采样流量控制装置及气体分析仪制造方法及图纸

技术编号:18912135 阅读:38 留言:0更新日期:2018-09-12 02:30
本发明专利技术公开了一种采样流量控制装置,包括样气进流通道、载气进流通道、流量控制单元以及至少两个用于控制通路连通状态的流体控制单元;样气进流通道和载气进流通道分别通过至少一个流体控制单元连通至流量控制单元的输入端,样气进流通道的输出端和流量控制单元的输出端分别连通至至少一个流体控制单元,以形成流量控制单元可选择校准样气流量或控制载气流量的气流通路。通过采样流量控制装置对样气采样进行自动校准和校验,保证样气采样长期工作的稳定性和准确性;对采样流量控制装置进行最大化的利用,节约了成本;保证整个气体分析仪性能的同时,极大地延长了采样流量控制装置的流量控制单元的使用寿命。

Sampling flow control device and gas analyzer

The invention discloses a sampling flow control device, which comprises a sample gas inlet channel, a carrier gas inlet channel, a flow control unit and at least two fluid control units for controlling the state of the channel connection; the sample gas inlet channel and the carrier gas inlet channel are connected to the flow control unit through at least one fluid control unit, respectively. At the input end, the output end of the sample gas inlet channel and the output end of the flow control unit are respectively connected to at least one fluid control unit to form a flow control unit which can optionally calibrate the sample gas flow or control the carrier gas flow path. Sample gas sampling is automatically calibrated and calibrated by sampling flow control device to ensure long-term stability and accuracy of sample gas sampling; the sampling flow control device is maximized to save cost; the performance of the whole gas analyzer is guaranteed, while the flow of sampling flow control device is greatly extended. The service life of the quantity control unit.

