形成有金属纳米线层的基材及其制造方法技术

本发明专利技术提供形成有金属纳米线层的基材及其制造方法，所述金属纳米线层对于迁移、硫化、氧化等具有高的耐久性并且具有高的机械强度。一种形成有金属纳米线层的基材，通过在基材上形成金属纳米线层，并赋予外部能量，从而使金属纳米线的一部分处于被埋入具有可挠性的基材的状态，露出的金属纳米线的一部分或全部被镀敷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】形成有金属纳米线层的基材及其制造方法
本专利技术涉及形成有金属纳米线层的基材及其制造方法。
技术介绍
金属纳米线不仅是能够形成与以往的以ITO为代表的透明导电膜材料相比透明性、导电性优异的透明导电体的材料，由于弯曲、伸缩等机械耐久性优异，因此还用于形成采用具有可挠性的薄膜基材等的透明导电膜等。例如，下述专利文献1公开了使用金属纳米线的导电图案的制造方法。但是，将由银、铜等制作的金属纳米线用于透明导电膜材料的情况下，有时由于迁移、硫化、氧化等导致透明导电膜的劣化进行。因此，为了谋求金属纳米线的耐久性提高，将石墨烯、聚合物向透明导电膜的整个面涂布，但并没有确保高的耐久性。近年来，提出对银纳米线实施镀敷从而使耐久性提高的技术。例如下述专利文献2公开了对银纳米线的表面镀敷银以外的金属的技术构成。另外，下述专利文献3记载了直线状金属纳米线彼此在交点接合从而形成网格的导电膜，上述接合通过压接或镀敷完成。但是，上述现有技术中的镀敷技术，金属纳米线容易从基板剥离，无法进行稳定的镀敷处理。另外，仅通过在基板上形成由金属纳米线构成的透明导电膜，无法相对于弯曲、伸缩得到高的机械强度。在先技术文献专利文献1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种形成有金属纳米线层的基材，其特征在于，金属纳米线的一部分处于被埋入基材的状态，露出的金属纳米线的一部分或全部被镀敷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.18 JP 2016-0555021.一种形成有金属纳米线层的基材，其特征在于，金属纳米线的一部分处于被埋入基材的状态，露出的金属纳米线的一部分或全部被镀敷。2.根据权利要求1所述的形成有金属纳米线层的基材，所述金属纳米线的至少一部分被连结。3.根据权利要求1或2所述的形成有金属纳米线层的基材，所述基材是聚氨酯、硅树脂、饱和聚酯、聚碳酸酯、注册商标为派瑞林的聚对二甲苯、热塑性聚酰亚胺、聚醚砜、丙烯酸类树脂、聚烯烃、聚氯乙烯之中的任一者。4.根据权利要求1～3的任一项所述的形成有金属纳米线层的基材，构成所述金属纳米线的金属是银或铜。5.一种形成有金属纳米线层的基材的制造方法，其特征在于，具备以下工序：在基材上形成金...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒木彻平，关谷毅，菅沼克昭，酒金婷，大籏英树，内田博，原真尚，中泽惠理，
申请(专利权)人：国立大学法人大阪大学，昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP