压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片技术

本发明专利技术提供一种压延铜遮光圈片制备方法，所述方法包括如下步骤：提供已成型的由压延铜材料制成的遮光圈片；对遮光圈片进行除油处理；对遮光圈片进行抛光处理；对遮光圈片进行电镀处理，使遮光圈片表面电镀一层铜瘤层增加遮光圈片表面的粗糙度；对遮光圈片进行活化处理；对遮光圈片进行黑化处理，以改变遮光圈片表面的色泽；对遮光圈片进行干燥处理，得到压延铜遮光圈片的成品。本发明专利技术还提供一种压延铜遮光圈片。本发明专利技术提供的压延铜遮光圈片制备方法步骤简单、可实施性强，制得的压延铜遮光圈片的哑黑结构稳定、不易脱落，而且本发明专利技术的压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片还具有容易黑化、工艺简单、黑化后反射率低的特点。

【技术实现步骤摘要】
压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片
本专利技术涉及摄像
，尤其涉及一种压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片。
技术介绍
随着科学技术的快速发展，数码照相机和带数码照相机的手机迅速普及，这些光学仪器所使用的光学零件逐渐得到改进。遮光圈片是光学系统中用于调控光通量的光学元件，外界光线进入镜头时，经由在镜片之间设置的遮光圈片可阻挡不需要的光线进入，来防止在摄像图像中产生耀斑或重影。相关技术中，遮光圈片采用日本SOMA遮光材料制成，该种材料为双哑黑的聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethyleneterephthalate，PET)，而该材料制成的遮光圈片存在不易导电、不耐高温等缺陷，而且遮光圈片表面的哑光结构容易老化脱落，影响遮光性能。因此，有必要提供一种新的压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种步骤简单、可实施性强的压延铜遮光圈片制备方法及一种性能稳定的压延铜遮光圈片。为了达到上述目的，本专利技术提供一种压延铜遮光圈片制备方法，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压延铜遮光圈片制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜；使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈表面的凹凸结构；将经过抛光处理的所述遮光圈片置于电镀液中进行电镀处理，以在所述遮光圈片表面附着一层铜瘤层增加所述遮光圈片表面的粗糙度，其中，所述电镀处理的温度为20～40℃，时间为1～5分钟，电流密度为0.1～1.0A/dm2，所述电镀液中各组分的含量为：五水硫酸铜30～60g/L，质量浓度为98％的硫酸100～150g/L，质量浓度为36％的盐...

【技术特征摘要】
1.一种压延铜遮光圈片制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜；使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈表面的凹凸结构；将经过抛光处理的所述遮光圈片置于电镀液中进行电镀处理，以在所述遮光圈片表面附着一层铜瘤层增加所述遮光圈片表面的粗糙度，其中，所述电镀处理的温度为20～40℃，时间为1～5分钟，电流密度为0.1～1.0A/dm2，所述电镀液中各组分的含量为：五水硫酸铜30～60g/L，质量浓度为98％的硫酸100～150g/L，质量浓度为36％的盐酸0.1～1ml/L，聚乙二醇1～8g/L；使用活化剂对经过电镀处理的所述遮光圈片进行活化处理，以增加所述遮光圈片表面的活性；使用黑化液对活化后的所述遮光圈片进行黑化处理，以改变所述遮光圈片表面的色泽；在小于200℃的真空条件下对经过黑化处理的所述遮光圈片进行干燥处理，得到所述压延铜遮光圈片的成品。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电镀处理中需要...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍雷，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡,SG