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纪念砖制造技术
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文档序号:1975492
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本实用新型为建筑技术领域提供了一种纪念砖,在现有砖的基础上加以改进,在砖的内侧大面预制有凹槽,外侧大面刻设或预制纪念图文。内侧大面的凹槽为贯通的梯形槽;与现有的砖相比,具有专用于纪念性建筑和修护,抗震动风化水淋,利于永久保存的优点。...
该专利属于张建军所有,仅供学习研究参考,未经过张建军授权不得商用。
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