金属荫罩及其制备方法技术

技术编号:19124881 阅读:365 留言:0更新日期:2018-10-10 06:35
本申请公开了一种金属荫罩,其制备方法包括:提供模板、压膜、曝光及显影、电铸、压膜、曝光及显影、蚀刻以及退膜等步骤,获得带有多个穿孔的金属荫罩等步骤。在制备过程中穿孔内的深度与角度可以进行控制,可得到具有高开口精度以及开口内具有角度的金属荫罩,从而在应用上,可以减小或消除蒸镀阴影。

【技术实现步骤摘要】
金属荫罩及其制备方法
本申请涉及有机发光二极管显示
,具体涉及一种金属荫罩及其制备方法。
技术介绍
有机发光二级管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示装置为一种利用有机半导体材料制成、用直流电压驱动的薄膜发光器件。由于OLED显示装置具有厚度薄、重量轻、高对比度、宽视角等优点,已被列为下一代的主流显示技术。OLED显示装置的发光原理是当有电流通过有机发光材料涂层时,即由该有机发光材料涂层发出光线。目前业界OLED制作领域,一般采用单层蒸镀用荫罩蒸镀的方式,蒸镀时有机材料颗粒会从各个角度穿过荫罩的开口并附着于基板上。然而,在一般蒸镀工艺中,分布在荫罩上的开口无锥度,当颗粒倾斜射向开口时,部分颗粒会被开口壁遮挡而无法到达基板,导致倾斜入射的颗粒缺失,造成基板蒸镀不均匀,并产生阴影效应,使产品辉度下降,从而影响了OLED器件的显示特性。目前业界针对阴影效应,在制作OLED用荫罩时,一般采用双面蚀刻金属卷材的方式制作,但此种方式无法准确控制开口大小的均匀性。荫罩与铟锡氧化物(ITO)面接触面开口存在倒锥角,产生死角区域,影响蒸镀质量。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种金属荫罩及其制备方法,用以解决玻璃基板蒸镀时容易产生阴影效应的问题。为了解决上述问题,本申请提供了一种金属荫罩的制备方法,包括:提供一模板;设置一感光膜于所述模板上;曝光及显影,使所述感光膜在所述模板上形成多个第一结构;形成一金属层于所述模板上;设置所述感光膜于所述金属层上;曝光及显影,使所述感光膜在所述金属层上形成多个第二结构,其中所述多个第二结构与所述多个第一结构交错排列,且各个第二结构与相邻的第一结构之间相隔一间距;蚀刻所述金属层;以及移除所述多个第一与第二结构,获得带有多个穿孔的金属荫罩等步骤。本申请同时提供一种通过上述制备方法所制成的金属荫罩。与现有技术相比,本申请可以获得包括以下技术效果:本申请所提供的金属荫罩的制备方法,在制备过程中开口深度与角度皆可以进行控制,因此可得到具有高开口精度以及开口内具有角度的金属荫罩,从而在蒸镀应用上,可以减小或消除蒸镀阴影。同时,在蒸镀时,可以降低入射至玻璃基板的有机材料颗粒的损失,提升蒸镀均匀度与产品辉度下降。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:图1是本申请实施例的方法流程图。图2至图8是本申请实施例中对应不同制作阶段的侧视示意图。图9是本申请实施例的金属荫罩的剖面示意图。具体实施方式以下将配合附图及实施例来详细说明本申请的实施方式,藉此对本申请如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解,硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式,而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语,故应解释成“包含但不限定于”。“大致”是指在可接受的误差范围内,本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题,基本达到所述技术效果。此外,“耦接”或“电性连接”一词在此包含任何直接及间接的电性耦接手段。因此,若文中描述一第一装置耦接于一第二装置,则代表所述第一装置可直接电性耦接于所述第二装置,或通过其它装置或耦接手段间接地电性耦接至所述第二装置。说明书后续描述为实施本申请的较佳实施方式,然所述描述乃以说明本申请的一般原则为目的,并非用以限定本申请的范围。本申请的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。还需要说明的是,术语“包括”、“包含”或者其任何其它变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者系统不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其它要素,或者是还包括为这种过程、方法、商品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者系统中还存在另外的相同要素。实施例描述如图1所示,在本申请的一实施例中,金属荫罩的制备方法包括:步骤S101:提供一模板。其可以是经过预处理程序的干净模板,或者是在此步骤前先以酸性清洗剂及碱性清洗剂对模板进行清洗,接着用去离子水冲洗,然后烘干备用。步骤S103:设置一感光膜于模板上。主要用带有一定温度的辊轮将感光膜20以一定压力压至模板10上,使感光膜20与模板10表面充分贴合(如图2所示)。步骤S105:曝光及显影,使感光膜在模板上形成多个第一结构。请参阅图2和图3,在此步骤中,将压有感光膜20的模板10曝光,以根据曝光图案形成第一层图形;接着以一定温度烘烤曝光后的模板10,使经过曝光的感光膜20充分反应;之后,将曝光后的模板10进行显影,使感光膜20在模板10表面形成多个第一结构30(即感光膜20曝光显影后的干膜),且多个第一结构30彼此间隔排列。其中,还可以选择性的对带有多个第一结构30的模板10进行硬烘或UV固化程序,使显影后的模板10以较高温度烘烤,从而让多个第一结构30更加坚固、在模板表面的附着力更强。步骤S107:形成一金属层于模板上。如图4所示,对带有多个第一结构30的模板10进行电镀,使模板10的表面上未设置有第一结构30的位置处沉积金属层40。步骤S109:设置感光膜于金属层上。在此步骤中,对设置有金属层40的模板10进行压膜程序,主要用带有一定温度的辊轮将感光膜20以一定压力压至金属层40上,使感光膜20与金属层40表面充分贴合(如图5所示)。此外,在进行此步骤前,可以选择性的先对设置有金属层40的模板10进行清洗、烘干程序,例如用去离子水冲洗干净,并将模板10烘干,然后再进行感光膜20的压膜程序。步骤S111:曝光及显影,使感光膜在金属层上形成多个第二结构,其中多个第二结构与多个第一结构交错排列,且各个第二结构与相邻的第一结构之间相隔一间距。请参阅图5和图6,在操作上,对压有感光膜20的模板10曝光,使感光膜20根据曝光图案在金属层40上形成第二层图形。接着,以一定温度烘烤曝光后的模板10,使经过曝光的感光膜20充分反应。之后,将曝光后的模板10进行显影,使感光膜20形成多个第二结构50(即感光膜20曝光显影后的干膜)。多个第二结构50与多个第一结构30交错排列,且各个第二结构50与相邻的第一结构30之间相隔一间距ΔW,从而在第一结构30与第二结构50之间露出部分的金属层40。在此步骤中,由于采用感光膜20进行压膜、曝光及显影的方式完成第一结构30与第二结构50的设置,使第一结构30与第二结构50之间的间距ΔW可以控制在等于或小于1.5um的范围内,而具有高对位精度,此对位精度越高,有助于后续蚀刻步骤中获得深度与角度趋于一致的结构形态。并且在后续步骤中可以保证开口的位置精度,有利于做出小开口的金属荫罩。与先前步骤相似地,在此步骤后可以选择性的对模板10进行硬烘或UV固化程序,让显影后的模板10在较高的温度下烘烤,使多个第二结构50更加坚固、附着力更强。步骤S113:蚀刻金属层。请参本文档来自技高网...
金属荫罩及其制备方法

