一种2．75D手机盖板抛光工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种2.75D手机盖板抛光工艺，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品；本发明专利技术中，所提出的2.75D手机盖板抛光工艺，由于凸面底座的吸附面与2.75D盖板的凹面相吻合，凹面底座的吸附面与2.75D盖板的凸面相吻合，从而避免抛光过程中因磨皮毛刷压力过大造成2.75D盖板破损；凸面底座和凹面底座的吸附面上覆盖有抛光皮，磨皮毛刷与抛光皮摩擦接触，磨皮毛刷与抛光皮磨损速度相对于磨皮毛刷与抛光底座直接接触较慢，因而单个抛光底座的使用寿命更长，节省了抛光成本。

A Polishing Process for 2.75D Mobile Phone Cover

The invention discloses a polishing process for 2.75D mobile phone cover plate, which comprises the following steps: S1 and 2D cover plates are hot bended in graphite mould to form the first semi-finished product, the first semi-finished product is 2.75D shape; S2 and the first semi-finished product are adsorbed on the convex base for convex surface polishing to form the second semi-finished product; S3 and the second semi-finished product are formed. In the present invention, the polishing process of 2.75D mobile phone cover plate is proposed, because the adsorption surface of the convex base coincides with the concave surface of the 2.75D cover plate, and the adsorption surface of the concave base coincides with the convex surface of the 2.75D cover plate, thus avoiding the abrasion of the skin in the polishing process. Excessive brush pressure causes 2.75D cover plate damage; the adsorption surfaces of convex base and concave base are covered with polishing skin, which rubs in contact with polishing skin, and the wear speed of polishing brush and polishing skin is slower than that of polishing brush and polishing base, so the service life of single polishing base is longer and polishing is saved. Cost.

【技术实现步骤摘要】
一种2.75D手机盖板抛光工艺
本专利技术涉及抛光工艺
，尤其涉及一种2.75D手机盖板抛光工艺。
技术介绍
随着人们对智能终端产品的外观审美以及性能要求的提升，相关产品屏幕和后盖也从平面触屏逐渐向2.5D曲面、2.75D曲面和3D曲面过渡，2.75D玻璃具有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤等优势，能够增加弧形边缘外控功能，带来别致的触控手感，但是2.75D玻璃制造工艺难度较大，目前2.75D玻璃制造，工艺上最大的难度在于玻璃抛光工序，最大的瓶颈是抛光工序的产能不足。2.75D玻璃放吸附在普通底座上进行抛光时，由于2.75D玻璃是大曲面构成，抛光过程中很有可能因压力过大导致玻璃被压碎，并且现有的抛光底座多是电木底座，磨皮毛刷可以接触到电木底座，导致抛光底座消耗磨损快，磨皮毛刷也磨损快。
技术实现思路
为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本专利技术提出一种2.75D手机盖板抛光工艺。本专利技术提出的一种2.75D手机盖板抛光工艺，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品。优选地，S2步骤进行5-15分钟。优选地，S3步骤进行10-20分钟。优选地，所述凸面底座的吸附面与第一半成品凹面相吻合。优选地，所述凹面底座的吸附面与第二半成品凸面相吻合。优选地，所述凸面底座的吸附面覆盖有抛光皮。优选地，所述凹面底座的吸附面覆盖有抛光皮。优选地，还包括S4；S4、对所述2.75D盖板成品进行超声波清洗。本专利技术中，所提出的2.75D手机盖板抛光工艺，2.75D手机盖板分别在凸面底座和凹面底座上进行抛光，由于凸面底座的吸附面与2.75D盖板的凹面相吻合，凹面底座的吸附面与2.75D盖板的凸面相吻合，进而避免抛光过程中因磨皮毛刷压力过大造成2.75D盖板破损，同时，凸面底座的吸附面上覆盖有抛光皮，凹面底座的吸附面上覆盖有抛光皮，由于磨皮毛刷与抛光皮材质相同，磨皮毛刷与抛光皮摩擦接触，磨皮毛刷与抛光皮磨损速度相对于磨皮毛刷与抛光底座直接接触较慢，因而单个抛光底座的使用寿命更长，节省了抛光成本。附图说明图1为本专利技术提出的一种2.75D手机盖板抛光工艺的流程图。具体实施方式如图1所示，图1为本专利技术提出的一种2.75D手机盖板抛光工艺的结构示意图。参照图1，本专利技术提出的一种2.75D手机盖板抛光工艺，包括下列步骤：S1、原材料通过CNC加工得到最原始的2D盖板外形，2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品，所述凸面底座的吸附面与第一半成品凹面相吻合；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品，所述凹面底座的吸附面与第二半成品凸面相吻合。现有技术中，为了防止磨皮毛刷压力过大造成2.75D手机盖板破损，在进行2.75D手机盖板凸面抛光时，磨皮毛刷对2.75D手机盖板压力一般较小，压力较小则会导致抛光时间较长，现有技术中的凸面抛光时间一般为10-30分钟；而本实施例中，由于凸面底座的吸附面与第一半成品凹面相吻合，磨皮毛刷对2.75D手机盖板压力可以施加的更大，压力较大则会导致抛光时间较短，本实施例中，S2步骤进行5-15分钟，因此抛光效率得到了提高。现有技术中，为了防止磨皮毛刷压力过大造成2.75D手机盖板破损，在进行2.75D手机盖板凹面抛光时，磨皮毛刷对2.75D手机盖板压力一般较小，压力较小则会导致抛光时间较长，现有技术中的凹面抛光时间一般为20-40分钟；而本实施例中，由于凹面底座的吸附面与第一半成品凸面相吻合，磨皮毛刷对2.75D手机盖板压力可以施加的更大，压力较大则会导致抛光时间较短，本实施例中，S2步骤进行10-20分钟，因此抛光效率得到了提高。为了提高凸面底座和凹面底座的使用寿命，所述凸面底座的吸附面粘贴有抛光皮，所述凹面底座的吸附面粘贴有抛光皮，避免磨皮毛刷与凸面底座和凹面底座直接接触，进而避免磨皮毛刷对凸面底座和凹面底座造成磨损；抛光皮的材质与磨皮毛刷材质相同。本实施例中，还包括S4；S4、对所述2.75D盖板成品进行超声波清洗，将2.75D盖板成品上的抛光液、抛光粉等杂质清洗掉。本实施例紫中，所述凸面底座采用激光切割形成，所述凹面底座采用激光切割形成，现有技术中的电木底座采用CNC加工得到，相对于CNC加工，激光切割效率更高。以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品。

【技术特征摘要】
1.一种2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品。2.根据权利要求1所述的2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，S2步骤进行5-15分钟。3.根据权利要求1所述的2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，S3步骤进行10-20分钟。4.根据权利要求1所述的2.75D...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴建勇，向中华，
申请(专利权)人：安徽金龙浩光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34