【技术实现步骤摘要】
本技术属于建筑
，是一种纪念砖。目前，在各国的重点文物、名胜古迹、旅游胜地，都有的少纪念留言墙、塔、坪及各种纪念性建筑和人文景观，这些景观要求是长期保存，但由于其采用的砖型不好，容易受震动、风化、水淋的影响而脱落倒塌和龟裂，造成既不能永久保存，又要大量维修。本技术的目的是提供一种专用于纪念性建筑建设和修护的纪念砖，该砖应具有护震动风化水淋，利于永久保存的优点。本技术所采取的技术方案是在现有砖的基础上加以改进，在砖的内侧大面预制有凹槽，外侧大面刻设或预制纪念图文。内侧大面的凹槽为贯通的梯形槽。由于本技术采取了上述技术方案，与现有的砖相比，具有专用于纪念性建筑和修护，抗震动风化水淋，利于永久保存的优点。以下结合附图及实例对本技术的具体结构特征作进一步说明。附图说明图1表示本技术的总装结构示意图。图2表示本技术的端视结构示意图。如图1、图2所示，本技术具有砖体，砖体具有大面1、侧面2和端面3，它的主要特点是在内侧大面上预制有凹槽4，凹槽4可以为贯通的梯形槽，在外侧大面上刻设或预制有纪念图文5。该砖可以采用天然大理石、花岗岩、金属等材料，也可以采用陶瓷烧结。它可以通过专用基材进行切割-粗磨-铣槽-精研-纪念图文雕刻-抛光生产工艺最后加工成形状各异的念仿工艺砖。权利要求1.一种纪念砖，具有砖体，其特征是在砖的内侧大面预制有凹槽，外侧大面刻设或预制纪念图文。2.如权利要求1所述的一种纪念砖，其特征是在内侧大面的凹槽为贯通的梯形槽。专利摘要本技术为建筑
提供了一种纪念砖,在现有砖的基础上加以改进,在砖的内侧大面预制有凹槽,外侧大面刻设或预制纪念图文。内...
【技术保护点】
一种纪念砖，具有砖体，其特征是在砖的内侧大面预制有凹槽，外侧大面刻设或预制纪念图文。
【技术特征摘要】
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