表面处理石墨烯、表面处理石墨烯/有机溶剂分散液、表面处理石墨烯-电极活性物质复合体粒子及电极糊制造技术

技术编号:19244974 阅读:29 留言:0更新日期:2018-10-24 07:03
本发明专利技术的目的在于提供分散性高、导电性高、并且耐氧化性、即电化学稳定性高的石墨烯。为了达成上述目的,本发明专利技术的表面处理石墨烯是下述通式(1)表示的化合物或其中和盐附着于石墨烯而形成的表面处理石墨烯。(通式(1)中,A表示稠合数1~4的不具有酚式羟基的苯系芳香族基团,R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理石墨烯、表面处理石墨烯/有机溶剂分散液、表面处理石墨烯-电极活性物质复合体粒子及电极糊
本专利技术涉及表面处理石墨烯、表面处理石墨烯/有机溶剂分散液以及使用了其的表面处理石墨烯-活性物质复合体粒子及电极糊。另外,本专利技术涉及表面处理石墨烯的制造方法、及表面处理石墨烯/有机溶剂分散液的制造方法。
技术介绍
石墨烯是由碳原子形成的二维结晶,是从2004年被发现以来非常受关注的材料。石墨烯具有优异的电特性、热特性、光学特性、及机械特性,期待将其广泛应用于电池材料、储能材料、电子器件、复合材料等领域中。作为石墨烯的制造方法,可举出机械剥离法、CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积)法、CEG(CrystalEpitaxialGrowth,晶体外延生长)法、氧化还原法等。其中,氧化还原法(即,利用天然石墨的氧化处理得到石墨氧化物(graphiteoxide)或氧化石墨(oxidizedgraphite)、然后利用还原反应制造石墨烯的方法)由于能进行大量生产,因此有望作为产业上的制造方法。专利文献1中,通过在将氧化石墨加热还原的同时,使其膨胀剥离,从而制作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.表面处理石墨烯,其是下述通式(1)表示的化合物或其中和盐附着于石墨烯而形成的,[化学式1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.09 JP 2016-0453901.表面处理石墨烯,其是下述通式(1)表示的化合物或其中和盐附着于石墨烯而形成的,[化学式1]通式(1)中,A表示稠合数1~4的不具有酚式羟基的苯系芳香族基团,R1表示直接键合、碳原子数1~12的二价烃基、或具有选自由醚键、酯键、醇结构和羰基结构组成的组中的结构的碳原子数1~12的二价有机基团,R2、R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1~12的烃基、或具有选自由醚键、酯键、醇结构和羰基结构组成的组中的结构的碳原子数1~12的有机基团,n表示1~6的整数。2.如权利要求1所述的表面处理石墨烯,其中,相对于石墨烯而言,附着有3质量%以上且50%质量以下的所述通式(1)表示的化合物或其中和盐。3.如权利要求1或2所述的表面处理石墨烯,其中,利用X射线光电子能谱法测得的氧相对于碳的元素比(O/C比)为0.05以上且0.40以下。4.如权利要求1~3中任一项所述的表面处理石墨烯,其中,利用X射线光电子能谱法测得的氮相对于碳的元素比(N/C比)为0.005以上且0.020以下。5.如权利要求1~4中任一项所述的表面处理石墨烯,其中,利用BET测定法测得的比表面积为80m2/g以上且250m2/g以下。6.如权利要求1~5中任一项所述的表面处理石墨烯,其中,所述通式(1)中,R1为碳原子数1~12的亚烷基、碳原子数2~12的链烯氧基亚烷基或直接键合。7.如权利要求1~6中任一项所述的表面处理石墨烯,其中,所述通式(1)中,R2、R3分别为氢原子、苯基、碳原子数1~12的烷基或碳原子数2~12的烷氧基烷基。8.如权利要求1~7中任一项所述的表面处理石墨烯,其中,所述通式(1)表示的化合物为选自由下述式(2)~(5)表示的化合物组成的组中的化合物,[化学式2]9.表面处理石墨烯/有机溶剂分散液,其是权利要求1~8中任一项所述的表面处理石墨烯被分散于有机溶剂中而形成的。10.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:真锅浩一郎玉木荣一郎川崎学
申请(专利权)人:东丽株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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