一种平面石板打磨抛光加工控制方法技术

本发明专利技术提供了一种平面石板打磨抛光加工控制方法，包括如下步骤：A1.接收信号：从外部接收指令，指令包括石板尺寸、石板位置和启动时间；A2.计算方案：取出石板尺寸中的长度值，并根据石板位置计算在前后向的石板覆盖段，再根据磨盘覆盖长度计算需要进行打磨抛光的次数、起始点位置和终止点位置；A3.遍历步骤；A4.单步操作；A5.结束归位。本发明专利技术通过确定让磨盘沿纵向往复，每次往复均恰好有一横向上的位移的控制方式，从而能确保打磨抛光的耗费代价最小化。

【技术实现步骤摘要】
一种平面石板打磨抛光加工控制方法
本专利技术涉及一种平面石板打磨抛光加工控制方法。
技术介绍
如大理石面板等石材在加工时需要打磨、抛光，其中至少需要粗磨、细磨、抛光，有时候因工艺需求则需要粗磨、细磨、精磨、抛光，操作过程相似，差别主要在于采用的磨石不同，现有技术中采用的一般方法均为更换磨石，但如此一来，每一完整加工过程中都会有大量时间和能源消耗在更换磨石上。为尽量避免更换磨石的过程，本公司设计了如图3所示的一种平面石板打磨抛光加工系统(已另外申请专利)，然而具体操作方式多样，现有技术中并没有提供明确方式能以尽量小的代价(包括计算代价和材料磨损代价)顺畅完成打磨抛光。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种平面石板打磨抛光加工控制方法，该平面石板打磨抛光加工控制方法通过确定让磨盘沿纵向往复，每次往复均恰好有一横向上的位移的控制方式，从而能确保打磨抛光的耗费代价最小化。本专利技术通过以下技术方案得以实现。本专利技术提供的一种平面石板打磨抛光加工控制方法，包括如下步骤：A1.接收信号：从外部接收指令，指令包括石板尺寸、石板位置和启动时间；A2.计算方案：取出石板尺寸中的长度值，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平面石板打磨抛光加工控制方法，其特征在于：包括如下步骤：A1.接收信号：从外部接收指令，指令包括石板尺寸、石板位置和启动时间；A2.计算方案：取出石板尺寸中的长度值，并根据石板位置计算在前后向的石板覆盖段，再根据磨盘覆盖长度计算需要进行打磨抛光的次数、起始点位置和终止点位置；A3.遍历步骤：根据需要进行打磨抛光的次数调用步骤A4，每两次需要进行打磨抛光的次数调用一次步骤A4，直到步骤A4调用遍历完成即为步骤完成，则进入至步骤A5，首次调用步骤A4时传入起始点位置；A4.单步操作：根据历史记录计算得到实际位置，并调整实际位置至预定位置，然后启动行进打磨，行进打磨完毕后执行转向，然后横移一...

【技术特征摘要】
1.一种平面石板打磨抛光加工控制方法，其特征在于：包括如下步骤：A1.接收信号：从外部接收指令，指令包括石板尺寸、石板位置和启动时间；A2.计算方案：取出石板尺寸中的长度值，并根据石板位置计算在前后向的石板覆盖段，再根据磨盘覆盖长度计算需要进行打磨抛光的次数、起始点位置和终止点位置；A3.遍历步骤：根据需要进行打磨抛光的次数调用步骤A4，每两次需要进行打磨抛光的次数调用一次步骤A4，直到步骤A4调用遍历完成即为步骤完成，则进入至步骤A5，首次调用步骤A4时传入起始点位置；A4.单步操作：根据历史记录计算得到实际位置，并调整实际位置至预定位置，然后启动行进打磨，行进打磨完毕后执行转向，然后横移一个长度单位，然后再次启动行进打磨，直至行进打磨完毕后退出该步骤；A5.结束归位：进行反向横移，每调用过一次步骤A4则横移回退两个长度单位，横移结束则发送结束信号。2.如权利要求1所述的平面石板打磨抛光加工控制方法，其特征在于：所述步骤A4具体为：B1.确定位置：根据横移的历史操作记录计算磨盘在横移方向上的位置，如位置不符合要求则横移至预定位置，并将横移的长度...

【专利技术属性】
技术研发人员：王德勇，
申请(专利权)人：安顺市杰勇石业有限公司，
类型：发明
国别省市：贵州,52