层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，所述保护膜(B)与前述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，利用纳米压痕法对前述保护膜(B)的与前述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体
本专利技术涉及层叠体。
技术介绍
具有压电性的有机材料是已知的，作为其例子，包括使用了具有光学活性的螺旋手性高分子(例如聚乳酸系高分子)的高分子材料。例如，公开了通过对聚乳酸的成型物进行拉伸处理，从而于常温显示10pC/N左右的压电系数的高分子压电体(例如，参见日本特开平5-152638号公报)。另外，还报道了：为了使聚乳酸结晶高取向，利用被称为锻造法的特殊的取向方法，从而呈现出18pC/N左右的高压电性(例如，参见日本特开2005-213376号公报)。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另外，在将高分子膜应用于制造各种器件时，有时由于对高分子膜产生损伤以及附着异物等，导致器件(制品)的外观受损。另一方面，出于保护高分子膜的目的，有时在高分子膜上设置保护膜。由此，使得在用于制造器件之前将高分子膜以卷绕成卷状而得到的卷绕体的形式保管、运输成为可能，还能抑制在处理时对高分子膜产生损伤等。实际上，利用高分子膜制造各种器件时，有时在即将进行工序之前将保护膜剥离而进行使用。这种情况下，若保护膜与高分子膜的粘合力强，则有时在高分子膜的表面残留一部分保护膜。另外，本申请的专利技术人进行了研究，结果发现，即使在能将保护膜剥离而不在包含有机压电材料的高分子膜的表面残留的情况下，剥离后的前述高分子膜的表面有时也成为橘皮纹理。认为这是因为：有机压电材料通常具有容易变形的性质；以及，有机压电材料非常容易产生静电，因而在贴合保护膜时，在保护膜与前述高分子膜之间吸附微小的异物，前述高分子膜的表面因异物而发生变形。这种情况下，前述高分子膜自身的品质可能下降，而且使用前述高分子膜制造的器件的外观及品质也可能下降。本专利技术中，鉴于上述情况，目的在于提供层叠体，所述层叠体是具有包含有机压电材料的高分子膜和保护膜的层叠体，将保护膜剥离后的高分子膜的外观恶化得以抑制。用于解决课题的手段用于解决课题的具体的手段如下所述。<1>层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，所述保护膜(B)与前述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，利用纳米压痕法对前述保护膜(B)的与前述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。<2>如<1>所述的层叠体，其中，前述最大压入深度hmax为53nm～60nm。<3>如<1>或<2>所述的层叠体，其中，前述保护膜(B)具有基材层、和被设置在前述基材层的与前述高分子膜(A)相对侧的主面上的粘合层，前述最大压入深度hmax为对前述保护膜(B)的前述粘合层侧进行测定时的最大压入深度。<4>如<3>所述的层叠体，其中，前述粘合层的酸值为10mgKOH/g以下。<5>如<3>或<4>所述的层叠体，其中，前述基材层由聚烯烃系树脂或聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂形成，前述粘合层包含丙烯酸系粘合剂。<6>如<1>～<5>中任一项所述的层叠体，其中，前述高分子膜(A)与前述保护膜(B)的T型剥离强度为0.07N/50mm～1N/50mm。<7>如<1>～<6>中任一项所述的层叠体，其中，对于前述高分子膜(A)而言，相对于可见光线的内部雾度为40％以下，并且，25℃时利用应力-电荷法测得的压电常数d14为1pC/N以上。<8>如<7>所述的层叠体，其中，前述内部雾度为1％以下。<9>如<1>～<8>中任一项所述的层叠体，其中，对于前述高分子膜(A)而言，前述标准化分子取向MORc为3.5～15.0，前述标准化分子取向MORc与前述结晶度的乘积为70～700。<10>如<1>～<9>中任一项所述的层叠体，其中，前述有机压电材料为具有光学活性的螺旋手性高分子(X)。<11>如<10>所述的层叠体，其中，前述螺旋手性高分子(X)为具有包含下述式(1)表示的重复单元的主链的聚乳酸系高分子。[化学式1]<12>如<10>或<11>所述的层叠体，其中，前述螺旋手性高分子(X)的光学纯度为95.00％ee以上。<13>如<10>～<12>中任一项所述的层叠体，其中，前述高分子膜(A)中的前述螺旋手性高分子(X)的含量为80质量％以上。<14>如<10>～<13>中任一项所述的层叠体，其中，相对于前述螺旋手性高分子(X)100质量份而言，前述高分子膜(A)包含0.01质量份～10质量份选自由稳定剂(Y1)和稳定剂(Y2)组成的组中的1种以上的稳定剂(Y)，所述稳定剂(Y1)具有选自由碳二亚胺基、环氧基、及异氰酸酯基组成的组中的1种以上的官能团且重均分子量为200～60000，所述稳定剂(Y2)具有亚氨基醚基。<15>如<1>～<14>中任一项所述的层叠体，其中，前述保护膜(B)的弹性模量与高分子膜(A)的弹性模量满足以下的关系式(F)：保护膜(B)的弹性模量/高分子膜(A)的弹性模量≥0.1(式F)。专利技术的效果根据本专利技术，可提供层叠体，所述层叠体是具有包含螺旋手性高分子的高分子膜和保护膜的层叠体，将保护膜剥离后的高分子膜的外观恶化得以抑制。附图说明[图1]为表示本公开文本涉及的层叠体的第1方式的截面图。[图2]为表示本公开文本涉及的层叠体的第2方式的截面图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式进行说明。本说明书中，使用“～”表示的数值范围表示包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。需要说明的是，本说明书中，“高分子膜”是包含高分子片材的概念。另外，本说明书中，所谓膜的主面，是指在膜的厚度方向上相对的面(换言之，包含长度方向和宽度方向的面)。需要说明的是，有时也将“主面”简称为“面”。本说明书中，只要没有特别说明，构件的“面”是指构件的“主面”。本说明书中，所谓“MD方向”，是指膜的流动方本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，所述保护膜(B)与所述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，利用纳米压痕法对所述保护膜(B)的与所述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.09 JP 2016-0461831.层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，所述保护膜(B)与所述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，利用纳米压痕法对所述保护膜(B)的与所述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。2.如权利要求1所述的层叠体，其中，所述最大压入深度hmax为53nm～60nm。3.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述保护膜(B)具有基材层、和被设置在所述基材层的与所述高分子膜(A)相对侧的主面上的粘合层，所述最大压入深度hmax为对所述保护膜(B)的所述粘合层侧进行测定时的最大压入深度。4.如权利要求3所述的层叠体，其中，所述粘合层的酸值为10mgKOH/g以下。5.如权利要求3或4所述的层叠体，其中，所述基材层由聚烯烃系树脂或聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂形成，所述粘合层包含丙烯酸系粘合剂。6.如权利要求1～5中任一项所述的层叠体，其中，所述高分子膜(A)与所述保护膜(B)的T型剥离强度为0.07N/50mm～1N/50mm。7.如权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，对于所述高分子膜(A)而言，相对于可见光线的内部雾度为40％以下，并且，25...
【专利技术属性】
技术研发人员：谷本一洋，关野裕幸，天野正己，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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