一种二氧化硅疏松体的沉积炉制造技术

本实用新型专利技术是关于一种大尺寸二氧化硅疏松体及其制备方法和装置，其中，沉积炉内设置有一个或多个反应燃烧器排、烧结燃烧器、沉积基体和移动平台，每个反应燃烧器排包括至少两个反应燃烧器；所述的烧结燃烧器的数量为大于或等于4；所述的沉积基体包括沉积底托、沉积底托上部设置有沉积板；所述的移动平台通过连接构件与所述的沉积底托连接。采用本实用新型专利技术提供的制备装置进行二氧化硅疏松体的制备，得到了密度均匀、边缘和面部都不易开裂的大尺寸疏松体。

【技术实现步骤摘要】
一种二氧化硅疏松体的沉积炉
本技术属于石英玻璃生产
，特别是涉及一种大尺寸二氧化硅疏松体及其制备方法和装置。
技术介绍
目前，石英玻璃的制备主要有电熔、气炼、化学气相沉积和等离子化学气相沉积等直接一步法熔制工艺，以及间接合成二步法制备工艺。其中，直接法制备石英玻璃是指在高温条件下将石英砂粉料直接熔制成石英玻璃，或者将含硅化合物经汽化后在氢氧火焰或者等离子体火焰中发生化学反应并沉积形成石英玻璃。间接合成二步法制备工艺是指将含硅化合物经汽化后在低温的燃烧火焰中发生化学反应生成二氧化硅颗粒并沉积形成二氧化硅疏松体，再将二氧化硅疏松体在一定温度下进行烧结玻璃化制得石英玻璃。由于间接合成二步法制备工艺具有沉积温度低、缺陷浓度可控等优点，该工艺技术已成为当今研究热点。现有的二氧化硅疏松体沉积工艺主要有两种，第一种是轴向化学气相沉积，即通过燃烧器反应生成的二氧化硅颗粒斜向上逐步沉积到垂直并旋转的沉积基础杆上，该工艺技术是依靠基础杆吊拉着沉积的疏松体，难以沉积制备出大尺寸的二氧化硅疏松体，而且，这种工艺制备的疏松体均匀性相对较差；第二种是立式化学气相沉积，即燃烧器向下沉积在旋转的基础靶面上，而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：包括，所述的沉积炉内设置有一个或多个反应燃烧器排、烧结燃烧器、沉积基体和移动平台，其中，每个反应燃烧器排包括至少两个反应燃烧器；所述的烧结燃烧器的数量为大于或等于4。

【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：包括，所述的沉积炉内设置有一个或多个反应燃烧器排、烧结燃烧器、沉积基体和移动平台，其中，每个反应燃烧器排包括至少两个反应燃烧器；所述的烧结燃烧器的数量为大于或等于4。2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：所述的反应燃烧器排为一字型。3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：所述的烧结燃烧器用于对二氧化硅疏松体的边缘进行烧结。4.根据权利要求1所述的一种二氧化硅疏松体的沉积炉，其特征在于：所述的沉积基体包括沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂兰舰，向在奎，饶传东，张辰阳，王蕾，邵竹锋，王慧，贾亚男，符博，王宏杰，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11