质谱仪系统及真空歧管技术方案

本实用新型专利技术涉及一种质谱仪系统，其可包含真空歧管和高真空泵。所述真空歧管可包含前级管道腔室和高真空腔室。所述前级管道腔室可具有源入口、前级管道入口和前级管道出口。所述高真空泵可具有耦合到高真空腔室的真空端口和耦合到所述前级管道入口的前级管道端口。本实用新型专利技术还涉及一种真空歧管，该真空歧管用于质谱仪系统。借助根据本实用新型专利技术的质谱仪系统及真空歧管，可以改善用于质谱的真空系统。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】质谱仪系统及真空歧管
本技术大体上涉及质谱领域，包含真空歧管和真空系统。
技术介绍
质谱大体上依赖离子的相对无碰撞移动。离子与中性气体分子碰撞可导致离子碎裂，从而减少待分析和检测的所有质量离子的数目。此外，离子与中性气体分子之间的碰撞可更改离子的轨迹和速度。如果充分更改轨迹，那么离子可偏转出离子路径且受损失，从而进一步减少待分析和检测的离子的数目。另外，质量分析器可依赖于离子的速度。通过与中性气体分子碰撞来更改离子的速度可不利地影响对离子质量的分析。质谱仪系统通常在高真空下操作以使离子的平均自由路径最大化。然而，源可处于大气压下，且离子可用相当大的气体分子流进入系统。对质量分析器维持高真空同时允许离子行进到质量分析器中需要将离子与气体分子分离并从质谱仪系统去除气体分子。从上文将了解，需要改进的用于质谱的真空系统。
技术实现思路
在第一方面中，一种质谱仪系统可包含真空歧管，所述真空歧管具有：前级管道腔室，其具有前级管道入口和前级管道出口；以及高真空腔室。所述质谱仪系统可进一步包含高真空泵，所述高真空泵具有：真空端口，其耦合到高真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道入口。在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含耦合到所述前级管道出口的前级管道泵。在第一方面的各种实施例中，所述前级管道腔室可在约0.1托与约10托之间的压力下操作。在第一方面的各种实施例中，所述高真空腔室可在约1×10-12托与约1×10-3托之间的压力下操作。在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的中间真空腔室。在特定实施例中，所述中间真空腔室可在约1×10-4托与2×10-1托之间的压力下操作。在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的两个中间真空腔室。在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述高真空腔室内的质量分析器。在第一方面的各种实施例中，所述真空歧管可为单片真空歧管或多组件真空歧管。在第二方面中，一种质谱仪系统可包含真空歧管和高真空泵。所述真空歧管可包含：前级管道腔室，其具有前级管道入口和前级管道出口；高真空腔室；以及中间真空腔室，其位于所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间。所述高真空泵可包含：主级，其耦合到所述高真空腔室；中间级，其耦合到所述中间真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道腔室。来自所述高真空泵的气体可流动通过所述前级管道腔室且经由所述前级管道出口流出到前级管道泵。在第二方面的各种实施例中，所述前级管道腔室可在约0.1托与约10托之间的压力下操作。在第二方面的各种实施例中，所述高真空腔室可在约1×10-12托与约1×10-3托之间的压力下操作。在第二方面的各种实施例中，所述中间真空腔室可在约1×10-4托与2×10-1托之间的压力下操作。在第二方面的各种实施例中，所述质谱仪可进一步包含在所述高真空腔室内的质量分析器。在第二方面的各种实施例中，所述质谱仪可进一步包含位于所述中间真空腔室与所述高真空腔室之间的第二中间真空腔室。在第二方面的各种实施例中，所述真空歧管可为单片真空歧管或多组件真空歧管。在第三方面中，一种用于质谱仪系统的真空歧管可包含：前级管道腔室；第一中间真空腔室；第二中间真空腔室；以及高真空腔室。所述前级管道腔室可具有源入口、前级管道入口和前级管道出口。所述第一中间真空腔室可通过具有第一挡扳孔口的第一挡扳而与所述前级管道腔室分离，所述第二中间真空腔室可通过具有第二挡扳孔口的第二挡扳而与所述第一中间真空腔室分离，且所述高真空腔室可通过具有第三挡扳孔口的第三挡扳而与所述第二中间真空腔室分离。所述第一中间真空腔室可具有第一真空出口，所述第二中间真空腔室可具有第二真空出口，且所述高真空腔室可具有第三真空出口。在第三方面的各种实施例中，所述前级管道出口可适于连接到前级管道泵。在第三方面的各种实施例中，所述前级管道入口、所述第一真空出口、所述第二真空出口和所述第三真空出口可适于连接到多端口高真空泵。在第三方面的各种实施例中，所述第一挡扳孔口可具有在约0.4mm2与约40mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述第二挡扳孔口可具有在约0.4mm2与约40mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述第三挡扳孔口可具有如在约0.4mm2与约40mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述第一真空出口可具有在约400mm2与约12000mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述第二真空出口可具有在约400mm2与约12000mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述第三真空出口可具有在约5000mm2与约36000mm2之间的横截面积。