一种接触窗的形成方法技术

本发明专利技术公开了一种接触窗的形成方法，包括：提供衬底，所述衬底上依次设置有欧姆接触层、接触窗层和保护层；在保护层上形成开设有第一腔的光阻层；刻蚀去除第一腔下的保护层材料，在保护层上形成第二腔；采用第一混合气体刻蚀去除第二腔下的接触窗层材料，形成接触窗；其中，第一混合气体包括C5F8和CO，其中，C5F8生成CxFy聚合物和F离子，CxFy聚合物能保护保护层，CO与F离子形成的COF聚合物能在刻蚀接触窗层材料的过程中保护欧姆接触层。本发明专利技术提供的方法，用以解决现有技术中制备MEMS器件的接触窗，存在的所制备器件的良率和可靠性低的技术问题。实现了提高器件的良率和可靠性的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种接触窗的形成方法
本专利技术涉及半导体领域，尤其涉及一种接触窗的形成方法。
技术介绍
在半导体制造技术发展的基础上,微机电系统(Micro-Electro-MechanicalSystem，MEMS)也随之得到发展，MEMS也叫做微电子机械系统、微系统、微机械等，其内部结构一般在微米甚至纳米量级，是一个独立的智能系统。MEMS的制造工艺融合了光刻、腐蚀、薄膜、硅微加工、非硅微加工和精密机械加工等半导体微电子工艺技术，侧重于超精密机械加工，涉及微电子、材料、力学、化学、机械学诸多学科领域。它的学科面涵盖微尺度下的力、电、光、磁、声、表面等物理、化学、机械学的各分支。常见的MEMS产品包括MEMS加速度计、MEMS麦克风、微马达、微泵、微振子、MEMS光学传感器、MEMS压力传感器、MEMS陀螺仪、MEMS湿度传感器、MEMS气体传感器等等以及它们的集成产品。由于MEMS器件内往往设置有精密结构，例如悬臂结构或精密电路等，且器件内的洁净度也对内部精密结构的运作有较大影响，故往往设置较厚的保护层(例如SiN盖)才能有效的阻挡外界腐蚀(例如电镀液)和外力对保护层内部精密结构的损坏。然而，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种接触窗的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底上依次设置有欧姆接触层、接触窗层和保护层；在所述保护层上形成开设有第一腔的光阻层；刻蚀去除所述第一腔下的保护层材料，在所述保护层上形成第二腔；采用第一混合气体刻蚀去除所述第二腔下的接触窗层材料，形成接触窗；其中，所述第一混合气体包括C5F8和CO。

【技术特征摘要】
1.一种接触窗的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底上依次设置有欧姆接触层、接触窗层和保护层；在所述保护层上形成开设有第一腔的光阻层；刻蚀去除所述第一腔下的保护层材料，在所述保护层上形成第二腔；采用第一混合气体刻蚀去除所述第二腔下的接触窗层材料，形成接触窗；其中，所述第一混合气体包括C5F8和CO。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述刻蚀去除所述第一腔下的保护层材料，包括：在20℃-40℃温度下，刻蚀去除所述第一腔下的保护层材料；所述采用第一混合气体刻蚀去除所述第二腔下的接触窗层材料，包括：在-10℃-0℃温度下，采用所述第一混合气体刻蚀去除所述第二腔下的接触窗层材料。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一混合气体还包括：CF4、CHF3、CH3F、Ar、O2和He。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一混合气体中C5F8的体积比上CO的体积的比值范围为2-3。5.如权利要求1所述的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：张光瑞，马琳，陆原，
申请(专利权)人：赛莱克斯微系统科技北京有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11