废水处理装置和废水处理方法制造方法及图纸

提供一种能够防止水垢成分在催化剂表面析出，从而能够高度维持催化剂处理性能的废水处理装置以及废水处理方法。一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板(2)、分散板(1)、填充物层和催化剂层，将所述分散板(2)与所述分散板(1)之间的距离设为H1，将所述分散板(1)与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。

Waste water treatment plant and waste water treatment method

A waste water treatment device and a waste water treatment method are provided, which can prevent the scale component from precipitating on the catalyst surface, thereby maintaining the catalyst treatment performance highly. A treatment device is a wastewater treatment device. From the wastewater supply side, the treatment device is successively provided with a dispersing plate (2), a dispersing plate (1), a filling layer and a catalyst layer. The distance between the dispersing plate (2) and the dispersing plate (1) is set to H1, and the interface between the dispersing plate (1) and the wastewater supply side of the filling layer is set to H1. When the distance is set to H2, the length of the filler layer is set to H3, and the sum of the H2 and the H3 is set to H6, the H6 is greater than 100 mm, and the ratio of the H6 to the H1 (H6/H1) is above 0.1 and below 100.

【技术实现步骤摘要】
废水处理装置和废水处理方法
本专利技术涉及废水处理装置和废水处理方法。
技术介绍
从化工设备、食品加工设备、金属加工设备、金属镀覆设备、印刷制版设备、照相处理设备等各种工业设备排出的废水，会通过湿式氧化法、湿式分解法、臭氧氧化法、过氧化氢氧化法等各种方法进行净化处理。例如，如果是在反应塔中填充固体催化剂的湿式氧化法，通常来说，主要是从固体催化剂填充层(催化剂层)的下部导入废水和含氧气体对废水进行净化处理。因此，由于导入的废水和含氧气体的作用，容易发生催化剂层内的固体催化剂移动、振动等运动，由固体催化剂磨损、废水中所含的水垢成分(Cu、Fe等重金属类和Ca、Al等)在催化剂表面析出从而导致的催化剂处理性能下降等问题的发生是难以避免的。对于从反应塔下部导入的废水等导致的固体催化剂磨损，专利文献1公开了一种废水处理装置，其通过在催化剂层下方设置金属等填充物层(下部填充物层)，可以防止固体催化剂磨损，同时可将废水等均匀地提供到催化剂层，因此能够抑制催化剂处理效率下降。专利文献2公开了通过将无催化剂湿式氧化反应层设置在固体催化剂层之前，来提高固体催化剂层的处理效率。另外，专利文献3公开了通过在固体催化剂层的上部设置气液分散部件来改善处理效率。现有技术文献专利文献专利文献1：特许第5330751号公报专利文献2：日本特开2001-276855号公报专利文献3：日本特开2004-098023号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题的确，专利文献1公开了通过设置下部填充物层，可以防止催化剂磨损，抑制催化剂处理效率下降。但是，专利文献1公开的废水处理装置存在这样的问题：如果废水中含有水垢成分(Cu、Fe等重金属类和Ca、Al等)，则水垢成分会以离子状态到达催化剂层并在催化剂表面析出，从而损害催化剂的活性。另一方面，专利文献2中虽然通过设置无催化剂湿式氧化反应层，提高了固体催化剂层的耐久性，但是其废水处理能力不足，需要配备第1处理工序和第2处理工序的反应塔，且需要对其分别进行控制，因此在成本上是不利的。另外，专利文献3中虽然通过设置气液分散部件，改善了固体催化剂层的处理效率，但与专利文献1所述的技术方案同样地存在由于水垢成分导致的耐久性不足。为此，本专利技术的目的在于提供一种废水处理装置和废水处理方法，能够防止水垢成分以离子状态到达催化剂层，即能够防止水垢成分在催化剂表面析出，从而能够高度维持催化剂的处理性能，同时结构简单且成本低廉。用于解决问题的方案本专利技术人为了解决上述技术问题进行了大量研究。首先，研究了将专利文献1公开的技术与专利文献2公开的技术合到一起的方式，具体来说，是研究了将专利文献1的反应塔下部与专利文献2的无催化剂湿式氧化反应层相结合的方式，但未能获得足够的效果。为此，考虑可能是由于气液的分散性差，并参考专利文献3在无催化剂湿式氧化反应层上设置了分散板，但也未能获得足够的效果。进而对分散板的设置进行各种分析之后，结果发现通过配备至少2块分散板，并将其设置在特定的范围内，可以解决上述技术问题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的第一方面涉及一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板2、分散板1、填充物层和催化剂层，将所述分散板2与所述分散板1之间的距离设为H1，将所述分散板1与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。本专利技术的第二方面涉及一种处理方法，该处理方法为废水处理方法，使用从废水供应侧起至少依次具有气体-液体扩散部1、气体-液体扩散部2、气体-液体扩散部3和催化剂层的装置，所述废水中分散有气体，该处理方法满足以下(1)～(3)：(1)所述气体-液体扩散部1～3中的所述废水的滞留时间均为0.5秒以上；(2)所述气体-液体扩散部3与所述气体-液体扩散部2中的废水的滞留时间的总和为5秒以上；以及(3)所述(2)的废水的滞留时间的总和为所述气体-液体扩散部1中的废水的滞留时间的0.1～100倍。专利技术的效果根据本专利技术，可提供一种废水处理装置和废水处理方法，能够防止水垢成分在催化剂表面析出，从而能够高度维持催化剂的处理性能，同时结构简单且成本低廉。附图说明图1是示出本专利技术一个实施方式中的废水处理方法的示意图。图2是示出实施例和比较例中使用的废水处理装置的示意图。图3-1是示出实施例中使用的废水处理装置的示意图。图3-2是示出实施例中使用的废水处理装置的示意图。图3-3是示出实施例中使用的废水处理装置的示意图。图3-4是示出实施例中使用的废水处理装置的示意图。图3-5是示出比较例中使用的废水处理装置的示意图。图4是示出实施例中使用的废水处理装置的示意图。图5是示出本专利技术的分散板的一例的示意图。具体实施方式以下详细说明用于本专利技术的具体实施方式，但本专利技术的保护范围应以权利要求书的记载为准，并不限于下述实施方式。＜第一方面：废水处理装置＞根据本专利技术的一个方面，提供一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板2、分散板1、填充物层和催化剂层，将所述分散板2与所述分散板1之间的距离设为H1，将所述分散板1与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。本专利技术的废水处理装置中，将分散板2与分散板1之间的距离设为H1，将分散板1与填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将填充物层的层长设为H3，并将催化剂层的层长设为H4(单位：mm)。如果在催化剂层的废水排出侧也设置填充物层，则将该填充物层的层长设为H5。另外，将H2与H3的和设为H6。分散板2与分散板1之间的距离(H1)是指，从分散板2的废水排出侧的面到分散板1的废水供应侧的面为止的距离。分散板中，废水供应侧和排出侧的面为如下定义。在废水处理装置与地面垂直设置，从废水处理装置的下部供应废水，从废水处理装置的上部排出废水的情况下，分散板的废水排出侧的面(上表面)和废水供应侧的面(下表面)是指，以各面中最高部位与最低部位之间的中间位置为准的面。该定义同样适用于分散板的表面不平坦的情况或倾斜的情况。不过，如果是像图2中的分散板15-2那样具有碰撞板的情况，则是以除碰撞板以外最高部位与最低部位之间的中间位置为准。另外，通常来说，废水排出侧的面和废水供应侧的面与相对于废水的供应方向垂直的面(地面)平行。此时，废水供应侧和排出侧的面平行。分散板1与填充物层的废水供应侧界面之间的距离(H2)是指，从分散板1的废水排出侧的面到填充物层的供应侧界面为止的距离。填充物层的废水供应侧和排出侧的界面为如下定义。由于填充物层中填充有填充物，因此废水供应侧和排出侧露出的面有时不是完全的平面。在废水处理装置与地面垂直设置，从废水处理装置的下部供应废水，从废水处理装置的上部排出废水情况下，废水供应侧界面(上表面)和排出侧界面(下表面)是指，以在填充物层的上表面或下表面露出的填充物中最低部位与最高部位之间的中间位置为准的面。该定义同样适用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板2、分散板1、填充物层和催化剂层，将所述分散板2与所述分散板1之间的距离设为H1，将所述分散板1与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。