在第三方面的各种实施例中，所述真空歧管可为单片真空歧管或多组件真空歧管。附图说明为了更完全地理解本文中所公开的原理和其优点，现在结合附图参考以下描述，在附图中：图1为说明根据各种实施例的用于质谱仪的示例性真空系统的框图。图2为根据各种实施例的用于质谱仪的示例性真空歧管和高真空泵的外视图。图3为根据各种实施例的用于质谱仪的示例性真空歧管和高真空泵的横截面视图。图4为根据各种实施例的示例性质谱系统的框图。应理解，附图不一定按比例绘制，附图中的物体也不一定相对于彼此按比例绘制。图式是意图明晰并理解本文中所公开的设备、系统和方法的各种实施例的描绘。在可能的情况下，将贯穿图式使用相同的参考数字来指代相同或类似的部分。此外，应了解，图式并不意图以任何方式限制本技术教示的范围。具体实施方式本文中描述真空歧管和真空系统的实施例。本文中所使用的章节标题仅用于组织目的并且不应解释为以任何方式限制所描述主题。在各种实施例的此详细描述中，出于解释的目的，阐述许多具体细节以提供所公开的实施例的透彻理解。然而，所属领域的技术人员将理解，这些各种实施例可在有或无这些具体细节的情况下实践。在其它情况下，以框图形式展示结构和装置。此外，所属领域的技术人员可以容易地了解，呈现和执行方法的具体顺序为说明性的，且预期所述顺序可以改变且仍保持在本文中所公开的各种实施例的精神和范围内。本申请案中引用的所有文献和类似材料(包含(但不限于)专利、专利申请案、文章、书籍、论文和因特网网页)出于任何目的明确以全文引用的方式并入。除非另外描述，否则本文中所使用的所有技术和科学术语具有与本文中所描述的各种实施例所属领域的一般技术人员通常所理解相同的含义。将了解，在本技术教示中论述的温度、浓度、时间、压力、流动速率、横截面积等之前存在隐含的“约”，使得在本技术教示的范围内存在略微和非实质偏差。在本申请案中，除非另外具体陈述，否则单数的使用包含复数。此外，“包括”、“含有”和“包含”的使用并不意图是限制性的。应理解，以上一般描述和以下详细描述仅是示例性和解释性的，且不限制本技术教示。如本文中所使用，“一”也可指“至少一个”或“一个或多个”。此外，“或”的使用是包含性的，使得当“A”为真、“B”为真，或“A”和“B”均为真时，短语“A或B”为真。另外，除非上下文另外需要，否则单数术语应包含复数并且复数术语应包含单数。阐述一组组件的术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种质谱仪系统，其包括：真空歧管，其包含：前级管道腔室，其具有源入口、前级管道入口和前级管道出口；以及高真空腔室；以及高真空泵，其具有真空端口，其耦合到高真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道入口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.02 US 14/611,6821.一种质谱仪系统，其包括：真空歧管，其包含：前级管道腔室，其具有源入口、前级管道入口和前级管道出口；以及高真空腔室；以及高真空泵，其具有真空端口，其耦合到高真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道入口。2.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，进一步包括耦合到所述前级管道出口的前级管道泵。3.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，所述前级管道腔室可在0.1托与10托之间的压力下操作。4.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，所述高真空腔室可在1×10-12托与1×10-3托之间的压力下操作。5.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，进一步包括在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的中间真空腔室。6.根据权利要求5所述的质谱仪系统，其特征在于，所述中间真空腔室可在1×10-4托与2×10-1托之间的压力下操作。7.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，进一步包括在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的两个中间真空腔室。8.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，进一步包括在所述高真空腔室内的质量分析器。9.根据权利要求1所述的质谱仪系统，其特征在于，所述真空歧管为单片真空歧管。10.一种质谱仪系统，其包括：真空歧管，其包含：前级管道腔室，其具有前级管道入口和前级管道出口；高真空腔室；以及中间真空腔室，其位于所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间；以及高真空泵，其包含：主级，其耦合到所述高真空腔室；中间级，其耦合到所述中间真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道腔室；其中来自所述高真空泵的气体流动通过所述前级管道腔室且经由所述前级管道出口流出到前级管道泵。11.根据权利要求10所述的质谱仪系统，其特征在于，所述前级管道腔室可在0.1托与10托之间的压力下操作。12.根据权利要求10所述的质谱仪系统，其特征在于，所述高真空腔室可在1×10-12托与1×10-3托之间的压力下操作。13.根据权利要求10所述的质谱仪系统，其特征在于，所述中间真空腔室...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·T·夸姆比，B·A·泰立瑞尔，
申请(专利权)人：萨默费尼根有限公司，
类型：新型
国别省市：美国,US