一种高精度机械抛光液制备方法技术

本发明专利技术公开一种高精度机械抛光液制备方法，以重量份计，包括有以下工艺步骤：(1)将6.5‑7.5份石英石粉、0.5‑1.5份油酸、0.8‑1.2份的碳酸、4‑5份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌20‑30min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.2‑0.3份的乙基纤维素钠、0.1‑0.2份的六偏磷酸钠、1.4‑1.5份的玻璃纤维、22‑24份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤（2）得到的混合溶液放入蒸压釜中，蒸汽压力为1.5‑2.5Mpa，蒸压2‑4h，然后冷却至常温，加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8‑10；本发明专利技术具有生产成本降低的优点，同时该抛光液具有平化抛光效率高，不损伤工件表面的优点。

A preparation method of high precision mechanical polishing liquid

The invention discloses a preparation method of high-precision mechanical polishing fluid, which comprises the following technological steps: (1) putting 6.5 7.5 phr of quartz powder, 0.5 1.5 phr of oleic acid, 0.8 1.2 phr of carbonate, 4 5 phr of deionized water into an ultrasonic agitator to stir for 20 30 minutes, grinding, and getting wet quartz micro-grained stone. Powder; (2) The mixed solution obtained by fully mixing the quartzite powder obtained by step (1) with 0.2 0.3 phr sodium ethylcellulose, 0.1 0.2 phr sodium hexametaphosphate, 1.4 1.5 phr glass fiber, 22 24 phr deionized water; (3) the mixed solution obtained by step (2) is put into an autoclave at a steam pressure of 1.5_2.5 Mp. A, autoclave for 2 4h, then cool to normal temperature, add pH regulator to adjust the pH value of the mixed solution to 8 10; The invention has the advantages of low production cost, and the polishing fluid has the advantages of high efficiency of polishing and no damage to the surface of the workpiece.

【技术实现步骤摘要】
一种高精度机械抛光液制备方法
本专利技术涉及机械抛光液领域，具体属于一种高精度机械抛光液制备方法。
技术介绍
化学机械抛光由化学作用、机械作用以及这两种作用结合而成。它通常由一个带有抛光垫的研磨台，及一个用于承载芯片的研磨头组成。其中研磨头固定住芯片，然后将芯片的正面压在抛光垫上。当进行化学机械抛光时，研磨头在抛光垫上线性移动或是沿着与研磨台一样的运动方向旋转。与此同时，含有研磨颗粒的浆液被滴到抛光垫上，并因离心作用平铺在抛光垫上。芯片表面在机械和化学的双重作用下实现全局平坦化。目前，化学机械抛光液所用的研磨颗粒通常采用二氧化硅，包括硅溶胶和气相二氧化硅。它们本身是固体，但是在水溶液中可以均匀分散，不沉降，甚至可以保持1至3年的长期稳定性。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种高精度机械抛光液制备方法，具有生产成本降低的优点，同时该抛光液具有平化抛光效率高，不损伤工件表面的优点。本专利技术所采用的技术方案如下：一种高精度机械抛光液制备方法，以重量份计，包括有以下工艺步骤：(1)将6.5-7.5份石英石粉、0.5-1.5份油酸、0.8-1.2份的碳酸、4-5份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌20-30min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.2-0.3份的乙基纤维素钠、0.1-0.2份的六偏磷酸钠、1.4-1.5份的玻璃纤维、22-24份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤（2）得到的混合溶液放入蒸压釜中，蒸汽压力为1.5-2.5Mpa，蒸压2-4h，然后冷却至常温，加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8-10；(4)将混合溶液的含水率蒸发至60-65%，进行密封灌装成抛光液成品。所述的石英石粉是经过球磨粉碎、过筛、提纯工序制得。所述超声波搅拌器的超声频率为30KHz-50KHz。本专利技术通过石英石作为磨料，以六偏磷酸钠对石英石微粉进行改性，并乙基纤维素钠作为分散剂将石英石高度分散稳定性，同时通过高度浓缩可以大幅降低产品原材料成本。本专利技术具有生产成本降低的优点，同时该抛光液具有平化抛光效率高，不损伤工件表面的优点。具体实施方式实施例一：(1)将6.5份石英石粉、0.5份油酸、0.8份的碳酸、4份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌20min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；石英石粉是经过球磨粉碎、过筛、提纯工序制得，超声波搅拌器的超声频率为30KHz-50KHz；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.2份的乙基纤维素钠、0.1份的六偏磷酸钠、1.4份的玻璃纤维、22份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤（2）得到的混合溶液放入蒸压釜中，蒸汽压力为1.5-2.5Mpa，蒸压2-4h，然后冷却至常温，加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8-10；(4)将混合溶液的含水率蒸发至60-65%，进行密封灌装成抛光液成品。实施例二：一种高精度机械抛光液制备方法，以重量份计，包括有以下工艺步骤：(1)将7.5份石英石粉、1.5份油酸、1.2份的碳酸、5份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌30min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；石英石粉是经过球磨粉碎、过筛、提纯工序制得，超声波搅拌器的超声频率为30KHz-50KHz；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.3份的乙基纤维素钠、0.2份的六偏磷酸钠、1.5份的玻璃纤维、24份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤（2）得到的混合溶液放入蒸压釜中，蒸汽压力为1.5-2.5Mpa，蒸压2-4h，然后冷却至常温，加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8-10；(4)将混合溶液的含水率蒸发至60-65%，进行密封灌装成抛光液成品。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高精度机械抛光液制备方法，以重量份计，其特征在于，包括有以下工艺步骤：(1)将6.5‑7.5份石英石粉、0.5‑1.5份油酸、0.8‑1.2份的碳酸、4‑5份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌20‑30min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.2‑0.3份的乙基纤维素钠、0.1‑0.2份的六偏磷酸钠、1.4‑1.5份的玻璃纤维、22‑24份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤（2）得到的混合溶液放入蒸压釜中，蒸汽压力为1.5‑2.5Mpa，蒸压2‑4h，然后冷却至常温，加入pH调节剂调节混合溶液的pH值至8‑10；(4)将混合溶液的含水率蒸发至60‑65%，进行密封灌装成抛光液成品。

【技术特征摘要】
1.一种高精度机械抛光液制备方法，以重量份计，其特征在于，包括有以下工艺步骤：(1)将6.5-7.5份石英石粉、0.5-1.5份油酸、0.8-1.2份的碳酸、4-5份的去离子水，放入超声波搅拌器搅拌20-30min，进行研磨，得到湿润的石英石微粉；(2)将步骤（1）得到的石英石微粉与0.2-0.3份的乙基纤维素钠、0.1-0.2份的六偏磷酸钠、1.4-1.5份的玻璃纤维、22-24份的去离子水充分混合，得的混合溶液；(3)向步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：唐世群，
类型：发明
国别省市：安徽,34