The present invention relates to a coating substrate with a hard material coating comprising a hard carbon layer and a hydrogen-free amorphous carbon layer, in which the coating comprises a zirconium layer between the substrate and the hydrogen-free amorphous carbon layer, and in which a zirconium layer can be formed between the zirconium layer and the hydrogen-free amorphous carbon layer. A layer consisting of Zr Cx forms zirconium carbide in a layer consisting of Zr Cx, in which a layer consisting of Zr Cx and containing zirconium carbide is directly applied to an attachment layer consisting of zirconium.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有锆附着层的无氢碳涂层
本专利技术涉及具有锆附着层的无氢碳涂层，用于基材表面、尤其用于针对摩擦学应用的工具表面或构件表面，其中，该碳涂层可能包含具有无氢无定形碳结构的硬碳层(视C-Csp3键含量而定，被称为a-C或ta-C)和其它元素，并且属于类金刚石(DLC)层系，并且该锆附着层由锆构成；其中，该锆附着层被如此施加在基材表面和硬碳层之间，即在碳层碳原子和锆层锆原子之间形成原子键。在本专利技术的上下文中，“锆”是指元素符号为Zr的化学元素。以下为简化起见，将Zr1-xCx简称为Zr-Cx。其中X表示原子百分比at％，且下列等式适用：0at％≤X≤50at％以及Zr(at％)+C(at％)＝100at％，不考虑杂质。在X＝0at％情况下，该附着层是纯锆层。但优选0at％≤X≤50at％的范围。本专利技术意义上的碳层是指下述层，其具有可借助体积测量证明的无定形状态下的碳基体，其可以借助拉曼光谱法或其它合适的测量方法来证明。该锆层用于在基材与无氢碳层之间“增附”。因加工过程原因，在无氢层碳原子和锆层原子之间形成原子键。在一定的加工过程条件下，根据加工温度和所出现的...
【技术保护点】
1.一种在基材表面上的碳涂层，其中，该涂层包含硬的碳层和锆附着层，并且其中，该碳层具有坚硬的无氢无定形碳结构，该锆附着层由锆构成；该锆附着层施加在所述基材表面和所述硬的碳层之间；并且在所述锆附着层和所述硬的碳层之间形成Zr‑Cx层，该Zr‑Cx层包含在该硬的碳层的碳原子与该锆附着层的锆原子之间的原子键并且具有在2个原子层至500纳米之间的层厚。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.01 US 62/301,6561.一种在基材表面上的碳涂层，其中，该涂层包含硬的碳层和锆附着层，并且其中，该碳层具有坚硬的无氢无定形碳结构，该锆附着层由锆构成；该锆附着层施加在所述基材表面和所述硬的碳层之间；并且在所述锆附着层和所述硬的碳层之间形成Zr-Cx层，该Zr-Cx层包含在该硬的碳层的碳原子与该锆附着层的锆原子之间的原子键并且具有在2个原子层至500纳米之间的层厚。2.根据权利要求1的层系，其特征是，在所述基材与所述锆附着层之间沉积支承层。3.根据权利要求2的层系，其特征是，所述支承层由含有以下组中的至少一种元素的氮化物和/或碳化物和/或氧化物构成，该组由元素周期表的第三、第四、第五或第六族以及Al、Si、B和镧系元素族构成。4.根据前述权利要求之一的碳涂层，其特征是，该Zr-Cx层的层厚为2个原子层至30纳米。5.根据前述权利要求之一的碳涂层，其特征是，该Zr-Cx层包含一碳化锆并且具有在5至500纳米之间的层厚。6.根据前述权利要求之一的碳涂层，其特征是，该无氢无定形碳层包含a-C层或ta-C层或者由a-C层和/或ta-C层构成。7.根据权利要求1至5之一的碳涂层，其特征是，该无氢无定形碳层包含a-C:Me层或ta-C:Me层和/或由a-C:Me层或ta-C:Me层构成，其中，Me是金属元素或金属元素组合。8.根据权利要求1至5之...
【专利技术属性】
技术研发人员：约格·韦特，
申请(专利权)人：欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH
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