【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜辊冷镀装置
本专利技术属于真空镀膜
，具体涉及到一种镀膜冷却装置，更具体的是一种真空镀膜辊冷镀装置。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜辊冷镀装置，包括副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)、蒸发源(11)、承载舟(12)、真空箱(13)，其特征在于：所述副镀膜辊(4)最下端与所述主镀膜辊(5)最下端平行，副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)安装在真空箱(13)内部靠下位置；所述蒸发源(11)设置在副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)下方，蒸发源(11)设置在副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)中间；所述承载舟(12)设置在蒸发源(11)下方；所述蒸发源(11)与所述承载舟(12)安装在真空箱(13)内部最底端。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜辊冷镀装置，包括副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)、蒸发源(11)、承载舟(12)、真空箱(13)，其特征在于：所述副镀膜辊(4)最下端与所述主镀膜辊(5)最下端平行，副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)安装在真空箱(13)内部靠下位置；所述蒸发源(11)设置在副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)下方，蒸发源(11)设置在副镀膜辊(4)、主镀膜辊(5)中间；所述承载舟(12)设置在蒸发源(11)下方；所述蒸发源(11)与所述承载舟(12)安装在真空箱(13)内部最底端。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜辊冷镀装置，其特征在于，所述副镀膜辊(4)包括副镀膜辊空腔(41)、副镀膜辊注入口(42)、副镀膜辊塞(43)、副镀膜辊驱动轴(44)；所述副镀膜辊空腔(41)设置在副镀膜辊(4)最外侧圆周内；所述副镀膜辊空腔(41)一端设置有副镀膜辊注入口(42)；所述副镀膜辊塞(43)安装在副镀膜辊注入口(42)上；所述副镀膜辊驱动轴(44)设置在副镀膜辊(4)两端外侧中心线位置，副镀膜辊驱动轴(44)安装在真空箱(13)的两侧。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜辊冷镀装置，其特征在于，所述主镀膜辊(5)包括主镀膜辊空腔(51)、主镀膜辊注入口(52)、主镀膜辊塞(53)、主镀膜辊减载腔(54)、主镀膜辊驱动轴(55)；所述主镀膜辊空腔(51)设置在主镀膜辊(5)最外侧圆周内；所述主镀膜辊注入口(52)设置在主镀膜辊空腔一端；所述主镀膜辊塞(53)安装在主镀膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：窦发军，
申请(专利权)人：安徽省通达包装材料有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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