一种偏光片的制备方法、偏光片、显示基板及显示装置制造方法及图纸

本申请提供了一种偏光片的制备方法、偏光片、显示基板及显示装置，其中偏光片包括偏光层以及形成在偏光层上的金属膜层，金属膜层沿偏光层的边缘设置；当本申请提供的偏光片贴附至基板后，设置在边缘区域的金属膜层与基板周边区域的金属布线如栅极驱动线路等形成电容，并与基板自身的周边电容串联，从而降低基板的周边容值，提高基板周边与内部的容值均一性。

【技术实现步骤摘要】
一种偏光片的制备方法、偏光片、显示基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种偏光片的制备方法、偏光片、显示基板及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展，对模组资材的要求也越来越高。近年来触控与显示驱动器集成TDDI(TouchandDisplayDriverIntegration)产品以优异的性价比，在市场中占有越来越大比重。但由于产品驱动方式的变更，使基板的周边存在容值偏高的问题，也就是基板的周边与内部的容值一致性差，容易导致触控失效及显示异常等严重后果。
技术实现思路
本专利技术提供一种偏光片的制备方法、偏光片、显示基板及显示装置，以降低基板的周边容值。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种偏光片，所述偏光片包括：偏光层以及形成在所述偏光层上的金属膜层，所述金属膜层沿所述偏光层的边缘设置。可选地，所述金属膜层的材料为铝或钼。可选地，所述金属膜层的厚度大于或等于2000埃，且小于或等于5000埃。可选地，所述金属膜层沿所述偏光层的边缘呈环状设置，所述金属膜层的宽度小于或等于0.5毫米。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种显示基板，所述显示基板包括基板以及贴附至所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括：偏光层以及形成在所述偏光层上的金属膜层，所述金属膜层沿所述偏光层的边缘设置。

【技术特征摘要】
1.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括：偏光层以及形成在所述偏光层上的金属膜层，所述金属膜层沿所述偏光层的边缘设置。2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述金属膜层的材料为铝或钼。3.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述金属膜层的厚度大于或等于2000埃，且小于或等于5000埃。4.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述金属膜层沿所述偏光层的边缘呈环状设置，所述金属膜层的宽度小于或等于0.5毫米。5.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括基板以及贴附至所述基板上的如权利要求1至4任一项所述的偏光片。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述基板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括栅极驱动线路；所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：于亚楠，李岩锋，王晓康，赵欣，徐敬义，任艳伟，张慧杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11