【技术特征摘要】
2017.03.15 JP 2017-0503541.一种处理装置，该处理装置为废水处理装置，从废水供应侧起，依次具有分散板2、分散板1、填充物层和催化剂层，将所述分散板2与所述分散板1之间的距离设为H1，将所述分散板1与所述填充物层的废水供应侧界面之间的距离设为H2，将所述填充物层的层长设为H3，并将所述H2与所述H3的总和设为H6时，所述H6大于100mm，且所述H6与所述H1的比(H6/H1)为0.1以上且100以下。2.根据权利要求1所述的处理装置，所述H1为10mm以上且1000mm以下。3.根据权利要求1或2所述的处理装置，所述分散板1和所述分散板2中的至少一者为多孔板，所述多孔板的孔数为每1m2有5个以上且200个以下。4.根据权利要求1～3的任意一项所述的处理装置，所述填充物层为双层结构。5.根据权利要求4所述的处理装置，所述双层结构的填充物层中，将废水供应侧的填充物层设为填充物层1，且将催化剂层侧的填充物层设为填充物层2时，所述填充物层2的层长为30mm以上且500mm以下。6.根据权利要求4或5所述的处理装置，所述双层结构的填充物层中，将废水供应侧的填充物层设为填充物层1，且将催化剂层侧的填充物层设为填充物层2时，所述填充物层1所含的填充物1的平均粒径d1、所述填充物层2所含的填充物2的平均粒径d2和所述催化剂层所含的催化剂的平均粒径d0满足d1＞d2＞d0的关系。7.根据权利要求1～6...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊凉慈，
申请(专利权)人：株式会社日本触媒，
类型：发明
国别省市：日本,JP