膜以及用于制造膜的方法技术

技术编号:19075643 阅读:50 留言:0更新日期:2018-09-29 17:46
本发明专利技术涉及一种膜(1)、一种用于制造膜(1)的方法、膜(1)用于施加到目标基质(10)上的应用以及一种用于制造电功能元件的方法。膜(1)在这里具有载体基质(2)、用于施加膜(1)到目标基质(10)上的增附剂层(4)和至少一个导电层(3),其中所述至少一个导电层(3)在功能区域(21)中构成电功能结构,其中所述至少一个导电层(3)在至少一个触点接通区域(20)中构成至少一个触点接通结构,以用于触点接通电功能结构,并且其中在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,增附剂层(4)至少局部地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20)或其中在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,增附剂层(4)整面地施加。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜以及用于制造膜的方法
本专利技术涉及一种膜、一种用于制造膜的方法、膜用于施加到目标基质上的应用以及一种用于制造电功能元件的方法。
技术介绍
组合的输入和输出仪器如也称为传感器屏幕的触摸屏有多样的应用。这样通过使用触摸屏例如使得能够通过接触触摸屏来控制计算机程序。通常为此将探测接触的触摸传感器区设置在显示元件、例如液晶显示器上。触摸传感器区因此使得能够控制由显示元件产生的图像。因此不需要其他的输入仪器、如计算机鼠标或键盘或只对于特殊应用需要。由于其通常光滑的表面,触摸传感器区较不易沾染污物并且比其他输入仪器更容易清洁。此外其使得用户能够进行直观的操作。因此触摸传感器例如在移动电话、尤其是智能手机以及PDA、平板电脑、自动取款机、自动售票机、街机和游戏机并且也在家用电器或机动车中多样化地使用。为了制造这种触摸屏,目前为止将触摸传感器借助单独存在的粘合薄膜粘接到目标基质、例如显示元件上。粘合薄膜在这里具有非自支承的胶粘剂层,所述胶粘剂层设置在两个所谓的衬层之间。为了施加触摸传感器,在第一步骤中去除粘合薄膜的一个衬层并且随后将胶粘剂层粘到触摸传感器上。在第二步骤中去除剩余的衬层并将触摸传感本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.膜(1),其具有载体基质(2)、用于将膜(1)施加到目标基质(10)上的增附剂层(4)和至少一个导电层(3),其中所述至少一个导电层(3)在功能区域(21)中构成电功能结构,其中所述至少一个导电层(3)在至少一个触点接通区域(20)中构成至少一个触点接通结构,以用于电功能结构的触点接通,并且在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,增附剂层(4)至少局部地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20),或者在垂直于由载体基质(2)限定的平面的观察时,增附剂层(4)是整面地施加的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.04 DE 102015121195.5;2016.02.01 DE 10201611.膜(1),其具有载体基质(2)、用于将膜(1)施加到目标基质(10)上的增附剂层(4)和至少一个导电层(3),其中所述至少一个导电层(3)在功能区域(21)中构成电功能结构,其中所述至少一个导电层(3)在至少一个触点接通区域(20)中构成至少一个触点接通结构,以用于电功能结构的触点接通,并且在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,增附剂层(4)至少局部地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20),或者在垂直于由载体基质(2)限定的平面的观察时,增附剂层(4)是整面地施加的。2.按照权利要求1所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个导电层(3)设置在载体基质(2)和增附剂层(4)之间。3.按照权利要求1所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)设置在载体基质(2)的背离所述至少一个导电层(3)的侧面上。4.按照权利要求1至3之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)至少局部地覆盖功能区域(21)。5.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)整面地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20)。6.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,增附剂层(4)没有覆盖与所述至少一个触点接通区域(20)邻接的区域(24),并且与所述至少一个触点接通区域(20)邻接的区域(24)具有至少0.2mm的宽度。7.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,膜(1)包括剥离层(5),其中在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,剥离层(5)至少局部地覆盖所述至少一个触点接通区域(20)。8.按照权利要求6和7所述的膜(1),其特征在于,剥离层(5)覆盖与所述至少一个触点接通区域(20)邻接的区域(24)。9.按照权利要求7或8之一所述的膜(1),其特征在于,剥离层(5)具有0.1μm至10μm之间、优选0.01μm至5μm之间的层厚。10.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)是聚合物和/或共聚物的层,尤其是包括PMMA、聚酯、PU或PVC。11.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)具有0.1μm至50μm之间、优选0.25μm至25μm之间、进一步优选0.5μm至7μm之间的层厚。12.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)由施加到目标基质(10)上之后高度透明的材料制成,尤其是增附剂层(4)由这样的材料制成,所述材料在施加到目标基质(10)上之后对于波长范围在380nm至780nm之间的光具有多于85%、优选多于90%的透射率。13.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)由施加到目标基质(10)上之后清澈的材料制成,尤其是增附剂层(4)由这样的材料制成,所述材料在施加到目标基质(10)上之后使波长范围在380nm至780nm之间的光少于8%、优选少于4%通过散射转向。14.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,增附剂层(4)由热胶粘剂、冷胶粘剂或可辐射硬化的胶粘剂、尤其是可通过电磁辐射和/或电子辐射硬化的胶粘剂形成。