一种金属掩膜板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种金属掩膜板及其制备方法。所述金属掩膜板包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区；所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部；所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度。本发明专利技术实施例提供的金属掩膜板包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区，所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部，所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度，使金属掩膜板支撑区的厚度相较于现有技术增厚，无需再采用张网技术来崩平金属掩膜板，在保证金属掩膜板制备精度的前提下，避免了金属掩膜板因张网技术使用的拉力导致的形变问题，降低了金属掩膜板在蒸镀机使用上的良率损失。

【技术实现步骤摘要】
一种金属掩膜板及其制备方法
本专利技术实施例涉及掩膜板制造技术，尤其涉及一种金属掩膜板及其制备方法。
技术介绍
有机发光显示器件性能优良，备受用户青睐。像素并置法是使用较为广泛的一种有机发光显示器件的制备方法，采用这种方法制作出的有机发光器件显示色彩纯正，且发光效率高。掩膜框架组件是像素并置法制备有机发光显示器件时所需的治具。现有技术中掩膜框架组件由框架、支撑片、遮挡片、金属掩膜板以及侧边掩膜板组成，支撑片、遮挡片、金属掩膜板以及侧边掩膜板均以张网结合焊接的方式固定在框架上。在上述各部件的固定过程中需要以施加拉力的方式让对应部件崩平，其中，金属掩膜板较薄，施加的拉力会使金属掩膜板产生不同方向的形变，造成在蒸镀机使用上的良率损失。
技术实现思路
本专利技术提供了一种金属掩膜板及其制备方法，以避免金属掩膜板在张网过程中受拉力影响产生形变，降低其在蒸镀机使用上的良率损失。第一方面，本专利技术实施例提供了一种金属掩膜板，所述金属掩膜板包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区；所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部；所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种金属掩膜板的制备方法，所述方法包括：提供一基板；在所述基板上形成第一阻挡层，所述第一阻挡层包括多个相互独立的阻挡块，多个所述阻挡块以及各所述阻挡块之间的间隙所在区域为显示区，所述显示区对应所述基板的中心区域设置；在所述第一阻挡层之外的区域形成第一金属层，所述第一金属层所在区域为支撑区；在所述显示区对应的区域形成第二阻挡层；在所述第二阻挡层之外的区域形成第二金属层；去除所述基板、所述第一阻挡层以及所述第二阻挡层，以获得所述金属掩膜板。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种金属掩膜板的制备方法，所述方法包括：提供一基板在所述基板上形成第一金属层；在所述第一金属层上形成第三阻挡层，所述第三阻挡层所在区域为显示区，对应所述基板的中心区域设置；在所述第三阻挡层之外的区域形成第二金属层，所述第三阻挡层之外的区域为支撑区；去除所述基板以及所述第三阻挡层；以及在所述第三阻挡层对应区域内的第一金属层上形成多个相互独立的像素通孔，以获得所述金属掩膜板。本专利技术实施例提供的金属掩膜板包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区，所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部，所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度，使金属掩膜板支撑区的厚度相较于现有技术增厚，无需再采用张网技术来崩平金属掩膜板，在保证金属掩膜板制备精度的前提下，避免了金属掩膜板因张网技术使用的拉力导致的形变问题，降低了金属掩膜板在蒸镀机使用上的良率损失。附图说明为了更加清楚地说明本专利技术示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本专利技术所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种金属掩膜板的结构示意图；图2是沿图1中虚线AA’的剖面结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的又一种金属掩膜板的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供的一种金属掩膜板的制备方法的流程示意图；图5a、图5c、图5e、图5g是本专利技术实施例二提供的金属掩膜板的制备过程示意图；图5b是沿图5a中虚线BB’的剖面结构示意图；图5d是沿图5c中虚线CC’的剖面结构示意图；图5f是沿图5e中虚线DD’的剖面结构示意图；图5h是沿图5g中虚线EE’的剖面结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的又一种金属掩膜板的制备方法的流程示意图；图7a、图7c、图7e、图7g、图7i是本专利技术实施例三提供的金属掩膜板的制备过程示意图；图7b是沿图7a中虚线FF’的剖面结构示意图；图7d是沿图7c中虚线GG’的剖面结构示意图；图7f是沿图7e中虚线HH’的剖面结构示意图；图7h是沿图7g中虚线II’的剖面结构示意图；图7j是沿图7i中虚线JJ’的剖面结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部内容。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作(或步骤)描述成顺序的处理，但是其中的许多操作可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。当其操作完成时所述处理可以被终止，但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。实施例一图1是本专利技术实施例提供的一种金属掩膜板的结构示意图。图2是沿图1中虚线AA’的剖面结构示意图。如图1和图2所示，金属掩膜板10包括显示区110以及至少设置于所述显示区110相对两侧的支撑区120，所述显示区110包括多个像素开孔111以及网格状遮光部112，所述支撑区120的厚度大于所述网格状遮光部112的厚度。需要说明的是，设置支撑区120的厚度大于网格状遮光部112的厚度，使得将金属掩膜板10固定在框架上时，无需再采用张网技术来崩平金属掩膜板10，能够在保证金属掩膜板10制备精度的前提下，避免金属掩膜板10因张网技术中拉力导致的形变问题，降低了金属掩膜板10在蒸镀机使用上的良率损失。值得注意的是，由于显示区110中网格状遮光部112的厚度从一定程度上影响着金属掩膜板10镀膜厚度以及精度，因此为提高镀膜精度，本专利技术中的网格状遮光部112的厚度与现有技术中金属掩膜板10的厚度相近，具体的，所述网格状遮光部112的厚度取值范围可以为8-50μm。另一方面，支撑区120位于显示区110的至少两侧，示例性的，可以如图1所示围绕显示区110四周设置，也可以设置于显示区110相对的两侧或任意三侧。当设置支撑区120的厚度大于显示区110中网格状遮光部112的厚度时，设置于显示区110至少两侧的支撑区120能够使整个金属掩膜板10变平整，而无需再施加用于崩平金属掩膜板10的拉力，进而能够避免上述拉力导致金属掩膜板10形变的问题。可选的，所述支撑区120的厚度取值范围可以为700-1000μm。可以理解的是，若厚度相对较厚的支撑区120设置于显示区110的一侧则无法达到使金属掩膜板10变平整的目的，因此，本实施例将支撑区120设置于显示区110的至少两侧。需要说明的是，参见图2，支撑区120包括下金属层122和上金属层121，其中下金属层122与网格状遮光部112同时形成，上金属层121形成于下金属层122之上。可以理解的是，上金属层121和下金属层122的材料可相同也可不同，由于同种材料的性质更相似，因此上金属层121和下金属层122较佳的采用同种材料形成。继续参见图1，所述支撑区120至少包括分别设置于所述显示区110相对两侧的两个固定凹槽130。需要说明的是，固定凹槽130用于将金属掩膜板10与框架进行连接，可选的，连接方式可以为焊接或胶黏等。因此，为避免金属掩膜板10固定不稳，固定凹槽130至少包括分别设置于显示区110相对两侧的两个，可以理解的是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区；所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部；所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度。

