一种2．75D手机盖板抛光工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种2.75D手机盖板抛光工艺，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品；本发明专利技术中，所提出的2.75D手机盖板抛光工艺，由于凸面底座的吸附面与2.75D盖板的凹面相吻合，凹面底座的吸附面与2.75D盖板的凸面相吻合，从而避免抛光过程中因磨皮毛刷压力过大造成2.75D盖板破损；凸面底座和凹面底座的吸附面上覆盖有抛光皮，磨皮毛刷与抛光皮摩擦接触，磨皮毛刷与抛光皮磨损速度相对于磨皮毛刷与抛光底座直接接触较慢，因而单个抛光底座的使用寿命更长，节省了抛光成本。

A Polishing Process for 2.75D Mobile Phone Cover

The invention discloses a polishing process for 2.75D mobile phone cover plate, which comprises the following steps: S1 and 2D cover plates are hot bended in graphite mould to form the first semi-finished product, the first semi-finished product is 2.75D shape; S2 and the first semi-finished product are adsorbed on the convex base for convex surface polishing to form the second semi-finished product; S3 and the second semi-finished product are formed. In the present invention, the polishing process of 2.75D mobile phone cover plate is proposed, because the adsorption surface of the convex base coincides with the concave surface of the 2.75D cover plate, and the adsorption surface of the concave base coincides with the convex surface of the 2.75D cover plate, thus avoiding the abrasion of the skin in the polishing process. Excessive brush pressure causes 2.75D cover plate damage; the adsorption surfaces of convex base and concave base are covered with polishing skin, which rubs in contact with polishing skin, and the wear speed of polishing brush and polishing skin is slower than that of polishing brush and polishing base, so the service life of single polishing base is longer and polishing is saved. Cost.

【技术实现步骤摘要】
一种2.75D手机盖板抛光工艺
本专利技术涉及抛光工艺
，尤其涉及一种2.75D手机盖板抛光工艺。
技术介绍
随着人们对智能终端产品的外观审美以及性能要求的提升，相关产品屏幕和后盖也从平面触屏逐渐向2.5D曲面、2.75D曲面和3D曲面过渡，2.75D玻璃具有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤等优势，能够增加弧形边缘外控功能，带来别致的触控手感，但是2.75D玻璃制造工艺难度较大，目前2.75D玻璃制造，工艺上最大的难度在于玻璃抛光工序，最大的瓶颈是抛光工序的产能不足。2.75D玻璃放吸附在普通底座上进行抛光时，由于2.75D玻璃是大曲面构成，抛光过程中很有可能因压力过大导致玻璃被压碎，并且现有的抛光底座多是电木底座，磨皮毛刷可以接触到电木底座，导致抛光底座消耗磨损快，磨皮毛刷也磨损快。
技术实现思路
为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本专利技术提出一种2.75D手机盖板抛光工艺。本专利技术提出的一种2.75D手机盖板抛光工艺，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品。

【技术特征摘要】
1.一种2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，包括下列步骤：S1、2D盖板在石墨模具中热弯成型形成第一半成品，第一半成品为2.75D形状；S2、所述第一半成品吸附在凸面底座上进行凸面抛光，形成第二半成品；S3、所述第二半成品吸附在凹面底座上进行凹面抛光，得到2.75D手机盖板成品。2.根据权利要求1所述的2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，S2步骤进行5-15分钟。3.根据权利要求1所述的2.75D手机盖板抛光工艺，其特征在于，S3步骤进行10-20分钟。4.根据权利要求1所述的2.75D...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴建勇，向中华，
申请(专利权)人：安徽金龙浩光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34