偏振片的制造方法技术

本发明专利技术提供一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在上述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在上述转印膜的上述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及从上述转印膜剥离上述基材的工序，当形成上述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，上述基材的形成上述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，上述光学薄膜的厚度为1～10μm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振片的制造方法
本专利技术涉及一种偏振片的制造方法。
技术介绍
偏振片为构成液晶显示装置的必需部件。通常的偏振片具有在聚乙烯醇(PVA)类树脂中吸附碘络合物等二色性色素并使其取向而成的偏振膜的一个面或两个面上贴合有光学薄膜的结构。近年的液晶显示装置中，薄型化和大型化正迅速发展，并且伴随环境变化而在液晶显示装置的显示面上发生光不均匀的问题变得明显。在作为液晶显示装置的必需部件的偏振片中，薄型化和大型化也在发展，成为偏振片的变形容易引起面板的显示故障的状况。具体而言，认为当偏振片进行伸缩时，贴合在偏振片的液晶面板翘曲，此外背光部件等也发生变形而使面板与背光部件接触，从而发生光不均匀。为了解决该问题，提出了使用由光弹性系数小的丙烯酸类树脂形成的光学薄膜的方式(专利文献1)等。并且，提出了含有丙烯酸类树脂和苯乙烯类树脂并且光弹性系数小、延迟大的相位差膜以及偏振片(专利文献2)；含有苯乙烯类树脂、延迟大的相位差膜(专利文献3)等。另一方面，提出了胶乳适用于偏振片保护膜与偏振器之间的粘接层(专利文献4)、以及组合了透明基材与胶乳层且透湿度低的偏振片用保护膜(专利文献5)。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-122663号公报专利文献2：日本特开2008-146003号公报专利文献3：日本特开2008-185659号公报专利文献4：日本专利第4352705号公报专利文献5：日本特开2008-256747号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题进行了深入研究的结果，对于专利文献1中所公开的丙稀酸类薄膜或专利文献2中所公开的丙烯酸-苯乙烯类薄膜，它们与偏振层的粘接性并不充分，由于加工成芯片状时会在端面产生剥离或破裂，因此容易从进行了加工的偏振片的端面产生碎屑，得知显示性能变差。专利文献3中所公开的苯乙烯类薄膜的脆性不足由于需要在制膜工序中增加膜厚，因此很难设为小延迟，从而得知显示性能变差。专利文献4和专利文献5中所记载的胶乳的膜厚通过在与偏振器相反一侧具有偏振片保护膜而变厚，结果得知容易发生光不均匀。本专利技术所要解决的课题在于，提供一种没有变形故障且能够抑制在安装到液晶显示装置时伴随环境变化而发生的液晶显示装置的光不均匀的偏振片。用于解决技术课题的手段为了改善偏振片的光不均匀，制作在支撑体上形成有胶乳层作为光学薄膜的转印膜，并且发现通过在偏振器上贴合光学薄膜并剥离支撑体，从而能够解决上述课题。具体而言，能够通过下述方法来解决上述课题。[1]一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在上述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在上述转印膜的上述光学薄膜侧表面贴合偏振器的工序；以及从上述转印膜上剥离上述基材的工序，当形成上述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，上述基材的形成上述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，上述光学薄膜的厚度为1～10μm。[2]根据[1]所述的偏振片的制造方法，其中，在上述偏振器的与光学薄膜相反一侧具有保护膜。[3]根据[1]或[2]所述的偏振片的制造方法，其中，上述偏振器由聚乙烯醇类树脂形成。为了改善偏振片的光不均匀，偏振片的液晶显示装置侧的光学薄膜较薄是有效的，进一步得知通过对光学薄膜使用实质上不溶解于环己酮的胶乳层，从而改善光不均匀的效果显著。推测为由实质上不溶解于环己酮的胶乳形成的光学薄膜不易向偏振片传递周围的温度湿度变化的影响。具体实施方式对本专利技术的内容进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时根据本专利技术的代表性实施方式而完成，但本专利技术并不限定于这种实施方式。另外，本申请说明书中，“～”是以将记载于其前后的数值作为下限值和上限值而包含的含义来使用。＜胶乳＞胶乳是表示树脂在分散介质中分散成粒子状的分散物。作为上述分散介质，例如可举出水。作为胶乳，能够从丙稀酸酯类胶乳、甲基丙烯酸系胶乳以及苯乙烯类胶乳中选择。并且，该胶乳可以是在(a)二烯烃类单体、(b)乙烯基单体、(c)由在1种以上的分子内具有2个以上的乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或烯丙基的单体形成的单体混合物中存在(d)由α-甲基苯乙烯二聚物和其他聚合链转移剂形成的聚合链转移剂的条件下，在水性介质中进行乳化聚合而得到的共聚物胶乳。形成共聚物的一种单体即(a)二烯烃类单体可举出作为共轭二烯的丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等，尤其优选使用丁二烯。作为共聚物的第2成分即(b)乙烯基单体，只要是原本具有乙烯基的单体，则可以使用任何单体，优选如为下述所示的单体，可举出苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯、氯乙烯、乙酸乙烯酯及它们的衍生物、丙稀酸的烷基酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯醛、甲基丙烯醛、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、N-羟甲基化丙烯酰胺、N-羟甲基化甲基丙烯酰胺、异氰酸乙烯酯、异氰酸烯丙酯等。作为上述苯乙烯的衍生物，例如可举出甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯等。作为丙稀酸的酯中优选的酯，可举出丙稀酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯。并且，作为在共聚物的第3成分即(c)分子内具有2个以上的乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基或烯丙基的单体，可举出二乙烯基苯、1,5-己二烯-3-炔、己三烯、二乙烯基醚、二乙烯基砜、邻苯二甲酸二烯丙酯、二烯丙基甲醇、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二甲基丙烯酸酯等通常在聚合乙烯基单体时添加的所谓的交联剂。共聚物中的(a)二烯烃单体的含量为共聚物总量的10～60质量％，尤其优选为15～40质量％。(b)乙烯基单体为总量的90～40质量％，尤其优选上述乙烯基单体、特别是苯乙烯类为共聚总量的70～40质量％。(c)在分子内具有2个以上的乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及烯丙基的单体相对于(a)二烯烃单体与(b)乙烯基单体的总计，为0.01～10质量％，尤其优选为0.1～5质量％。作为(d)聚合链转移剂中的α-甲基苯乙烯二聚物，具有(A)2-4-二苯基-4-甲基-1-戊烯、(B)2-4-二苯基-4-甲基-2-戊烯、(C)1-1-3-三甲基-3-苯基茚满作为异构体。作为α-甲基苯乙烯二聚物而优选的组成是(A)成分为40质量％以上、(B)成分和/或(C)成分为60质量％以下，进一步优选(A)成分为50质量％以上、(B)成分和/或(C)成分为50质量％以下，尤其优选(A)成分为70质量％以上、(B)成分和/或(C)成分为30质量％以下。随着(A)成分的组成比率的增加，链转移效果优异。α-甲基苯乙烯二聚物在不损害本专利技术的目的的范围内，也可以含有杂质，例如未反应的α-甲基苯乙烯、除上述(A)、(B)、(C)成分以外的α-甲基苯乙烯低聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在所述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在所述转印膜的所述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及从所述转印膜上剥离所述基材的工序，当形成所述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，所述基材的形成所述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，所述光学薄膜的厚度为1～10μm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.05 JP 2016-020819;2016.12.22 JP 2016-250141.一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在所述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在所述转印膜的所述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：並河均，佐佐田泰行，奥田周平，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP