薄微晶柔光砖的制备方法及薄微晶柔光砖技术

本申请提供一种薄微晶柔光砖的制备方法及薄微晶柔光砖。一种薄微晶柔光砖的制备方法，包括以下步骤：坯体成型；向成型坯体的表面施加底釉，然后在底釉上喷墨印花，150℃的条件下干燥后，再在喷墨印花的一面空网印一层保护釉；在保护釉的表面喷一层透明釉，然后透明釉的表面布一层透明细熔块，得到第一坯砖；向第一坯砖喷保护胶水，得到第二坯砖；把第二坯砖经高温烧制获得半成品；使用抛光线进行打超洁亮得到薄微晶柔光砖。一种薄微晶柔光砖，用所述的制备方法制得，薄微晶柔光砖的光泽度为25－35度。本申请提供的薄微晶柔光砖的制备方法制得的薄微晶柔光砖，质感更好，更接近天然大理石，光泽柔和。

【技术实现步骤摘要】
薄微晶柔光砖的制备方法及薄微晶柔光砖
本专利技术涉及化学领域，具体而言，涉及一种薄微晶柔光砖的制备方法及薄微晶柔光砖。
技术介绍
随着生活水平的提高，消费者对建筑装饰材料的要求越来越来高，不仅仅是实用，对环保，美观、高科技人性化装饰材料的需求越来越多，有力促进了建筑陶瓷和建筑装饰材料行业的快速发展，陶瓷砖体为常见的装饰材料，砖体的外观质感和通透性直接影响了建筑房屋的装饰效果，同时砖体还必须具备较好的耐磨特性。天然大理石、玉石等名贵石材材料具有较好的视觉效果，成为豪华装修的首选。然而，天然大理石、玉石材料的稀缺以及开采对于环境的破坏，使其难以推广。陶瓷砖体中的薄微晶砖体是一种将微晶玻璃复合在陶瓷砖表面的新型复合材料。砖体表面设置有微晶玻璃层，具有更好的防污效果和光泽，同时避免了天然石材的放射性危害，是装饰用的理想绿色建材。现有的微晶砖体微晶层厚度大，反光严重，直接影响了砖体的装饰效果以及实用性，难以实现色泽晶莹通透具有自然玉石的装饰效果。有鉴于此，特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供的制备方法及薄微晶柔光砖，所述方法制得的薄微晶柔光砖具有结构强度好、色泽晶莹通透具有自然玉石的装饰效果等优点。为了实现本专利技术的上述目的，特采用以下技术方案：一种薄微晶柔光砖的制备方法，包括以下步骤：A.坯体成型；在3000-10000吨压力下压制成型，经1h在50-250℃下干燥，得到成型坯体；B.向成型坯体的表面施加底釉，然后在所述底釉上喷墨印花，150℃的条件下干燥1-2min后，再在喷墨印花的一面用140目的空网印一层保护釉；在所述保护釉的表面喷一层透明釉，然后所述透明釉的表面用瀑布式布料方式布一层透明细熔块，得到第一坯砖，所述透明细熔块的粒度为20-140目；向所述第一坯砖设置有所述透明细熔块的一面喷保护胶水，然后在150－250℃干燥1min，得到第二坯砖；C.把所述第二坯砖经1170-1240℃高温烧制70-75mim获得半成品；D.所述半成品使用由弹性模块、哑光磨块、研磨刷和纤维刷依次组成的抛光线，进行打超洁亮得到薄微晶柔光砖。坯体在3000-10000吨压机压力下压制成型，可以使其材料更加致密，内部应力充分释放，坯体的结构强度大大加强，稳定性也大大提高，后续高温烧制过程中可以有效减少变形产生的次品；印保护釉的目的是为了保护喷墨印花的图案不受下一工序的影响；喷透明釉的目的是在烧成过程中，坯体中的气体在透明釉还没有熔融时，坯体中大部分气体会被排出来，当透明釉熔融时可以防止坯体上的小气体排出，从而使烧成出来的半成品表面没有小毛孔；喷保护胶水是为了把透明细熔块粘在一起，在窑炉烧成中不容易松动或吹走；干燥的目的是把甲基胶水中的水分烘干，使其更好的发挥对透明细熔块的保护作用；使用特殊的抛光线对半成品进行抛光并打超洁亮，可以使得表面获得天然大理石或者天然玉石的光泽。优选地，所述底釉以质量百分比计包括：SiO240-55％、Al2O310-15％、CaO8-10％、MgO5-8％、ZnO10-15％、K2O4-6％、Na2O1-3％、ZrO21-3％、Sb2O31-3％。底釉中ZrO2和Sb2O3的使用，可以改善各组分之间相互作用，减少底釉层的裂纹和气泡，且ZrO2还可以使底釉的白度得以提高，使下一步喷墨印花的图案发色更好。进一步优选地，所述底釉的流速为7-8g/s，比重为1.4-1.6g/ml，施加量为730-750g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4％-0.6％。控制上述参数，可以保证底釉施加过程平稳进行，保证工艺质量和效果。优选地，所述保护釉包括透明釉料和印膏，其质量比为2-4:1；所述透明釉料按质量百分比计包括透明釉粉60-65％、羧甲基纤维素钠0.2-0.5％、三聚磷酸钠0.2-0.4％、氯化铝0.3-1％、硫酸铝0.3-1％、十二水合硫酸铝钾0.3-1％和水32-38％。透明釉料中加入氯化铝、硫酸铝和十二水合硫酸铝钾，可以有效的提高釉料的透明度和流动性、均匀性。更加优选地，所述保护釉经过球磨10-12小时，比重1.5-2.0g/ml,流速为4.5-5.0g/s，其细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.5％。控制保护釉的上述参数，可以保证上保护釉的效果。进一步优选地，所述透明釉由所述透明釉料制得，比重为1.2-1.5g/ml，施加量为310-320g/m2。控制透明釉的参数，可以使得透明釉更好的进行控制气泡的排出，进一步减少半成品表面的小毛孔。优选地，所述透明细熔块按质量百分比计包括：Al2O35-15％、SiO255-65％、CaO10-18％、K2O5-10％、MgO5-12％、BaO4-10％、ZnO2-5％、Lu2O30.1-0.5％；所述透明细熔块的施加量为2328g/m2，施加厚度为0.8-1.2mm。透明细熔块中加入少量的Lu2O3，可以更好的改善成品砖的表面光泽，使得其装饰效果与天然大理石或玉石更加接近。优选地，所述保护胶水为甲基纤维素用乙醇、乙二醇预先分散或湿润，然后加水溶解制成的有粘性的胶水；所述保护胶水的流速为4.0-4.5g/s，施加量为390-400g/m2。对保护胶水的选择和参数控制，是为了更好的保护透明细熔块的烧制，获得更佳的装饰性能。优选地，所述抛光线依次顺序为弹性模块：120目3组，150目5组，180目4组，240目4组，320目4组，400目3组，500目3组；哑光磨块7组；研磨刷7组；纤维刷16组；所述弹性模块、所述哑光磨块、所述研磨刷、所述纤维刷每组均有6-8个小磨块组成。使用上述抛光线，可以获得更好的抛光效果。本申请还提供一种薄微晶柔光砖，用所述的制备方法制得，所述薄微晶柔光砖的光泽度为25－35度。通过上述方法，控制薄微晶柔光砖的光泽度，使其装饰效果与天然大理石或玉石高度接近。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：使用本申请提供的方法获得的薄微晶柔光砖，装饰效果与天然大理石或玉石高度接近；结构强度高，次品率低。具体实施方式下面将结合实施例对本专利技术的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本专利技术，而不应视为限制本专利技术的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。首先进行简单说明。坯体成分可以选用常见的原料，如长石、叶腊石、高岭土、白泥、黑泥、泥条、海泥和镁质泥等，具体用量可根据不同产品要求进行调整。实施例1按照下述步骤制备薄微晶柔光砖：A.坯体成型；在3000吨压力下压制成型，经1h在250℃下干燥，得到成型坯体；B.向成型坯体的表面施加底釉，底釉以质量百分比计包括：SiO250％、Al2O315％、CaO8％、MgO5％、ZnO10％、K2O4％、Na2O3％、ZrO22％、Sb2O33％；底釉的流速为7g/s，比重为1.4g/ml，施加量为730g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6％。然后在底釉上喷墨印花，喷墨机的参数为：喷墨机皮带速度25m/mim，打印尺寸为910×910mm；150℃的条件下干燥2min后，再在喷墨印花的一面用140目的空网印一层保护釉；保护釉包括透明釉料和印膏，其质本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄微晶柔光砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A.坯体成型；在3000‑10000吨压力下压制成型，经1h在50‑250℃下干燥，得到成型坯体；B.向成型坯体的表面施加底釉，然后在所述底釉上喷墨印花，150℃的条件下干燥1‑2min后，再在喷墨印花的一面用140目的空网印一层保护釉；在所述保护釉的表面喷一层透明釉，然后所述透明釉的表面用瀑布式布料方式布一层透明细熔块，得到第一坯砖，所述透明细熔块的粒度为20‑140目；向所述第一坯砖设置有所述透明细熔块的一面喷保护胶水，然后在150－250℃干燥1min，得到第二坯砖；C.把所述第二坯砖经1170‑1240℃高温烧制70‑75mim获得半成品；D.所述半成品使用由弹性模块、哑光磨块、研磨刷和纤维刷依次组成的抛光线，进行打超洁亮得到薄微晶柔光砖。

