低辐射节能玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种低辐射节能玻璃及其制备方法，该低辐射节能玻璃由下至上依次包括：玻璃基片层、阻挡层、第一过渡层、第一复合金属层、第二过渡层、第二复合金属层以及耐磨层，其中，第一复合金属层由下至上依次包括第一金属Ag层以及CuPd合金层，第二复合金属层由下至上依次包括第二金属Ag层以及金属Au层，并且其中，第一金属Ag层的厚度为4‑7nm，CuPd合金层的厚度为3‑6nm，第二金属Ag层的厚度为3‑5nm，金属Au层的厚度为4‑7nm。本发明专利技术的低辐射节能玻璃在兼顾美观的同时，保证了较高的低辐射性能以及较高的可见光透射率。

Low-radiation energy-saving glass and its preparation method

The invention discloses a low radiation energy-saving glass and a preparation method thereof. The low radiation energy-saving glass comprises a glass substrate layer, a barrier layer, a first transition layer, a first composite metal layer, a second transition layer, a second composite metal layer and a wear-resistant layer from bottom to top, in which the first composite metal layer is wrapped in turn from bottom to top. It includes the first metal Ag layer and the CuPd alloy layer. The second composite metal layer includes the second metal Ag layer and the metal Au layer from bottom to top. The thickness of the first metal Ag layer is 4 7 nm, the thickness of the CuPd alloy layer is 3 6 nm, the thickness of the second metal Ag layer is 3 5 nm, and the thickness of the metal Au layer is 4 7 nm. The low radiation energy-saving glass of the invention ensures high low radiation performance and high visible light transmittance while taking into account the beauty.

【技术实现步骤摘要】
低辐射节能玻璃及其制备方法
本专利技术是关于节能玻璃领域，特别是关于一种低辐射节能玻璃及其制备方法。
技术介绍
伴随着社会文明和经济的高速发展，节能环保越来越受到人们的关注。建筑能耗、工业能耗和交通能耗是中国三大主要能耗，据统计，现阶段我国的建筑能耗占社会总能耗的比例已经超过了40％，而这还仅仅是建筑物在建造和使用过程中消耗的能源比例，不包括建材生产耗掉的能源。我国是一个建筑业发展的大国，各类建筑面积逐年增长，而其中97％以上是高能耗建筑，按目前建设增速，预计到2020年，高耗能建筑面积将达700亿平方米。如果听任这种高耗能建筑持续发展下去，国家的能源生产势必难以长期支撑此种浪费型需求，从而不得不被迫组织大规模的旧房节能改造，这将要耗费更多的人力物力。因此建筑节能减排是国家实施可持续发展战略非常关键的环节。在现代建筑中，为了强调美观性与舒适性设计的窗体面积比重越来越大，但是普通的窗户玻璃传热系数非常高，导致建筑物热量的散失增加，这与建筑设计的节能性取向是矛盾的。而在建筑能耗中，而通过门窗流失的能耗占到了建筑能耗的51％。我国因节能门窗普及率低造成的建筑能耗，为发达国家的2～3倍，成为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低辐射节能玻璃，其特征在于：所述低辐射节能玻璃由下至上依次包括：玻璃基片层、阻挡层、第一过渡层、第一复合金属层、第二过渡层、第二复合金属层以及耐磨层，其中，所述第一复合金属层由下至上依次包括第一金属Ag层以及CuPd合金层，所述第二复合金属层由下至上依次包括第二金属Ag层以及金属Au层，并且其中，所述第一金属Ag层的厚度为4‑7nm，所述CuPd合金层的厚度为3‑6nm，所述第二金属Ag层的厚度为3‑5nm，所述金属Au层的厚度为4‑7nm。

【技术特征摘要】
1.一种低辐射节能玻璃，其特征在于：所述低辐射节能玻璃由下至上依次包括：玻璃基片层、阻挡层、第一过渡层、第一复合金属层、第二过渡层、第二复合金属层以及耐磨层，其中，所述第一复合金属层由下至上依次包括第一金属Ag层以及CuPd合金层，所述第二复合金属层由下至上依次包括第二金属Ag层以及金属Au层，并且其中，所述第一金属Ag层的厚度为4-7nm，所述CuPd合金层的厚度为3-6nm，所述第二金属Ag层的厚度为3-5nm，所述金属Au层的厚度为4-7nm。2.如权利要求1所述的低辐射节能玻璃，其特征在于：其中，所述阻挡层是氮化硅层，所述阻挡层厚度为10-20nm；所述耐磨层是氮化硅层，所述耐磨层厚度为15-30nm。3.如权利要求1所述的低辐射节能玻璃，其特征在于：其中，所述第一过渡层是金属CuOx层，所述第一过渡层的厚度为3-6nm。4.如权利要求1所述的低辐射节能玻璃，其特征在于：其中，所述第二过渡层是金属AgOx层，所述第一过渡层的厚度为2-4nm。5.一种低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于：所述低辐射节能玻璃的制备方法包括如下步骤：提供清洁的玻璃基片；在所述玻璃基片上沉积第一阻挡层；在所述第一阻挡层上沉积第一过渡层；在所述第一过渡层上沉积第一金属Ag层；在所述第一金属Ag层上沉积CuPd合金层；在所述CuPd合金层上沉积第二过渡层；在所述第二过渡层上沉积第二金属Ag层；在所述第二金属Ag层上沉积金属Au层；以及在所述金属Au层上沉积耐磨层；其中，所述第一金属Ag层的厚度为4-7nm，所述CuPd合金层的厚度为3-6nm，所述第二金属Ag层的厚度为3-5nm，所述金属Au层的厚度为4-7nm。6.如权利要求5所述的低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于：所述第一过渡层是金属CuOx层，所述第一过渡...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨瑞冰，
申请(专利权)人：杨瑞冰，
类型：发明
国别省市：福建,35