一种晶体板用超声波清洗设备制造技术

本发明专利技术公开了一种晶体板用超声波清洗设备，包括机架、工作台、传送装置、清洗辊和固定架；工作台设置在机架上，工作台的中部向内凹陷形成清洗槽，清洗槽内部设置超声波清洗器；清洗槽的横截面为梯形；传送装置通过支架设置在工作台上；传送装置包括依次连接的进料段、工作段和出料段，其进料段和出料段位于工作台的两端，工作段位于清洗槽内部；固定架设置在传送装置上，待加工工件固定在固定架上；清洗槽上方的机架上设置有安装架，清洗辊设置在安装架上；清洗辊的外周设有刷毛，刷毛伸入清洗槽内部。本发明专利技术满足大量的晶体板清理需求，全自动清洗，解决了晶体板清理效率低的问题，并且晶体板的清洗质量好。

【技术实现步骤摘要】
一种晶体板用超声波清洗设备
本专利技术涉及晶体生产加工设备领域，尤其涉及一种晶体板用超声波清洗设备。
技术介绍
晶体为用于制造电子元件的主要材料，越来越多的应用在市场；晶体在使用前需要进行除尘、除污处理，然后进行脱水、烘干处理。目前电子元件的精密度及体积的要求越来越高，在清洗过程中极易导致晶体板材之间相互摩擦导致破损，对原材料造成极大的浪费；同时，生产过程中晶体板的数量个过多，无法做到逐一清洗，因此难免有晶体板无法清洗洁净，而这多以后的加工都具有不好的影响，降低了生产效率，增加了企业成本；因此，如何快速、有效的对大量晶体板进行清洗，提高工作效率，是需要解决的问题。
技术实现思路
为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本专利技术提出一种晶体板用超声波清洗设备，满足大量的晶体板清理需求，全自动清洗，解决了晶体板清理效率低的问题，晶体板的清洗质量好。本专利技术提出的一种晶体板用超声波清洗设备，包括机架、工作台、传送装置、清洗辊和固定架；工作台设置在机架上，工作台的中部向内凹陷形成清洗槽，清洗槽内部设置超声波清洗器；清洗槽的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，清洗槽底部设置排污管，清洗槽上方设有进水管；传送装置通过支架设置在工作台上；传送装置包括依次连接的进料段、工作段和出料段，其进料段和出料段位于工作台的两端，工作段位于清洗槽内部；固定架设置在传送装置上，待加工工件固定在固定架上；清洗槽上方的机架上设置有安装架，清洗辊设置在安装架上，安装架上设置有用于驱动清洗辊转动的电机；清洗辊的外周设有刷毛，刷毛伸入清洗槽内部，刷毛与待加工工件接触。优选的，清洗槽的液面位于待加工工件上方。优选的，传送装置的出料段上方设有喷淋管，喷淋管的喷水方向朝向待加工工件。优选的，传送装置的出料段上方设有喷气管，喷气管的喷气方向朝向待加工工件。优选的，排污管上的电磁阀以及进水管上的电磁阀连接定时系统，定时系统用于在预定时间内分别控制电磁阀的开启和闭合。优选的，清洗槽内的清洗液内混合清洁剂。本专利技术中，清洗槽的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，使得清洗槽的侧壁倾斜设置，方便固定架进出清洗槽，保证晶体板在运输过程中的稳定，不会出现晶体板滑落输送装置的状况，提高晶体板的清洗效率。同时，清洗槽底部设置排污管，清洗槽上方设有进水管，便于对清洗槽内部的清洗液进行更换，保证晶体板的清洗质量和清洗效果。本专利技术中，刷毛伸入清洗槽内部并与待加工工件接触，刷毛对晶体板直接清理，避免了污渍粘在晶体板表面难以清除的情况，进一步保证清洗质量，提高清洗的效率。附图说明图1为本专利技术提出的晶体板用超声波清洗设备的结构示意图。具体实施方式如图1所示，图1为本专利技术提出的一种晶体板用超声波清洗设备的结构示意图。参照图1，本专利技术提出的一种晶体板用超声波清洗设备，包括机架1、工作台2、传送装置4、清洗辊6和固定架7；工作台2设置在机架1上，工作台2的中部向内凹陷形成清洗槽21，清洗槽21内部设置超声波清洗器；清洗槽21的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，清洗槽21底部设置排污管22，清洗槽21上方设有进水管；传送装置4通过支架设置在工作台2上；传送装置4包括依次连接的进料段41、工作段43和出料段42，其进料段41和出料段42位于工作台2的两端，工作段43位于清洗槽21内部；固定架7设置在传送装置4上，待加工工件固定在固定架7上；清洗槽21上方的机架1上设置有安装架5，清洗辊6设置在安装架5上，并且安装架5设置有用于驱动清洗辊6转动的电机；清洗辊6的外周设有刷毛，刷毛伸入清洗槽21内部，刷毛与待加工工件接触。