一种液体传输装置及传输方法制造方法及图纸

本申请涉及一种液体传输装置及传输方法。液体传输装置，用于清洗或刻蚀阵列基板，包括第一支管路,设置有第一监测装置和第一阀门；第二支管路，与第一支路并联设置，设置有第二阀门。本申请通过在第一支管路中设置了监测装置，监测装置可以监测第一支管路的流量，在第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，第一阀门关闭第一支管路，第二阀门开启第二支管路，以使第二支管路继续传输液体。本申请能够根据传输设备中的流量切换传输管路，从而保证基板在制程的连续性，降低操作人员的疲劳强度。

【技术实现步骤摘要】
一种液体传输装置及传输方法
本申请涉及显示面板制造
，特别涉及一种液体传输装置及传输方法。
技术介绍
对于现有的湿刻设备和清洗设备，清洗或者更换过滤器，需要专业的工作人员进行手工作业。在过滤器的更换和清洗作业中，因为需要拆卸过滤器并为清洗过滤器提供清洗液，通常需要2-3名专业工作人员协同作业，因为其中大部分工作都是需要手动完成，因此为了清洗或者更换过滤器需要耗费大量的工作时间。另外，清洗或者更换过滤器时，相应的湿刻和清洗设备需要处于停机状态，降低了设备的利用率。而且，更换过滤器所需要的费用也非常客观。可见，要维持上述清洗设备或湿刻设备的正常生产需要较高的生产成本。
技术实现思路
本申请的目的是提供一种液体传输装置，可以实现阵列基板在清洗或刻蚀等制程工艺过程中液体传输的连续性，从而降低操作人员的疲劳强度。为解决上述技术问题，本申请采用的技术方案是：一种液体传输装置，用于传输液体，液体用于清洗或者刻蚀阵列基板，液体传输装置至少包括：第一支管路，设置有第一监测装置和第一阀门，第一监测装置用于监测所述第一支管路的流量；第二支管路，与第一支路并联设置，设置有第二阀门；第一阀门用于在第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，关闭第一支管路；第二阀门用于在第一阀门关闭时开启第二支管路，利用第二支管路传输液体。为解决上述技术问题，本申请采用的另一技术方案是：一种用于液体传输装置的传输方法，液体传输装置为如前所述的装置，在初始状态下，第一支管路传输液体，传输方法包括：通过第一监测装置监测第一支管路的流量；判断第一支管路的流量是否小于或等于预设的流量阈值；若是，通过第一阀门关闭所述第一支管路，通过第二阀门开启所述第二支管路，以使第二支管路传输所述液体。本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请提出一种液体传输装置及方法，液体传输装置包括第一支管路和第二支管路，第一支管路包括监测装置。通过在第一支管路中设置了监测装置，监测装置可以监测第一支管路的流量，在第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，通过第一阀门关闭第一支管路，通过第二阀门开启第二支管路，第二支管路继续传输液体，能够根据传输设备中的流量切换传输管路，从而保证制程的连续性，降低操作人员的疲劳强度。附图说明图1是本申请液体传输装置一实施例的结构示意图；图2是本申请液体传输装置又一实施例的结构示意图；图3是本申请液体传输装置的装置模块连接示意图；图4是本申请液体传输装置另一实施例的结构示意图；图5是本申请用于液体传输装置的传输方法的步骤流程示意图。具体实施方式下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。值得注意的是，本申请中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本申请，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。在半导体的制造工艺中，经常需要刻蚀去除部分金属材料、绝缘材料以及半导体材料，从而形成一定形状的图形。刻蚀设备通常分为湿法刻蚀设备和干法刻蚀设备。对于湿法刻蚀设备，经常需要使用各种刻蚀液。另外，在半导体制造工艺中，经常使用的设备还有清洗设备。为了保证各种刻蚀液和清洗液的洁净度，通常在刻蚀液和清洗液的供给系统中设置过滤器。过滤器的核心部件是过滤器的过滤芯，过滤器使用一段时间后，过滤芯内会沉积一定堵塞物，沉积的堵塞物过多时，会堵塞过滤器的网眼，导致液体在过滤前后的压力差增大，流速下降。为了保证刻蚀液和清洗液的正常流速，需要定时清洗过滤器或者更换过滤器。以刻蚀氧化硅的湿刻设备为例，过滤器一端连接一传输泵，传输泵连接湿刻设备的磷酸存储箱，过滤器的另一端连接一湿刻设备的磷酸的制程室。当上述设备中的磷酸经过一段时间刻蚀之后，磷酸刻蚀去除的氧化硅会逐渐聚集到过滤器的过滤芯内，将其堵塞，这时就需要更换过滤器，其更换频率通常为1个月1次。也就是说，每月都需要将刻蚀氧化硅的湿刻设备停下来，由专业的工作人员将所使用的磷酸过滤器全部更换。基于此，请参阅图1，图1是本申请提出的一种液体传输装置100的结构示意图。液体传输装置100包括第一支管路111、第二支管路112以及主管路110。其中，第一支管路111与第二支管路112并联设置，并与主管路110连通。具体地，第一支管路111中设有第一阀门1111，第二支路管112中设有第二阀门1121。第一阀门1111用于控制第一支管路111的关闭与导通，第二阀门1121用于控制第二支路管112的关闭与导通。第一阀门1111的数量为2，分别设置在第一支管路111的进口和出口附近；第二阀门1121的数量为2，分别设置在第二支管路111的进口和出口附近。在液晶面板制程过程中，根据图1中的箭头指示，制程所需的液体可以通过主管路110经过第一支管路111和第二支管路112中的任意一条液体传输。进一步，在本实施例中，第一支管路111可以为常用传输管道，第二支管路112可以为备用传输通道。液体传输装置100还包括第一监测装置1113，第一监测装置1113用于监测流经第一支管路111中液体的流量。当第一监测装置1113监测到流经第一支管路111中的液体的流量小于或等于预设的流量阈值时，说明第一支管路111中的一些零部件(例如过滤器)出现了问题，导致传输液体的能力下降。此时，为了不影响传输效率，第一支管路111中的第一阀门1111将会关闭，第二支管路112中的第二阀门1121将会打开，从而使得液体的传输过程不被打断。在第一支管路111切换成第二支管路112后，工作人员可以对第一支管路111中的零部件进行维修或更换。在第一支管路111的零部件被修复或更换以后，工作人员可以将液体的传输路径从备用传输管道第二支管路112切换回常用传输管道第一支管路111中，使得液体在第一支管路111中的零部件在维修和更换期间，不会被打断，从而保证了制程过程中液体传输的连续性，提高了制程效率。在本实施例中，监测装置1113可以为流量计或压力计，流量计可以通过监测单位时间内液体流经第一支管路111的体积来判断第一支管路111的传输能力；压力计可以通过监测当前液体流进第一支管路111产生的压力来判断第一支管路111的传输能力。具体地，监测装置1113设置在第一支管路111靠近液体流出的位置，可以直接监测第一支管路111中的零部件对液体流速的影响；如果设置在第一支管路111靠近液体流进的进口位置，此时的液体没有完全流进第一支管路111，流速较快，很可能出现测量误差。当然，在第二支管路112中也可以设置监测装置。第一支管路111在传输液体的初期，传输液体的能力较强，液体的流量较快，对第一支管路111产生的压力也较大。随着第一支管路111中的零部件老化或者到达使用寿命，第一支管路111的传输能力会大幅度下降，此时传输的液体流量就会降低，对第一支管路111产生的压力也会减弱。可选地，本实施例中的传输本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体传输装置，其特征在于，用于传输液体，所述液体用于清洗或者刻蚀阵列基板，所述液体传输装置至少包括：第一支管路，设置有第一监测装置和第一阀门，所述第一监测装置用于监测所述第一支管路的流量；第二支管路，与所述第一支路并联设置，设置有第二阀门；所述第一阀门用于在所述第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，关闭所述第一支管路；所述第二阀门用于在所述第一阀门关闭时开启所述第二支管路，利用所述第二支管路传输所述液体。

【技术特征摘要】
1.一种液体传输装置，其特征在于，用于传输液体，所述液体用于清洗或者刻蚀阵列基板，所述液体传输装置至少包括：第一支管路，设置有第一监测装置和第一阀门，所述第一监测装置用于监测所述第一支管路的流量；第二支管路，与所述第一支路并联设置，设置有第二阀门；所述第一阀门用于在所述第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，关闭所述第一支管路；所述第二阀门用于在所述第一阀门关闭时开启所述第二支管路，利用所述第二支管路传输所述液体。2.根据权利要求1所述的液体传输装置，其特征在于，所述液体传输装置还包括控制器，所述控制器与所述第一监测装置、所述第一阀门和所述第二阀门连接，所述控制器用于在所述第一支管路的流量小于或等于预设的流量阈值时，控制所述第一阀门开启同时控制所述第二阀门关闭。3.根据权利要求2所述的液体传输装置，其特征在于，所述第二支管路设有第二监测装置，所述第二监测装置与所述控制器连接，所述第二监测装置用于监测所述第二支管路的流量；所述控制器用于在所述第二支管路的流量小于所述流量阈值时，控制所述第一阀门开启所述第一支管路，并控制所述第二阀门关闭所述第二支管路，利用所述第一支管路传输所述液体。4.根据权利要求3所述的液体传输装置，其特征在于，所述第一支管路进一步包括第一过滤器，所述第二支管路进一步包括第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器用于对所述液体进行过滤。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：何军，李涛，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42