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本发明提供一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置，属于指纹识别技术领域，其可解决现有的多层套孔的对位精度较低，其错位导致多次刻蚀得到的套孔结构无法形成正常的光通路的问题。本发明的感光套孔的制备方法中，限定部件以基础遮光层为掩膜版形成，叠...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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