【技术特征摘要】
1.一种薄微晶柔光砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A.坯体成型；在3000-10000吨压力下压制成型，经1h在50-250℃下干燥，得到成型坯体；B.向成型坯体的表面施加底釉，然后在所述底釉上喷墨印花，150℃的条件下干燥1-2min后，再在喷墨印花的一面用140目的空网印一层保护釉；在所述保护釉的表面喷一层透明釉，然后所述透明釉的表面用瀑布式布料方式布一层透明细熔块，得到第一坯砖，所述透明细熔块的粒度为20-140目；向所述第一坯砖设置有所述透明细熔块的一面喷保护胶水，然后在150－250℃干燥1min，得到第二坯砖；C.把所述第二坯砖经1170-1240℃高温烧制70-75mim获得半成品；D.所述半成品使用由弹性模块、哑光磨块、研磨刷和纤维刷依次组成的抛光线，进行打超洁亮得到薄微晶柔光砖。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述底釉以质量百分比计包括：SiO240-55％、Al2O310-15％、CaO8-10％、MgO5-8％、ZnO10-15％、K2O4-6％、Na2O1-3％、ZrO21-3％、Sb2O31-3％。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的流速为7-8g/s，比重为1.4-1.6g/ml，施加量为730-750g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4％-0.6％。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述保护釉包括透明釉料和印膏，其质量比为2-4:1；所述透明釉料按质量百分比计包括透明釉粉60-65％、羧甲基纤维素钠0.2-0.5％、三聚磷酸钠0.2-...

【专利技术属性】
技术研发人员：林伟，邓荣，林金宏，陈勇，肖春燕，
申请(专利权)人：河源市东源鹰牌陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44