【技术实现步骤摘要】
采样流量控制装置及气体分析仪
本专利技术涉及烟道中汞监测
,特别地,涉及一种采样流量控制装置及气体分析仪。
技术介绍
汞是大气污染物之一,其主要来源有自然形成、矿物燃烧和矿物冶炼等。汞是一种剧毒非必需元素,广泛存在于各类环境介质和食物链中,其踪迹遍布全球各个角落。汞循环是重金属在生态系统中循环的典型,汞以元素状态在水体、土壤、大气和生物圈中迁移和转化。因此对污染源中汞的排放必须进行实时监测。现有的汞监测主要是采用气体分析仪,包括采样部分、富集解吸部分和分析部分。通过对气源进行采样、富集解吸、载气流动运载、分析检测。但是汞分析对于样气的进流流量以及载气的进流流量具有一定的流量要求,而流量达不到要求,会导致后续分析检测数据存在偏差,从而导致监测数据不准;另外,富含汞的样气具有一定的腐蚀性,如果长时间与流量计进行接触,容易导致流量计内部结构的腐蚀,从而导致流量计使用寿命降低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种采样流量控制装置及气体分析仪,以解决现有的气体分析仪,样气的进流流量难以控制;富含汞的样气容易腐蚀流量计,容易导致流量计使用寿命低的技术问题。根据本专利技术的一个方面,提供一种采样流量控制装置,包括样气进流通道、载气进流通道、流量控制单元以及至少两个用于控制通路连通状态的流体控制单元;样气进流通道和载气进流通道分别通过至少一个流体控制单元连通至流量控制单元的输入端,样气进流通道的输出端和流量控制单元的输出端分别连通至至少一个流体控制单元,以形成流量控制单元可选择校准样气流量或控制载气流量的气流通路。进一步地,流体控制单元包括第一电磁阀和第二电磁阀;样气进流通道和载气进流通道分别通过第一电磁阀连通至流量控制单元,样气进流通道和流量控制单元分别通过第二电磁阀连通至富集解吸装置;样气进流通道、第一电磁阀、流量控制单元和第二电磁阀构成样气流量校准通路;载气进流通道、第一电磁阀、流量控制单元和第二电磁阀构成载气流量控制通路。进一步地,流体控制单元包括第三电磁阀、第四电磁阀和过滤器;载气进流通道通过第三电磁阀连通至流量控制单元,流量控制单元通过第四电磁阀连通至富集解吸装置,载气进流通道、第三电磁阀、流量控制单元和第四电磁阀构成载气流量控制通路;样气进流通道通过第四电磁阀连通至富集解吸装置,过滤器设于富集解吸装置连通至分析装置的采样单元的输出端上,采样单元的输出端连通至第三电磁阀,样气进流通道、第四电磁阀、富集解吸装置、过滤器、采样单元、第三电磁阀和流量控制单元构成样气流量校准通路。进一步地,流量控制单元通过第五电磁阀控制进行气体排空,样气进流通道、第四电磁阀、富集解吸装置、过滤器、采样单元、第三电磁阀、流量控制单元和第五电磁阀构成样气流量校准通路。进一步地,采样单元通过第六电磁阀连通至第三电磁阀,第六电磁阀具有用于排空采样单元输出的气体以消除通道内压力的排空通路。根据本专利技术的另一方面,还提供了一种气体分析仪,包括连通设置的用于解吸状态时控制载气流量或空闲状态时校准样气流量的采样流量控制装置、用于对样气进行富集解吸的富集解吸装置、用于元素和/或离子分析检测的分析装置以及用于提供流体流动动力的流体动力装置;采样流量控制装置为上述的采样流量控制装置。进一步地,富集解吸装置包括至少两个并行设置用于同时富集和/或交错富集的富集解吸单元、用于控制样气单独和/或同时进入富集解吸单元的气路控制单元、以及与富集解吸单元可闭合连通的载气发生控制单元。进一步地,富集解吸单元包括第一富集解吸单元和第二富集解吸单元,气路控制单元包括第一气路控制单元和第二气路控制单元;样气通过第一气路控制单元分别进入第一富集解吸单元和第二富集解吸单元;或者样气通过第一气路控制单元同时进入第一富集解吸单元和第二富集解吸单元。进一步地,载气发生控制单元中还设置有可以过滤待测元素的过滤部件。进一步地,富集解吸装置还包括第一富集解吸装置、还原装置和第二富集解吸装置,采样流量控制装置的样气进流通道和载气进流通道分别连通至第一气路切换装置的输入端,第一气路切换装置的输出端分别连通至第一富集解吸装置和第二富集解吸装置,第一富集解吸装置通过第二气路切换装置分别连通至还原装置和分析装置,还原装置的输出端连通至第二富集解吸装置的输入端,第二富集解吸装置的输出端连通至分析装置;第一气路切换装置、第一富集解吸装置、第二气路切换装置和分析装置构成样气的第一分析测量通路;第一气路切换装置、第一富集解吸装置、第二气路切换装置、还原装置、第二富集解吸装置和分析装置构成样气的第二分析测量通路。进一步地,分析装置具有多个分析单元,多个分析单元分别通过第三气路切换装置控制分别与第二气路切换装置的输出端和第二元素汞富集解吸装置的输出端的连通。根据本专利技术的另一方面,还提供了一种气体分析仪,包括用于轮流解吸和重叠交错富集的富集解吸装置。富集解吸装置包括至少两个并行设置用于同时富集和/或交错富集的富集解吸单元、用于控制样气单独和/或同时进入富集解吸单元的气路控制单元、以及与富集解吸单元可闭合连通的载气发生控制单元。进一步地,富集解吸单元包括第一富集解吸单元和第二富集解吸单元,气路控制单元包括第一气路控制单元和第二气路控制单元;样气通过第一气路控制单元分别进入第一富集解吸单元和第二富集解吸单元;或者样气通过第一气路控制单元同时进入第一富集解吸单元和第二富集解吸单元。进一步地,载气发生控制单元中还设置有可以过滤待测元素的过滤部件。根据本专利技术的另一方面,还提供了一种气体分析仪,包括用于一路样气分别进行元素汞和离子汞的测量的富集解吸装置,以实现一路样气对样气元素汞和样气离子汞分别进行单独测量,提高获得离子汞浓度值的精确性。富集解吸装置还包括第一富集解吸装置、还原装置和第二富集解吸装置,采样流量控制装置的样气进流通道和载气进流通道分别连通至第一气路切换装置的输入端,第一气路切换装置的输出端分别连通至第一富集解吸装置和第二富集解吸装置,第一富集解吸装置通过第二气路切换装置分别连通至还原装置和分析装置,还原装置的输出端连通至第二富集解吸装置的输入端,第二富集解吸装置的输出端连通至分析装置;第一气路切换装置、第一富集解吸装置、第二气路切换装置和分析装置构成样气的第一分析测量通路;第一气路切换装置、第一富集解吸装置、第二气路切换装置、还原装置、第二富集解吸装置和分析装置构成样气的第二分析测量通路。进一步地,分析装置具有多个分析单元,多个分析单元分别通过第三气路切换装置控制分别与第二气路切换装置的输出端和第二元素汞富集解吸装置的输出端的连通。本专利技术具有以下有益效果:本专利技术的采样流量控制装置对没有腐蚀性的载气进行流量控制,以确保样气在富集解吸装置内处于解吸状态时控制载气的流量,确保有足够的载气作为流动相运载被分析物;对具有腐蚀性的样气,不直接采用流量控制的方式,而是当富集解吸装置处于空闲状态时,借助载气的流量控制单元对样气流量进行流量校准,从而达到控制样气流量的目的。确保样气流量与载气流量均能够达到精准测量和/或控制的要求,同时采样流量控制装置内的流量控制单元与样气的接触少,降低了流量控制单元被样气腐蚀的几率,提高了流量控制单元的使用寿命。通过采样流量控制装置对样气采样进行自动校准和校验,保证样气采样长期工作的稳定性和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种采样流量控制装置,其特征在于,包括样气进流通道(101)、载气进流通道(102)、流量控制单元(103)以及至少两个用于控制通路连通状态的流体控制单元;所述样气进流通道(101)和所述载气进流通道(102)分别通过至少一个所述流体控制单元连通至所述流量控制单元(103)的输入端,所述样气进流通道(101)的输出端和所述流量控制单元(103)的输出端分别连通至至少一个所述流体控制单元,以形成所述流量控制单元(103)可选择校准样气流量或控制载气流量的气流通路。

