解吸附产生的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种回旋加速器，其包括：加速腔室；真空系统，所述真空系统与所述加速腔室流动连通，并配置成抽空所述加速腔室；离子源系统，所述离子源系统配置成将带电粒子提供至所述加速腔室；配置成引导由所述带电粒子形成的粒子束的电场系统和磁场系统，所述粒子束沿所述加速腔室内的束路径被引导；以及控制系统，所述控制系统配置成确定当所述粒子束沿所述束路径被引导时的至少一个操作参数，所述至少一个操作参数与所述加速腔室内的气体分子的量关联，所述控制系统配置成：基于所述至少一个操作参数降低对所述粒子束的所述带电粒子的供应，在降低所述带电粒子的供应之后，所述粒子束继续沿所述束路径被引导，以及在预定的时段之后和/或响应于基于所...

【技术特征摘要】
2017.06.07 US 15/6165021.一种回旋加速器，其包括：加速腔室；真空系统，所述真空系统与所述加速腔室流动连通，并配置成抽空所述加速腔室；离子源系统，所述离子源系统配置成将带电粒子提供至所述加速腔室；配置成引导由所述带电粒子形成的粒子束的电场系统和磁场系统，所述粒子束沿所述加速腔室内的束路径被引导；以及控制系统，所述控制系统配置成确定当所述粒子束沿所述束路径被引导时的至少一个操作参数，所述至少一个操作参数与所述加速腔室内的气体分子的量关联，所述控制系统配置成：基于所述至少一个操作参数降低对所述粒子束的所述带电粒子的供应，在降低所述带电粒子的供应之后，所述粒子束继续沿所述束路径被引导，以及在预定的时段之后和/或响应于基于所述至少一个操作参数确定所述气体分子的量已经减小，提高对所述粒子束的所述带电粒子的供应。2.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，降低所述带电粒子的供应包括将所述带电粒子的供应降低至少20％。3.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，所述控制系统配置成根据计划的操作模式操作所述回旋加速器，当降低所述带电粒子的供应时，所述控制系统中断所述计划的操作模式。4.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，由所述控制系统降低或提高所述带电粒子的供应中的至少一个基于最近已经被替换的所述回旋加速...

【专利技术属性】
技术研发人员：JH梅林，E科夫马，N泰恩柳斯，O斯维贝里，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国,US