【技术保护点】
1.一种金属荫罩的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一模板;设置一感光膜于所述模板上;曝光及显影,使所述感光膜在所述模板上形成多个第一结构;形成一金属层于所述模板上;设置所述感光膜于所述金属层上;曝光及显影,使所述感光膜在所述金属层上形成多个第二结构,其中所述多个第二结构与所述多个第一结构交错排列,且各个第二结构与相邻的第一结构之间相隔一间距;蚀刻所述金属层;以及移除所述多个第一与第二结构,获得带有多个穿孔的金属荫罩。

【技术特征摘要】
1.一种金属荫罩的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一模板;设置一感光膜于所述模板上;曝光及显影,使所述感光膜在所述模板上形成多个第一结构;形成一金属层于所述模板上;设置所述感光膜于所述金属层上;曝光及显影,使所述感光膜在所述金属层上形成多个第二结构,其中所述多个第二结构与所述多个第一结构交错排列,且各个第二结构与相邻的第一结构之间相隔一间距;蚀刻所述金属层;以及移除所述多个第一与第二结构,获得带有多个穿孔的金属荫罩。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述曝光及显影的步骤后还包含以下步骤:对所述多个第一结构和/或所述多个第二结构进行固化程序。3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述曝光及显影,使所述感光膜在所述模板上形成多个第一结构的步骤中,所述多个第一结构间隔排列。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述移除所述多个第一与第二结构的步骤后,还包括将金属荫罩从模板上揭下、固定的步骤。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述移除所述多个第一结构或所述移除所述多个第二结构的步骤后,还包括对退膜后的所述模板进行清洗、烘干步骤。6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述蚀刻所述金属层的步骤,是对所述金属层露出于所述间距的部分金属层进行蚀刻,且蚀刻深度与所述金属层的厚度相匹配。7.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:潘仲光童圣智陈霞玲
申请(专利权)人:阿德文泰克全球有限公司
类型:发明
国别省市:维尔京群岛,VG

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