一种氧化铜介孔纳米片的制备方法技术

本发明专利技术为一种氧化铜介孔纳米片的制备方法。该方法包括以下步骤：在搅拌条件下，将乙酸铜水溶液和氢氧化钠水溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1～4小时；移到高压反应釜中，密封升温到120℃～160℃，自生压力下水热反应12～36小时；室温下原液静置0～3天，然后水洗，再经抽滤，烘干，得到黑色的氧化铜介孔纳米片。本发明专利技术实现氧化铜介孔纳米片材料的绿色、高效、低成本、非表面活性剂导向合成，且该氧化铜介孔纳米片的BET比表面积达到34.7m2/g，高于一些表面活性剂辅助合成的氧化铜介孔材料。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铜介孔纳米片的制备方法
本专利技术的技术方案属于纳米材料技术合成领域，具体为一种氧化铜介孔纳米片的制备方法。
技术介绍
氧化铜的化学式为CuO，是一种铜的黑色氧化物，窄带隙约为1.2电子伏特的p型半导体，具有良好的导电、光电、气敏等特性，同时，氧化铜无毒、价格便宜。纳米氧化铜作为一种新型多功能无机材料，具有广泛的应用前景，可用于高温超导体、电化学传感器、电极材料、光催化降解有机物、CO的催化氧化、氯酸钾和过氧化氢以及高氯酸铵等材料的催化分解等方面。而介孔结构的氧化铜具有更优异的相关性能。介孔材料是指孔径介于2～50纳米的多孔材料。介孔材料因为其高比表面积、高孔容量、狭窄的孔径分布、孔径大小连续可调等特点，赋予了材料更优异的性能和更广泛的应用，尤其在催化剂、催化剂载体和吸附剂等方面有广泛的应用。具有精细孔道结构的新型多孔材料的设计和开发成为目前前沿领域的研究热点。目前合成介孔氧化铜的方法主要有：(1)硬模板法(PingboZhang,YanZhou,MingmingFanetal.PdCl2-loadingmesoporouscopperoxideasanovelandenvi本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化铜介孔纳米片的制备方法，其特征为该方法包括以下步骤：（1）制备20份浓度为0.00045~0.0009摩尔/毫升的乙酸铜水溶液，待用；（2）制备20份浓度为0.036~0.072克/毫升的氢氧化钠水溶液，待用；（3）在搅拌条件下，将步骤(1) (2)中配制的溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1~4小时；（4）然后将步骤(3)中所得混合物移到高压反应釜中，密封升温到120℃~160℃，自生压力下水热反应12~36小时；（5）室温下原液静置0~3天，然后水洗，再经抽滤，烘干，得到黑色的氧化铜介孔纳米片。

【技术特征摘要】
1.一种氧化铜介孔纳米片的制备方法，其特征为该方法包括以下步骤：（1）制备20份浓度为0.00045~0.0009摩尔/毫升的乙酸铜水溶液，待用；（2）制备20份浓度为0.036~0.072克/毫升的氢氧化钠水溶液，待用；（3）在搅拌条件下，将步骤(1)(2)中配制的溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1~4小时；（4）然后将步骤(3)中所得混合物移到高压反应釜中，密封升温到120℃~160℃，自生压力下水热反应12~36小时；（...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘超，刘冲，纪秀杰，赵阳阳，陈琪玲，
申请(专利权)人：河北工业大学，
类型：发明
国别省市：天津,12