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区；所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部；所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度。2.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述支撑区至少包括分别设置于所述显示区相对两侧的两个固定凹槽。3.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，两个所述固定凹槽设置于所述金属掩膜板的蒸镀面上。4.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述网格状遮光部的厚度取值范围为8-50μm。5.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述支撑区的厚度取值范围为700-1000μm。6.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，所述固定凹槽的深度取值范围为小于500μm。7.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，多个所述像素开孔呈矩阵排布。8.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述像素开孔的形状选自以下形状之一：矩形、多边型和圆形。9.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述金属掩膜板包括多个平行设置的金属掩膜条；每个所述金属掩膜条包括子显示区以及子支撑区，沿所述多个金属掩膜条排列方向的垂直方向，所述子支撑区设置于所述子显示区相对的两侧；设置于所述子显示区每一侧的子支撑区包括一个子固定凹槽；所述多个子显示区构成所述显示区，所述多个子支撑区构成所述支撑区，所述多个子固定凹槽构成所述固定凹槽。10.根据权利要求9所述的金属掩膜板，其特征在于，每个所述子显示区中的多个像素开孔沿多个所述掩膜条排列方向的垂直方向排布。11.一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供一基板；在所述基板上形成第一阻挡层，所述第一阻挡层包括多个相互独立的阻挡块，多个所述阻挡块以及各所述阻挡块之间的间隙所在区域为显示区...

【专利技术属性】
技术研发人员：高志豪，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31