【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法
本专利技术涉及带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法，特别涉及一种适合修正射束轨道相对于理想光轴的偏差，从而稳定地获得高分辨率图像的带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法。
技术介绍
带电粒子束装置是将从带电粒子源放出的电子束、离子束等带电粒子束向试样进行照射的装置。在这样的装置中，具有具备照射光学系统镜筒和成像光学系统镜筒的装置。专利文献1公开了具备照射光学系统与成像光学系统的2个镜筒的电子显微镜。并且，在专利文献1中，说明了通过对试样照射紫外线，使试样带电，并通过向带电状态的试样照射电子束，来进行缺陷检测。另外，专利文献2与专利文献1同样公开了具备2个光学系统的电子显微镜。并且，在专利文献2中说明了一种评价方法，该评价方法为了进行维纳滤波器、成像光学系统的光轴调整，在原本作为电子束照射对象的试样的位置配置自发地放出检查用电子束的检查图，使用从该检查图放出的电子来评价成像光学系统的光学性能，上述维纳滤波器用于将照射试样的电子束和从试样放出的电子的轨道进行分离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第47903...
【技术保护点】
1.一种带电粒子束装置，其具备：将从带电粒子源放出的带电粒子的经过轨道包围的第1带电粒子镜筒；使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器；以及通过向所述对象物照射所述带电粒子而得到的带电粒子所经过的第2带电粒子镜筒，其特征在于，所述带电粒子束装置具备：光源，其向所述对象物照射光；以及控制装置，其根据对应于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，从该多个偏转信号中选择通过从所述带电粒子源照射带电粒子而得到的信息满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来运算通过从所述带电粒子源照射带电粒子而得到的...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带电粒子束装置，其具备：将从带电粒子源放出的带电粒子的经过轨道包围的第1带电粒子镜筒；使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器；以及通过向所述对象物照射所述带电粒子而得到的带电粒子所经过的第2带电粒子镜筒，其特征在于，所述带电粒子束装置具备：光源，其向所述对象物照射光；以及控制装置，其根据对应于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，从该多个偏转信号中选择通过从所述带电粒子源照射带电粒子而得到的信息满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来运算通过从所述带电粒子源照射带电粒子而得到的信息满足预定条件的偏转信号。2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，所述偏转器以如下方式使带电粒子偏转：使在第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向所述对象物偏转，并且将在该对象物上方进行了反射的带电粒子导向所述第2带电粒子镜筒的光轴。3.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，所述偏转器是维纳滤波器。4.根据权利要求3所述的带电粒子束装置，其特征在于，所述控制装置求出成为所述某个偏转状态的所述维纳滤波器的多个电场与磁场的组合。5.根据权利要求4所述的带电粒子束装置，其特征在于，所述带电粒子束装置具备拍摄元件，该拍摄元件被配置在所述第2带电粒子镜筒内，所述控制装置求出所述多个电场与磁场的组合，使得根据所述光的照射而产生的在所述第2带电粒子镜筒内经过从而到达所述拍摄元件的带电粒...
【专利技术属性】
技术研发人员：尾方智彦，长谷川正树，村越久弥，小贯胜则，兼冈则幸，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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