一种基坑围护结构深层水平位移监测系统技术方案

本实用新型专利技术公开了涉及建筑工程施工安全监测技术领域的一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，解决了不方便使用的问题。其技术方案要点是包括用于检测位置的全站仪、反射装置、基准点，基准点包括基准控制点、第一比较控制点和第二比较控制点，全站仪设置于基准控制点上，反射装置包括竖直设置的保护架和多个竖直排布且埋设于基坑侧壁的反射片，保护架转动连接有罩住反射片的保护罩，保护架设有锁定保护罩的锁定件。保护罩罩住反射片，防止基坑中的泥沙和水附着到反射片上，从而能方便的使用反射片进行测量，达到方便使用的效果。

A Deep Horizontal Displacement Monitoring System for Foundation Pit Enclosure

The utility model discloses a deep horizontal displacement monitoring system of foundation pit retaining structure, which relates to the technical field of construction safety monitoring of construction engineering, and solves the problem of inconvenience in use. The main points of the technical scheme include total station, reflecting device and datum point for detecting position. Datum point includes datum control point, first comparison control point and second comparison control point. Total station is set at datum control point. Reflecting device includes vertical protective frame and several vertical arrangement and is buried on the side wall of foundation pit. The reflective plate and the protective frame are rotated and connected with a protective cover covering the reflective plate, and the protective frame is provided with a locking part of the locking protective cover. The protective cover covers the reflector to prevent the sediment and water in the foundation pit from attaching to the reflector, so that the reflector can be conveniently used for measurement and the effect of convenient use can be achieved.

【技术实现步骤摘要】
一种基坑围护结构深层水平位移监测系统
本技术涉及建筑工程施工安全监测
，特别涉及一种基坑围护结构深层水平位移监测系统。
技术介绍
基坑围护结构主要承受基坑开挖卸荷所产生的水压力和土压力，并将此压力传递到支撑，是稳定基坑的一种施工临时挡墙结构，常见于大型建筑的施工建造当中。随着社会经济的发展，大型建筑越来越多，基坑的建造也越来越普遍，而基坑围护结构在基坑的建造当中非常重要，即可维护结构关系着施工过程中安全保障。公告号为CN205449046U的中国技术专利于2016年8月10日公开了一种基坑围护结构深层水平位移监测系统。包括全站仪，还包括用于定位监测基准的基准点，基准点包括基准控制点和比较控制点，还包括用于监测基坑围护结构面变形设置于基坑围护结构面、由上至下埋设的多个由反射装置构成的监测点；相邻监测点之间间距为0.5m至1.0m并保持在同一铅垂线上。采用本技术能很方便地对基坑异常部位增加临时监测。在基坑支撑轴力监测部位轴力值异常时，可随时增加单个或多个测点来监测围护结构变形情况，实现对围护结构深层水平位移变化进行监测。但在基坑施工的过程中，往往会产生出很多泥沙和水，泥沙和水容易附着在反射装置上，影响了反射装置的正常使用，导致不方便检测。故存在不方便使用的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，该监测系统具有方便使用的效果。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，包括用于检测位置的全站仪、反射装置、基准点，所述基准点包括基准控制点、第一比较控制点和第二比较控制点，所述全站仪设置于基准控制点上，所述反射装置包括竖直设置的保护架和多个竖直排布且埋设于基坑侧壁的反射片，所述保护架转动连接有罩住反射片的保护罩，所述保护架设有锁定保护罩的锁定件。通过这样的设置：利用全站仪观察反射片与全站仪之间的相对位置，监测基坑侧壁的水平位移。通过基准控制点上的全站仪测量基准控制点到第一比较控制点和第二比较控制点的距离，从而能得出基准控制点的位置，防止基准控制点的位置发生偏移而导致测量结果不准确，能有效控制测量误差。当不需要使用反射片时，在保护架上转动保护罩，使保护罩罩住反射片，防止基坑中的泥沙和水附着到反射片上，从而能方便的使用反射片进行测量，达到方便使用的效果。需要使用反射片时，在保护架上向远离反射片的方向旋转保护罩，使保护罩不能挡住反射片，从而能利用反射片进行监测。本技术的进一步设置：所述保护罩固定安装有与反射片抵接的柔性刷毛。通过这样的设置：保护罩在翻转过程中，带动柔性刷毛刷动反射片上的灰尘和水分，起到清洁反射片的作用。减少反射片上的灰尘和水分，起到方便使用反射片的效果。本技术的进一步设置：所述保护罩设有用于加热柔性刷毛的加热装置。通过这样的设置：当柔性刷毛上附着有水分时，可通过加热装置对柔性刷毛进行加热。柔性刷毛温度升高，能加速柔性刷毛上的水分的蒸发速度，防止柔性刷毛上的水分附着到反射片上，防止柔性刷毛上的水影响到反射片的正常使用。本技术的进一步设置：所述保护架安装有用于控制加热装置的开关按钮，所述开关按钮与保护罩抵接。通过这样的设置：当保护罩远离反射片的方向翻转时，保护罩挤压开关按钮，使开关按钮将加热装置打开，加速柔性刷毛上的水分的蒸发。当保护罩罩住反射片后，保护罩与开关按钮分离，开关按钮将加热装置关闭，从而起到方便使用加热装置的效果。本技术的进一步设置：所述保护架上端固定安装有内部储存有水的储水箱，所述保护架安装有清洁管，所述储水箱与清洁管通过软管连通，所述清洁管设有将清洁管内的水引到柔性刷毛上的洒水孔，所述保护罩设有供清洁管通过的缺口。通过这样的设置：储水箱内的水通过软管、清洁管和洒水孔流动到柔性刷毛处，并冲刷柔性刷毛上的灰尘。减少柔性刷毛上的灰尘，提高柔性刷毛对反射片的清洁效果。本技术的进一步设置：所述清洁管与保护架竖向滑动连接，所述清洁管与柔性刷毛抵接，所述保护架设有驱动清洁管竖向移动的驱动装置。通过这样的设置：驱动装置驱动清洁管在保护架上竖向移动，使清洁管与柔性刷毛碰撞，产生震动使柔性刷毛上的灰尘掉落。减少柔性刷毛上的灰尘，提高柔性刷毛的清洁效果。本技术的进一步设置：所述驱动装置包括电机和卷轮，所述电机固定安装在保护架上端，所述卷轮与保护架转动连接且与电机的输出轴固定连接，所述卷轮缠绕有下端与清洁管固定连接的拉索。通过这样的设置：电机驱动卷轮在保护架上转动，使卷轮收放拉索，使清洁管被拉索带动在保护架上竖向移动，实现驱动清洁管在保护架上竖向移动的功能。本技术的进一步设置：所述清洁管固定连接有重力块。通过这样的设置：重力块的重力驱使清洁管向下移动。当卷轮释放拉索时，重力块带动清洁管向下移动，防止清洁管被柔性刷毛挡住而无法向下移动，起到提高可靠性和方便使用的效果。本技术的进一步设置：所述软管设有水阀。通过这样的设置：在不需要用水清洁柔性刷毛时，将水阀关闭，阻止水从软管流动到清洁管内，起到节约用水的作用；在需要用水清洁柔性刷毛时，将水阀打开，使水能从软管流动到清洁管内，起到方便使用的效果。综上所述，本技术具有以下有益效果：保护罩罩住反射片，防止基坑中的泥沙和水附着到反射片上，从而能方便的使用反射片进行测量，达到方便使用的效果。保护罩在翻转过程中，带动柔性刷毛刷动反射片上的灰尘和水分，起到清洁反射片的作用。减少反射片上的灰尘和水分，起到方便使用反射片的效果。用储水箱内的水冲刷柔性刷毛上的灰尘。减少柔性刷毛上的灰尘，提高柔性刷毛对反射片的清洁效果。附图说明图1是本实施例的结构示意图；图2是本实施例中保护架的结构示意图；图3是图2中A处的放大图；图4是本实施例中柔性刷毛与清洁管的结构示意图。附图标记：11、全站仪；12、第一比较控制点；13、第二比较控制点；14、基准控制点；21、反射片；22、保护架；23、保护罩；24、柔性刷毛；25、加热装置；26、开关按钮；31、储水箱；32、清洁管；33、软管；34、水阀；35、洒水孔；41、电机；42、卷轮；43、缺口；44、拉索；45、重力块。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步详细说明。一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，如图1和图2所示，包括用于检测位置的全站仪11、反射装置、基准点，基准点包括基准控制点14、第一比较控制点12和第二比较控制点13，全站仪11设置于基准控制点14上。通过基准控制点14上的全站仪11测量基准控制点14到第一比较控制点12和第二比较控制点13的距离，从而能得出基准控制点14的位置，能防止基准控制点14的位置发生偏移而导致测量结果不准确。如图2和图3所示，反射装置包括竖直设置的保护架22和多个竖直排布且埋设于基坑侧壁的反射片21，保护架22转动连接有罩住反射片21的保护罩23。不使用反射片21时，在保护架22上旋转保护罩23，使保护罩23将反射片21罩住，从而能有效防止泥沙和水附着到反射片21上，起到方便使用反射片21的作用。保护罩23固定安装有与反射片21抵接的柔性刷毛24，旋转保护罩23的过程中，柔性刷毛24能清除反射片21上的泥沙和水，从而能方便的使用反射片21。保护罩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，包括用于检测位置的全站仪(11)、反射装置、基准点，所述基准点包括基准控制点(14)、第一比较控制点(12)和第二比较控制点(13)，所述全站仪(11)设置于基准控制点(14)上，其特征在于：所述反射装置包括竖直设置的保护架(22)和多个竖直排布且埋设于基坑侧壁的反射片(21)，所述保护架(22)转动连接有罩住反射片(21)的保护罩(23)，所述保护架(22)设有锁定保护罩(23)的锁定件。

【技术特征摘要】
1.一种基坑围护结构深层水平位移监测系统，包括用于检测位置的全站仪(11)、反射装置、基准点，所述基准点包括基准控制点(14)、第一比较控制点(12)和第二比较控制点(13)，所述全站仪(11)设置于基准控制点(14)上，其特征在于：所述反射装置包括竖直设置的保护架(22)和多个竖直排布且埋设于基坑侧壁的反射片(21)，所述保护架(22)转动连接有罩住反射片(21)的保护罩(23)，所述保护架(22)设有锁定保护罩(23)的锁定件。2.根据权利要求1所述的基坑围护结构深层水平位移监测系统，其特征在于：所述保护罩(23)固定安装有与反射片(21)抵接的柔性刷毛(24)。3.根据权利要求2所述的基坑围护结构深层水平位移监测系统，其特征在于：所述保护罩(23)设有用于加热柔性刷毛(24)的加热装置(25)。4.根据权利要求3所述的基坑围护结构深层水平位移监测系统，其特征在于：所述保护架(22)安装有用于控制加热装置(25)的开关按钮(26)，所述开关按钮(26)与保护罩(23)抵接。5.根据权利要求3所述的基坑围护结构深层水平位移监测系统，其特征在于：所述保护架(22)上端固定安装有内部储...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓集峰，
申请(专利权)人：浙江海北勘察股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33