一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层；本实用新型专利技术合理搭配各膜层厚度，膜系结构合理，具有优异的结合力，良好的隔热性能，膜层稳定，满足钢化要求，辐射率低至0.02，兼具低U值、低遮阳系数等优点，满足对高端镀膜玻璃的要求；本实用新型专利技术只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

A Silicon-based Tempered Trisilver Low Radiation Coated Glass

The utility model discloses a silicon-based tempered tri-silver low-radiation coated glass, which comprises a glass base. The top surface of the glass base is successively stacked with the first silicon nitride layer, the first nickel-chromium layer, the first silver layer, the first zinc oxide layer, the second silicon nitride layer, the second nickel-chromium layer, the second silver layer, the second zinc oxide layer and the third nitrogen layer from bottom to top. Silicon carbide layer, the third nickel chromium layer, the third silver layer, the third zinc oxide layer and the fourth silicon nitride layer; the utility model has reasonable thickness of each film layer, reasonable structure of the film system, excellent bonding force, good thermal insulation performance, stable film layer, meeting the steel requirements, low radiation rate to 0.02, low U value, low sunshade coefficient and other advantages. The utility model only needs conventional target material and can be prepared by magnetron sputtering process, with low cost, controllable process and high stability.

【技术实现步骤摘要】
一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃
本技术涉及功能玻璃
，具体是一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃在市场经济的推动下发展迅速，现已从最初的单银低辐射镀膜玻璃发展为高端三银低辐射镀膜玻璃，随着人们低碳环保意识的不断增加，高端镀膜产品必然会逐步成为市场需求趋势。三银低辐射镀膜玻璃相比其余低辐射产品而言，具有高隔热、低辐射、低遮阳以及高的选择系数等一系列优点。相比而言，在三银产品结构中，膜层数目及银层数目远远多于其余低辐射镀膜玻璃产品，导致了各企业在开发三银镀膜玻璃时遇到各种难题，如膜层材料的选择、角度色差以及在钢化过程中膜层的不稳定等问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃，该玻璃膜系具有优异的结合力，良好的隔热性能，膜层稳定，可钢化。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层；所述第一氮化硅层的厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层；所述第一氮化硅层的厚度为15～45nm、第一镍铬层的厚度为1～3nm、第一银层的厚度为3～9nm、第一氧化锌层的厚度为5～15nm、第二氮化硅层的厚度为45～75nm、第二镍铬层的厚度为1～2nm、第二银层的厚度为7～15nm、第二氧化锌层的厚度为5～15nm、第三氮化硅层的厚度为55～70nm、第三镍铬层的厚度为1～2nm、第三银层的厚度...

【技术特征摘要】
1.一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层；所述第一氮化硅层的厚度为15～45nm、第一镍铬层的厚度为1～3nm、第一银层的厚度...

【专利技术属性】
技术研发人员：张山山，李险峰，陆赵然，沈晓晨，邱宏，刘宇，
申请(专利权)人：中建材光电装备太仓有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32