The invention provides a hot plate device, which comprises a hot plate and a temperature control medium cavity connected with the hot plate by a channel. The temperature control medium cavity provides a fluoride solution, which circulates in the hot plate. The invention provides a hot plate device which uses fluoride liquid as a temperature control medium to ensure the temperature uniformity of the hot plate device.
【技术实现步骤摘要】
一种热板装置
本专利技术涉及半导体集成电路制造
，尤其涉及一种热板装置。
技术介绍
烘焙工艺是玻璃基板在涂胶显影过程中的重要的工艺过程，而热板装置为烘焙工艺中的关键装置，并且在对玻璃基板进行涂胶或显影的过程中,必不可少的要进行烘焙。烘焙的主要目的是蒸发掉工艺处理中不再需要的溶剂,根据烘焙所处的阶段可分为脱水烘、软烘焙、曝光后烘焙和坚膜烘焙。烘焙工艺主要是由热板——HP(HotPlate)装置来完成。高世代的TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板尺寸比较大，G4.5的玻璃基板尺寸为920*730mm，而G6的玻璃基板尺寸为1850*1500mm。烘焙工艺中热板的使用温度在80-120℃温度区间，大尺寸热板的温度均性决定玻璃基板曝光分辨率，因此生产高分辨率线条的设备需要高均匀性的热板。目前主要热板装置的温度均匀性可以做到±2℃作用，不能满足高分辨率线条需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种热板装置，以解决现有的热板装置温度均匀性不能满足高分辨线条需求的的问题。一种热板装置，包括热板和与所述热板以通道连接的温控介质腔，所述温控介质腔提供氟化液，所述氟化液在所述热板...
【技术保护点】
1.一种热板装置，其特征在于，包括热板和与所述热板以通道连接的温控介质腔，所述温控介质腔提供氟化液，所述氟化液在所述热板中循环流动。
【技术特征摘要】
1.一种热板装置，其特征在于，包括热板和与所述热板以通道连接的温控介质腔，所述温控介质腔提供氟化液，所述氟化液在所述热板中循环流动。2.如权利要求1所述的热板装置，其特征在于，所述热板具有多个流道，所述氟化液注入所述多个流道中。3.如权利要求2所述的热板装置，其特征在于，所述多个流道具有多个入口多个出口，形成多路进多路回的设计。4.如权利要求3所述的热板装置，其特征在于，所述多个流道分为多组，每组均具有入口和出口，且入口和出口位置相邻。5.如权利要求2所述的热板装置，其特征在于，所述流道在热板内表面采用直接抠槽的方式形成。6.如权利要求2所述的热板装置，其特征在于，所述温控介质腔包括液体箱和加热器，所述液体箱中含有所述氟化液，所述加热器加热所述氟化液。7.如权利要求1所述的热板装置，其特征在于，所述热板为空心槽状，所述氟化液注入所述空心槽中。8.如权利要求7所述的热板装置，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘连军，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31
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