本实施例中，晶体板放置在固定架7上，固定架7随着传送装置的运动进入清洗槽21内部，晶体板在清洗辊6以及超声波清洗器的清洗作用下清洗洁净，一次性满足大量的晶体板清理需求，全自动清洗，解决了晶体板清理效率低的问题，并且晶体板的清洗资料好。本实施例中，清洗槽21的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，使得清洗槽21的侧壁倾斜设置，方便固定架7进出清洗槽21，保证晶体板在运输过程中的稳定，不会出现晶体板滑落输送装置的状况，提高晶体板的清洗效率。同时，清洗槽21底部设置排污管22，清洗槽21上方设有进水管，便于对清洗槽21内部的清洗液进行更换，保证晶体板的清洗质量和清洗效果。本实施例中，刷毛伸入清洗槽21内部并与待加工工件接触，刷毛对晶体板直接清理，避免了污渍粘在晶体板表面难以清除的情况，进一步保证清洗质量，提高清洗的效率。在具体实施方式中，清洗槽21的液面23位于待加工工件上方，使得晶体板完全淹没在清洗液内，保证了晶体板在清洗过从中，更容易出去污渍，保证清洗质量。进一步的，传送装置4的出料段42上方设有喷淋管，喷淋管的喷水方向朝向待加工工件；当晶体板在清洗槽21内部清洗结束后，将晶体板运出清洗槽，而后喷淋管对晶体板进行清水冲刷，去除晶体板上的清洗液残留，从而保证晶体板的洁净。进一步的，传送装置4的出料段42上方设有喷气管，喷气管的喷气方向朝向待加工工件；当晶体板在清洗槽21内部清洗结束后，将晶体板运出清洗槽，而后喷气管对晶体板进行风干，保证晶体板的干燥。进一步的，排污管22上的电磁阀以及进水管上的电磁阀连接定时系统，定时系统用于在预定时间内分别控制电磁阀的开启和闭合；定时系统在预定时间内控制排污管22上的电磁阀的开启或闭合，从而达到排出清洗槽21内部清洗液的动作，定时系统在预定时间内控制进水管上的电磁阀的开启或闭合，从而达到进水管向清洗槽21补充清洗液的动作，从而完成对清洗槽21内部清洗液的定时跟换，保证清洗液的质量，进而保证对晶体板的清洗质量。进一步的，清洗槽21内的清洗液内混合清洁剂，提高清洗液的清洗能力，提高对晶体板的清洗质量和清洗效率。以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶体板用超声波清洗设备，其特征在于，包括机架(1)、工作台(2)、传送装置(4)、清洗辊(6)和固定架(7)；工作台(2)设置在机架(1)上，工作台(2)的中部向内凹陷形成清洗槽(21)，清洗槽(21)内部设置超声波清洗器；清洗槽(21)的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，清洗槽(21)底部设置排污管(22)，清洗槽(21)上方设有进水管；传送装置(4)通过支架设置在工作台(2)上；传送装置(4)包括依次连接的进料段(41)、工作段(43)和出料段(42)，其进料段(41)和出料段(42)位于工作台(2)的两端，工作段(43)位于清洗槽(21)内部；固定架(7)设置在传送装置(4)上，待加工工件固定在固定架(7)上；清洗槽(21)上方的机架(1)上设置有安装架(5)，清洗辊(6)设置在安装架(5)上，安装架(5)上设有用于驱动清洗辊(6)转动的电机；清洗辊(6)的外周设有刷毛，刷毛伸入清洗槽(21)内部，刷毛与待加工工件接触。

【技术特征摘要】
1.一种晶体板用超声波清洗设备，其特征在于，包括机架(1)、工作台(2)、传送装置(4)、清洗辊(6)和固定架(7)；工作台(2)设置在机架(1)上，工作台(2)的中部向内凹陷形成清洗槽(21)，清洗槽(21)内部设置超声波清洗器；清洗槽(21)的横截面为梯形，其开口面积大于底部面积，清洗槽(21)底部设置排污管(22)，清洗槽(21)上方设有进水管；传送装置(4)通过支架设置在工作台(2)上；传送装置(4)包括依次连接的进料段(41)、工作段(43)和出料段(42)，其进料段(41)和出料段(42)位于工作台(2)的两端，工作段(43)位于清洗槽(21)内部；固定架(7)设置在传送装置(4)上，待加工工件固定在固定架(7)上；清洗槽(21)上方的机架(1)上设置有安装架(5)，清洗辊(6)设置在安装架(5)上，安装架(5)上设有用于驱动清...

【专利技术属性】
技术研发人员：项涛，项武，
申请(专利权)人：安庆友仁电子有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34