气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法，容易控制从容器导出的材料气体的总量。所述气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器(10)导出，该气体控制系统具有控制部(60)，所述控制部(60)控制所述载气的流量，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，该浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器(10)导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部(60)在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制，该第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。

【技术实现步骤摘要】
气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法
本专利技术涉及气体控制系统、具有该气体控制系统的成膜装置以及存储有用于该气体控制系统的程序的存储介质和气体控制方法。
技术介绍
气体控制系统输送在半导体制造工序的成膜处理中使用的材料气体，该气体控制系统像专利文献1公开的那样，向收容有材料的容器导入载气，并将材料气化后的材料气体与载气一起从容器导出为混合气体，测量包含在该混合气体中的材料气体浓度，并且对载气的流量进行PID(比例-积分-微分)控制，以使测量浓度接近预先确定的目标浓度。但是，在所述以往的气体控制系统中，由于在运转前的容器内为填充有预先气化而生成的高浓度的材料气体的状态，所以如果在刚运转后就将包含该高浓度的材料气体的混合气体从容器一下子导出，则包含在混合气体中的材料气体浓度瞬间升高。此外，在利用PID控制使测量浓度接近目标浓度时，因浓度变化有时间延迟，控制开始时有使载气的流量一下子增加的动作。这直接导致产生大幅度超过目标浓度的超调(overshoot)的问题。此外，运转前在容器内预先气化了的材料气体浓度因如下的多种因素而变化，例如：材料的性质、量等材料因素；各管材的内径、容器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体控制系统，向收容有材料的容器导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器导出，所述气体控制系统的特征在于，其包括控制部，所述控制部对所述载气的流量进行控制，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，所述浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制之后进行第二控制，所述第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。

【技术特征摘要】
2017.03.10 JP 2017-0462241.一种气体控制系统，向收容有材料的容器导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器导出，所述气体控制系统的特征在于，其包括控制部，所述控制部对所述载气的流量进行控制，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，所述浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制之后进行第二控制，所述第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。2.根据权利要求1所述的气体控制系统，其特征在于，所述控制部在所述浓度指标值达到所述目标浓度指标值之前切换为所述第二控制。3.根据权利要求1或2所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第一控制中，所述控制部参照开始导入所述载气之后从所述容器导出的混合气体的所述浓度指标值的初始变化率，设定所述规定变化率。4.根据权利要求1或2所述的气体控制系统，其特征在于，所述气体控制系统还具有初始变化率数据存储部，所述初始变化率数据存储部预先存储有在各种条件下测量所述初始变化率的初始变化率数据，在所述第一控制中，所述控制部参照所述初始变化率数据来设定所述规定变化率。5.根据权利要求1或2所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第二控制中，当所述浓度指标值从处于包含所述目标浓度指标值的预先确定的目标浓度指标值范围内的第一状态或不在所述目标指标值范围内的第二状态中的任意一方向另一方转移时，所述控制部使所述载气的流量的变化率偏移规定值。6.根据权利要求5所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第二控制中，当从所述第一状态向所述第二状态转移时，所述控制部使所述载气的流量的变化率以规定值变大的方式偏移，当从所述第二状态向所述第一状态转移时，所述控制部使所述载气的流量的变化率以规定值变小的方式偏移。7.根据权利要求6所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第二控制的所述第一状态或所述第二状态中的任意一方或双方中，所述控制部控制所述载气的流量以固定变化率变化。8.根据权利要求6所述的气体控制系统，其特征在于，所述第二控制是PID控制，在所述第二控制的PID控制中，与所述第一状态相比，所述控制部将所述第二状态的比例增益设定为较大的值。9.根据权利要求6所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第二控制中，所述控制部将所述第一状态的所述载气的流量的变化率控制为0。10.根据权利要求1或2所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第一控制和所述第二控制之间，所述控制部进行将所述载气的流量的变化率控制为0的第三控制。11.根据权利要求1或2所述的气体控制系统，其特征在于，在所述第一控制和所述第二控制之间，所述控制部进行第四控制，所述第四控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差对所述载气的流量进行PID控制。12.根据权利要求11所述的气体控制系统，其特征在于，与所述第四控制的PID控制相比，所述控制部将所述第二控制的PID控制的比例增益设定为较小的值。13.一种气体控制系统，通过向收容有材料的容器导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器导...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂口有平，志水徹，南雅和，林大介，
申请(专利权)人：株式会社堀场STEC，
类型：发明
国别省市：日本,JP