一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置，属于指纹识别技术领域，其可解决现有的多层套孔的对位精度较低，其错位导致多次刻蚀得到的套孔结构无法形成正常的光通路的问题。本发明专利技术的感光套孔的制备方法中，限定部件以基础遮光层为掩膜版形成，叠加遮光层依托限定部件为边界形成，因此可以确保后续形成的叠加遮光层均与基础遮光层对齐，不会产生错位，使得第二开口与第一开口重合得到的感光套孔可以形成正常的光通路。该方法制备的感光套孔用于指纹识别装置中后可以进行正常的指纹识别。

A photosensitive sleeve structure, its preparation method and fingerprint identification device

The invention provides a photosensitive sleeve structure, a preparation method and a fingerprint identification device, belonging to the field of fingerprint identification technology, which can solve the problem that the existing multi-layer sleeve has low alignment accuracy, and its misalignment results in that the sleeve structure obtained by multiple etchings can not form a normal optical path. In the preparation method of the light-sensitive sleeve hole of the present invention, the limiting part is formed with the base shading layer as the mask plate, and the superimposed shading layer is formed with the boundary of the limiting part, so that the superimposed shading layer formed subsequently can be aligned with the base shading layer without dislocation, so that the second opening and the first opening coincide to form a sense. Optical sleeve holes can form normal optical pathways. The photosensitive sleeve prepared by this method can be used in fingerprint identification device for normal fingerprint identification.

【技术实现步骤摘要】
一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置
本专利技术属于指纹识别
，具体涉及一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置。
技术介绍
指纹是人体与生俱来的可与他人相区别的特征，它由指端皮肤表面上的一系列脊和谷组成，这些脊和谷形成的图案决定了指纹的唯一性。随着显示技术的飞速发展，具有指纹识别功能的显示面板已经逐渐遍及人们的生活中。如图1所示，在显示面板的触摸基板11下的至少部分区域贴合指纹识别部件。指纹识别部件包括多个传感器12，工作时，不同的传感器12接收由用户的指纹13的谷和脊反射的光线，再对其扫描分析，从而识别谷和脊形成的指纹图案。进行指纹识别时，为防止传感器12接收到较远位置的指纹信息，导致传感器12接收的信息混乱或相互干扰，一般会在触摸基板11与传感器12之间增加光学结构层14，以去除杂散光，实现指纹精确识别。光学结构层14可以是由遮光材料构成的具有多个通孔的遮光层15，由于目前的刻蚀工艺无法直接将遮光材料的通孔做到指定的深度，因此一般选择多层较薄的遮光层15组合形成多层套孔16的方案。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：如图2所示，在多层套孔16的生产过程中需要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光套孔的制备方法，其特征在于，包括在基底的第一面上形成具有第一开口的基础遮光层的步骤，以及在基础遮光层背离所述基底的一侧形成至少一层具有第二开口的叠加遮光层的步骤；所述第二开口至基底上的正投影与第一开口至基底上的正投影重合并形成感光套孔；其中，形成所述具有第二开口的叠加遮光层的步骤包括：在基础遮光层背离所述基底的一侧形成透光的限定层；以基础遮光层为掩膜版将所述限定层图案化得到多个限定部件；以所述限定部件为界限形成叠加遮光层，所述叠加遮光层具有被限定部件填充的第二开口。

【技术特征摘要】
1.一种感光套孔的制备方法，其特征在于，包括在基底的第一面上形成具有第一开口的基础遮光层的步骤，以及在基础遮光层背离所述基底的一侧形成至少一层具有第二开口的叠加遮光层的步骤；所述第二开口至基底上的正投影与第一开口至基底上的正投影重合并形成感光套孔；其中，形成所述具有第二开口的叠加遮光层的步骤包括：在基础遮光层背离所述基底的一侧形成透光的限定层；以基础遮光层为掩膜版将所述限定层图案化得到多个限定部件；以所述限定部件为界限形成叠加遮光层，所述叠加遮光层具有被限定部件填充的第二开口。2.根据权利要求1所述的感光套孔的制备方法，其特征在于，所述以基础遮光层为掩膜版将所述限定层图案化得到多个限定部件是从基底的第二面进行曝光以将所述限定层图案化得到多个限定部件。3.根据权利要求1所述的感光套孔的制备方法，其特征在于，所述方法包括形成多层具有第二开口的叠加遮光层的步骤，且在形成相邻两层具有第二开口的叠加遮光层的步骤之间还包括形成透光的聚酰亚胺层的步骤。4.根据权利要求1所述的感光套孔结构的制备方法，其特征在于，在所述形成具有多一开口的基础遮光层的步骤与所述形成具有第二开口的叠加遮光层的步骤之间还包括形成透光的聚酰亚胺层的步骤。5.根据权利要求1所述的感光套孔结构的制备方法，其特征在于，在基底的第一面上形成具有多一开口的基...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳阳，舒适，徐传祥，卢江楠，黄海涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11