【技术特征摘要】
1.一种采样流量控制装置,其特征在于,包括样气进流通道(101)、载气进流通道(102)、流量控制单元(103)以及至少两个用于控制通路连通状态的流体控制单元;所述样气进流通道(101)和所述载气进流通道(102)分别通过至少一个所述流体控制单元连通至所述流量控制单元(103)的输入端,所述样气进流通道(101)的输出端和所述流量控制单元(103)的输出端分别连通至至少一个所述流体控制单元,以形成所述流量控制单元(103)可选择校准样气流量或控制载气流量的气流通路。2.根据权利要求1所述的采样流量控制装置,其特征在于,所述流体控制单元包括第一电磁阀(104)和第二电磁阀(105);所述样气进流通道(101)和所述载气进流通道(102)分别通过所述第一电磁阀(104)连通至所述流量控制单元(103),所述样气进流通道(101)和所述流量控制单元(103)分别通过所述第二电磁阀(105)连通至富集解吸装置(2);所述样气进流通道(101)、所述第一电磁阀(104)、所述流量控制单元(103)和所述第二电磁阀(105)构成样气流量校准通路;所述载气进流通道(102)、所述第一电磁阀(104)、所述流量控制单元(103)和所述第二电磁阀(105)构成载气流量控制通路。3.根据权利要求1所述的采样流量控制装置,其特征在于,所述流体控制单元包括第三电磁阀(106)、第四电磁阀(107)和过滤器(108);所述载气进流通道(102)通过所述第三电磁阀(106)连通至所述流量控制单元(103),所述流量控制单元(103)通过所述第四电磁阀(107)连通至富集解吸装置(2),所述载气进流通道(102)、所述第三电磁阀(106)、所述流量控制单元(103)和所述第四电磁阀(107)构成载气流量控制通路;所述样气进流通道(101)通过所述第四电磁阀(107)连通至富集解吸装置(2),所述过滤器(108)设于所述富集解吸装置(2)连通至分析装置(3)的采样单元(301)的输出端上,所述采样单元(301)的输出端连通至所述第三电磁阀(106),所述样气进流通道(101)、所述第四电磁阀(107)、所述富集解吸装置(2)、所述过滤器(108)、所述采样单元(301)、所述第三电磁阀(106)和所述流量控制单元(103)构成样气流量校准通路。4.根据权利要求3所述的采样流量控制装置,其特征在于,所述流量控制单元(103)通过第五电磁阀(109)控制进行气体排空,所述样气进流通道(101)、所述第四电磁阀(107)、所述富集解吸装置(2)、所述过滤器(108)、所述采样单元(301)、所述第三电磁阀(106)、所述流量控制单元(103)和所述第五电磁阀(109)构成样气流量校准通路。5.根据权利要求4所述的采样...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘德华吴银菊刘海东
申请(专利权)人:力合科技湖南股份有限公司
类型:发明
国别省市:湖南,43

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