基片承载轴连续摆动式转架制造技术

基片承载轴连续摆动式转架，公转盘安装轴连接驱动电机，公转盘上对称安装传动盘转动座，公转盘上位于每个传动盘转动座外侧设有自转轴转动座，传动盘转动座上部安装传动盘，传动盘转动座下部安装小齿轮，传动盘边缘处上设有传动盘驱动销；自转轴转动座上部安装基片承载盘，基片承载盘尾端处设有基片承载盘驱动销，摆动杆两侧的长条形孔与传动盘驱动销和基片承载盘驱动销配合安装，摆动杆通过摆动杆座轴活动安装于公转盘上；下板座上部与公转盘之间安装压力球轴承，下板座上位于公转盘安装轴外侧固定安装大齿轮。本实用新型专利技术转架的公转盘转动时自转轴会持续的两个方向摆动，在不降低轴瓦成膜速率的情况下进一步提高了轴瓦内表面的膜层均匀度。

【技术实现步骤摘要】
基片承载轴连续摆动式转架
本技术涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及半圆形轴瓦镀膜设备。
技术介绍
目前，公知的为轴瓦镀膜的平面磁控靶作为溅射源的真空镀膜设备常用的转架形式有三种，第一种为公转盘、自转轴均持续旋转；第二种为公转盘持续旋转而基片挂载架不旋转；第三种为公转盘向一个方向转动时基片挂载架会产生与公转盘相反方向的摆动的转架，当自转轴摆动到既定位置后则停止摆动。根据平面磁控溅射源原理，平面磁控溅射源工作时，平面磁控溅射源功率不变的情况下，被镀膜轴瓦的膜层厚度与靶材和轴瓦表面的距离成正比，被镀膜轴瓦和靶材距离相同的情况下，轴瓦膜层的厚度和轴瓦正对靶材的时间成正比。公知的第一种传统转架结构自转轴持续旋转使靶材与轴瓦相对位置持续改变，可实现轴瓦镀膜的均匀度，但是当轴瓦旋转到背对靶材一端时，因为瓦片与靶材背对则无法镀膜。第二种转架公转盘转动时挂载架正对靶材方向不动保证了靶材与瓦片距离不变，可实现快速成膜，但是因为轴瓦的内表面为弧面造成轴瓦膜层的均匀度却无法保证。第三种转架结构基片挂载架随着公转盘转动实现正对靶材的单次摆动，此转架结构挂载的轴瓦始终正对靶材且随着公转盘改变转动方向单次改变基片挂载本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基片承载轴连续摆动式转架，其特征在于：公转盘（11）安装轴活动贯穿安装于下板座（15）上，公转盘（11）安装轴连接驱动电机（12），公转盘（11）上对称安装传动盘转动座（8），公转盘（11）上位于每个传动盘转动座（8）外侧设有自转轴转动座（2），传动盘转动座（8）上部安装传动盘（7），传动盘转动座（8）下部安装小齿轮（9），传动盘（7）边缘处上设有传动盘驱动销（6）；自转轴转动座（2）上部安装基片承载盘（1），基片承载盘（1）尾端处设有基片承载盘驱动销（3），摆动杆（4）两侧的长条形孔与传动盘驱动销（6）和基片承载盘驱动销（3）配合安装，摆动杆（4）通过摆动杆座轴（5）活动安装于公转盘（1...

【技术特征摘要】
1.基片承载轴连续摆动式转架，其特征在于：公转盘（11）安装轴活动贯穿安装于下板座（15）上，公转盘（11）安装轴连接驱动电机（12），公转盘（11）上对称安装传动盘转动座（8），公转盘（11）上位于每个传动盘转动座（8）外侧设有自转轴转动座（2），传动盘转动座（8）上部安装传动盘（7），传动盘转动座（8）下部安装小齿轮（9），传动盘（7）边缘处上设有传动盘驱动销（6）；自转轴转动座（2）上部安装基片承载盘（1），基片承载盘（1）尾端处设有基片...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚健，王绍超，
申请(专利权)人：大连维钛克科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21