一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，抛光装置包括有一滑动底座和横向驱动机构，滑动底座滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座，滑动底座的上部旋转安装有一摆臂，摆臂安装有能够替换使用的抛光带，摆臂安装有抛光电机，抛光电机传动连接抛光带，以实现抛光带循环移动，使用具有横向调节功能的抛光装置，实现长度较长的旋转靶材的整管抛光；利用抛光电机驱动可替换使用的抛光带发生循环移动，以对旋转靶材的靶材表面进行均匀且精度高的抛光打磨。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备
本技术涉及旋转靶的加工设备的
，尤其是涉及一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备。
技术介绍
旋转靶材的靶材表面粗糙度对磁控溅射的成膜速度和均匀性影响很大，目前，一般通过工人手工抛光旋转靶材的靶材表面，存在着劳动强度大，抛光不均匀，抛光精度低，抛光效率低的问题，尤其缺乏针对长度较长的旋转靶材的精密抛光设备，因此有必要予以改进。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的是提供一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，实现全自动抛光旋转靶材，抛光精度高，生产效率高。为了实现上述目的，本技术所采用的技术方案是，使用具有横向调节功能的抛光装置，实现长度较长的旋转靶材的整管抛光；利用抛光电机驱动可替换使用的抛光带发生循环移动，以对旋转靶材的靶材表面进行均匀且精度高的抛光打磨。一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、用于装夹旋转靶的装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，抛光装置包括有一滑动底座和横向驱动机构，滑动底座滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座，滑动底座的上部旋转安装有一摆臂，摆臂安装有能够替换使用的抛光带，摆臂安装有抛光电机，抛光电机本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、用于装夹旋转靶的装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，其特征在于：抛光装置包括有一滑动底座(2)和横向驱动机构，滑动底座(2)滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座(2)，滑动底座(2)的上部旋转安装有一摆臂(1)，摆臂(1)安装有能够替换使用的抛光带(11)，摆臂(1)安装有抛光电机(13)，抛光电机(13)传动连接抛光带(11)，以实现抛光带(11)循环移动。

【技术特征摘要】
1.一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、用于装夹旋转靶的装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，其特征在于：抛光装置包括有一滑动底座(2)和横向驱动机构，滑动底座(2)滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座(2)，滑动底座(2)的上部旋转安装有一摆臂(1)，摆臂(1)安装有能够替换使用的抛光带(11)，摆臂(1)安装有抛光电机(13)，抛光电机(13)传动连接抛光带(11)，以实现抛光带(11)循环移动。2.根据权利要求1所述的一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，其特征在于：所述摆臂(1)安装有若干传动轮(12)，所述抛光带(11)紧套于各传动轮(12)的外缘，形成抛光段，所述抛光电机(13)传动连接于传动轮(12)，用于驱动传动轮(12)转动以带动抛光带(11)循环移动。3.根据权利要求2所述的一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，其特征在于：所述滑动底座(2)的上部固定有一支柱(21)，所述摆臂(1)的中部枢接于支柱(21)的中部或上部，摆臂(1)的第一端固定有所述抛光电机(13)，摆臂(1)的第二端设置有配重装置，配重装置放置有至少一配重砝码(14)。4.根据权利要求3所述的一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，其特征在于：所述滑动底座(2)包括抛光小车，抛光小车的底部旋转安装有若干导轮，所述机架的上部设置有横向导轨(3)，横向导轨(3)前端和后端分别延伸至机架的两端，导轮滑动安装于横向导轨(3)；所述横向驱动机构包括行走调节电机(310)和行走变速器(31)，行...

【专利技术属性】
技术研发人员：伍温良，
申请(专利权)人：东莞市欧莱溅射靶材有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44