全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种检测精度较高的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，在直线导轨上设置有溜板，在所述溜板上设置有L形辅助检测支架、第一激光位移传感器和第二激光位移传感器，在所述直线导轨的下方设置有水槽，在所述L形辅助检测支架的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板。本实用新型专利技术检测抛光盘的形状误差时，采用水面作为参考对象，可以避免直线导轨本身的直线度误差对检测精度的影响，不会引入系统误差，具有极高的检测精度；本实用新型专利技术采用L形辅助检测支架和辅助检测平面贴合抛光盘表面以起到平滑的作用，从而改善了抛光盘宏观轮廓的检测精度和稳定性。

Detection device for shape error of polishing disc in full aperture ring polishing

The utility model provides a detection device for the shape error of a polishing disc in full-aperture ring polishing with high detection accuracy. A device for detecting the shape error of the polishing disc in full-aperture annular polishing is provided with a slide plate on the linear guide rail, an L-shaped auxiliary detection bracket, a first laser displacement sensor and a second laser displacement sensor on the slide plate, a water tank under the linear guide rail, and a lower plate of the L-shaped auxiliary detection bracket. A component hole is arranged on the component hole, and an auxiliary detection plate is arranged in the component hole. When the utility model detects the shape error of the polishing disc, the water surface is used as the reference object, which can avoid the influence of the straightness error of the linear guideway itself on the detection accuracy, and can not introduce the systematic error, thus having extremely high detection accuracy. The utility model adopts the L-shaped auxiliary detection bracket and the auxiliary detection plane to fit the polishing disc table. The surface is smooth, thus improving the accuracy and stability of the macro profile of the discs.

【技术实现步骤摘要】
全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置
本技术涉及光学加工领域，尤其涉及一种全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。
技术介绍
全口径环形抛光广泛应用于大口径平面光学元件的加工，加工的元件具有较低的中频误差。大型环抛机一般采用大理石基盘，通过在其表面浇制沥青作为抛光盘。通常，环抛机的抛光盘的中心位置配置有中心柱，同时抛光盘的侧边位置配置有3个立柱，均通过横梁与中心柱连接，形成3个工位。其中一个工位用于放置修正盘，另外两个工位用于放置工件盘。环抛技术一直存在的一个难题是元件低频面形误差的高效收敛。元件的面形误差主要取决于抛光过程的运动参量以及元件和抛光盘接触界面的压力分布。抛光运动参量包括各盘转速、元件偏心距等，近年来机床运动控制水平的提升已较好地解决了元件面形精度控制在运动参数方面的制约问题。抛光压力分布的均匀性，特别是由于抛光盘表面不平引起的抛光压力分布不均已经成为元件面形精度提升的瓶颈。长期以来，环形抛光缺乏有效的抛光盘形状误差检测和监控方法。CN103978430A和CN105203065A分别提出了一种抛光盘形状误差的检测方法，首先采用标准镜和平尺标定直线导轨误差，然后从本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：在直线导轨(9)上设置有溜板(10)，在所述溜板(10)上设置有L形辅助检测支架(11)、第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)，在所述直线导轨(9)的下方设置有水槽(20)，在所述L形辅助检测支架(11)的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板(14)。

【技术特征摘要】
1.全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：在直线导轨(9)上设置有溜板(10)，在所述溜板(10)上设置有L形辅助检测支架(11)、第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)，在所述直线导轨(9)的下方设置有水槽(20)，在所述L形辅助检测支架(11)的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板(14)。2.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述L形辅助检测支架(11)限定辅助检测平板(14)在竖直方向上自由浮动。3.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述第一激光位移传感器(12)的检测点指向水槽(20)内的水面，所述第二激光位移传感器(13)的检测点指向辅助检测平板(14)的上表面。4.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述水槽(20)设置在抛光盘(2)上。5.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述辅助检测平板(14)的下表面与...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖德锋，赵世杰，谢瑞清，孙荣康，任乐乐，王健，许乔，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川,51