15.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,膜(1)具有保护漆层(6)。16.按照权利要求15所述的膜(1),其特征在于,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,保护漆层(6)至少局部地覆盖所述至少一个导电层(3)。17.按照权利要求16所述的膜(1),其特征在于,保护漆层(6)具有0.1μm至50μm之间、优选0.25μm至25μm之间、进一步优选0.5μm至15μm之间的层厚。18.按照权利要求15至17之一所述的膜(1),其特征在于,保护漆层(6)是透明的保护漆层,尤其是由PMMA、聚酯、PU或PVC制成。19.按照权利要求15至17之一所述的膜(1),其特征在于,保护漆层(6)设置在所述至少一个导电层(3)和增附剂层(4)之间。20.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,用于触点接通电功能结构的所述至少一个触点接通结构是电接头、尤其是插头。21.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个导电层(3)具有接触加强层(7)。22.按照权利要求21所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个导电层(3)在所述至少一个触点接通区域(20)中至少局部地具有所述接触加强层(7),其中所述接触加强层保护所述至少一个触点接通区域(20)以防机械的、物理的和/或化学的环境影响。23.按照权利要求21或22之一所述的膜(1),其特征在于,接触加强层(7)具有在0.1μm至100μm之间、优选在0.25μm至25μm之间、进一步优选在0.5μm至10μm之间的层厚。24.按照权利要求21至23之一所述的膜(1),其特征在于,接触加强层(7)由导电膏、尤其是碳膏形成,所述导电膏具有银、金、铝、铜、铬和/或其他导电的金属。25.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,膜(1)在施加到目标基质(10)上之后至少在所述至少一个导电层(3)的功能区域(21)中对波长范围在380nm至780nm之间的光具有多于75%、优选多于80%、进一步优选多于85%、还进一步优选多于90%的透射率。26.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,所述电功能结构构成触摸传感器区、尤其是电容性的传感器区,所述触摸传感器区提供触摸区功能。27.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,所述膜(1)具有至少两个导电层(3a、3b)、尤其是第一导电层(3a)和第二导电层(3b)。28.按照权利要求27所述的膜(1),其特征在于,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,所述至少两个导电层(3a、3b)至少局部重叠地设置。29.按照权利要求27或28之一所述的膜(1),其特征在于,所述至少两个导电层(3a、3b)彼此配合精确地设置,尤其是所述至少两个导电层(3a、3b)相对于彼此以少于0.25mm、优选少于0.1mm的误差设置。30.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个导电层(3)和/或两个导电层(3a、3b)具有多个导体线路(31、32)。31.按照权利要求30所述的膜(1),其特征在于,所述导体线路(31、32)彼此间隔开,尤其是所述导体线路(31、32)具有0.2μm至20μm之间、优选4μm至15μm之间的宽度(26),并且彼此间具有大于10μm、优选大于20μm的距离(27)。32.按照权利要求30或31之一所述的膜(1),其特征在于,第一导电层(3a)和第二导电层(3b)的导体线路(31、32)分别按照线栅格设置,其中尤其是所述线栅格相对于彼此转过90°。33.按照权利要求30至32之一所述的膜(1),其特征在于,第一导电层(3a)和第二导电层(3b)的导体线路(31、32)是结构化的,尤其是第一导电层(3a)和第二导电层(3b)的导体线路(31、32)构成多个面元素(33)、优选是菱形的或斜方形的面元素(33)。34.按照权利要求30至33之一所述的膜(1),其特征在于,所述至少两个导电层(3a、3b)的触点接通区域(20a、20b)在共同的触点接通区域(20c)中汇合。35.按照权利要求34所述的膜(1),其特征在于,所述共同的触点接通区域(20c)通过适配器元件(51)电触点接通。36.按照权利要求30至35之一所述的膜(1),其特征在于,所述导体线路(31、32)由金属、尤其是由银、金、铝、铜或铬以在1nm至100nm之间、优选在2.5nm至75nm之间、进一步优选在5nm至50nm之间的层厚构成。37.按照权利要求30至35之一所述的膜(1),其特征在于,导体线路(31、32)由包含银、金、铜和/或碳的导电膏构成。38.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,所述膜(1)具有至少一个中间粘附层(11)。39.按照权利要求38所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个导电层(3)设置在载体基质(2)和所述至少一个中间粘附层(11)之间。40.按照权利要求38所述的膜(1),其特征在于,所述至少一个中间粘附层(11)设置在载体基质(2)的背离所述至少一个导电层(3)的侧面上。41.按照权利要求38至40之一所述的膜(1),其特征在于,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,所述至少一个中间粘附层(11)至少局部地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20)。42.按照权利要求38至41之一所述的膜(1),其特征在于,第一中间粘附层(11)至少局部地覆盖所述功能区域(21)。43.按照权利要求38至42之一所述的膜(1),其特征在于,所述中间粘附层(11)整面地没有覆盖所述至少一个触点接通区域(20)。44.按照权利要求38至43之一所述的膜(1),其特征在于,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,所述至少一个中间粘附层(11)基本上设置在与增附剂层(4)相同的区域(22)中,在垂直于由载体基质(2)限定的平面观察时,所述至少一个中间粘附层(11)尤其是基本上与增附剂层(4)全等重合地设置。45.按照上述权利要求之一所述的膜(1),其特征在于,膜具有一个或...

【专利技术属性】
技术研发人员:M·海因里希A·希施费尔德M·哈恩J·沙德
申请(专利权)人:雷恩哈德库兹基金两合公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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