一种MWT电池掩膜偏移检验装置制造方法及图纸

一种MWT电池掩膜偏移检验装置，由透明板组成，所述透明板上印刷有同心圆组，所述同心圆组的数量等于掩膜圈的数量，所述同心圆组由内圆、中圆、外圆组成，所述内圆用于标定激光孔洞的偏移控制范围，所述中圆用于标定掩膜圈大小和是否发生偏移，所述外圆用于标定掩膜圈偏移控制范围，本实用新型专利技术依据MWT掩膜圈的大小和数量，设计相同数量的多个同心圆组，将同心圆组印刷到胶片上，胶片所需的材质为透明的激光打印菲林，成本小，更换方便，且结构简单、方便、快捷有效非常适合于产线作业。

A device for detecting MWT battery mask deviation

An MWT battery mask offset detecting device is composed of a transparent plate printed with a concentric circle group equal to the number of mask rings. The concentric circle group consists of an inner circle, a middle circle and an outer circle used to calibrate the offset control range of laser holes. The outer circle is used to calibrate the control range of the mask circle offset. According to the size and quantity of the MWT mask circle, the utility model designs a plurality of concentric circle groups of the same number, and prints the concentric circle group onto the film. The material required for the film is transparent laser printing film, which has low cost and can be replaced. The utility model is simple, convenient, fast and effective, and is very suitable for production line operation.

【技术实现步骤摘要】
一种MWT电池掩膜偏移检验装置
本专利技术涉及掩膜偏移检验技术，尤其涉及一种检验MWT晶硅电池掩膜偏移的检验装置。
技术介绍
MWT晶硅电池是一种利用激光打孔将正电极引导到背面，通过减少电池正面的遮光面积，增加光生电流，提高转换效率至19.5%以上的高效电池，与普通晶硅电池生产工艺相比，增加了激光打孔和掩膜两道工序。掩膜工序印刷出的掩膜圈不能够与背场相连，若发生连接或超出则会造成漏电；印刷的背面正极不能超出掩膜圈，超出掩膜圈同样会造成漏电，转换效率就会降低。掩膜工序与一、二道丝网印刷之间间隔了刻蚀、PECVD二道工序，如果在掩膜工序对掩膜圈的偏移不能做出很好的判定，丝网印刷前的需做返工处理，做至丝网印刷的就会直接报废。掩膜位于激光打孔之后，在检验是否发生偏移时，往往固定思维于与孔洞进行比较，若孔洞发生偏移较大，后续判断就会给检验带来困难，会发生误判的现象。
技术实现思路
基于以上，本专利技术提出一种能够快速检验掩膜偏移的检验装置，能及时有效且在一个检验工序中对激光打孔位、掩膜圈偏移是否超范围进行判断，减少资源浪费和损失，且减少不同检验工序造成的材料报废率。为实现本上述目的，本技术采用以下技术方案予以实现：一种MWT电池掩膜偏移检验装置，由透明板组成，所述透明板上印刷有同心圆组，所述同心圆组的数量等于掩膜圈的数量，所述同心圆组由内圆、中圆、外圆组成，所述内圆用于标定激光孔洞的偏移控制范围，所述中圆用于标定掩膜圈大小和是否发生偏移，所述外圆用于标定掩膜圈偏移控制范围。优选的，内圆孔径为1.55～1.65mm；中圆孔径为2.8～3.2mm；外圆孔径为3.5～5mm。与现有技术相比较，本技术的有益效果是：本技术依据MWT掩膜圈的大小和数量，设计相同数量的多个同心圆组，将同心圆组印刷到胶片上，胶片所需的材质为透明的激光打印菲林，成本小，更换方便，且结构简单、方便、快捷有效非常适合于产线作业。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步说明，显而易见下述附图及具体实施方式仅仅是本技术方案的一种表现形式，还可依据本技术方案获得其他具体实施方案。图1为本技术结构示意图。具体实施方式如图1所示，一种MWT电池掩膜偏移检验装置，由1透明板组成，所述1透明板上印刷有2同心圆组，所述2同心圆组的数量等于掩膜圈的数量，所述2同心圆组由3内圆、4中圆、5外圆组成，所述3内圆用于标定激光孔洞的偏移控制范围，所述4中圆用于标定掩膜圈大小和是否发生偏移，所述5外圆用于标定掩膜圈偏移控制范围。优选的，3内圆孔径为1.55～1.65mm；4中圆孔径为2.8～3.2mm；5外圆孔径为3.5～5mm。优选的，所述1透明板为感光胶片。本技术是这样应用的：（1）将掩膜印刷完成后的硅片中的最中心掩膜圈与胶片对应位置的中圆进行对准，再将胶片中依据硅片大小设定的尺寸边框6与所检验硅片进行标定；若硅片的每个掩膜圈与对应的中圆4相符合，则掩膜未发生偏移；若不符合，则发生偏移。（2）若发生偏移，需将与胶片标定完的硅片对准光源，查看激光打孔孔洞是否超出内圆标定的范围，若超出则判定为激光偏移，否则为掩膜印刷发生偏移。（3）若判定为掩膜印刷发生偏移，则同时需要查看掩膜圈是否超出外圆圈定的范围，若未超出则可以继续下传，否则传至刻蚀后进行返工处理。以上显示和描述了本技术的基本结构和主要特性及本技术的优点。对技术的具体实施方案进行了描述，但并未对本技术保护范围的限制，本行业的技术人员应该了解，上述实施例与说明中描述的只是本技术基本的操作步骤，不脱离技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种MWT电池掩膜偏移检验装置，其特征在于由透明板组成，所述透明板上印刷有同心圆组，所述同心圆组的数量等于掩膜圈的数量，所述同心圆组由内圆、中圆、外圆组成，所述内圆用于标定激光孔洞的偏移控制范围，所述中圆用于标定掩膜圈大小和是否发生偏移，所述外圆用于标定掩膜圈偏移控制范围。

【技术特征摘要】
1.一种MWT电池掩膜偏移检验装置，其特征在于由透明板组成，所述透明板上印刷有同心圆组，所述同心圆组的数量等于掩膜圈的数量，所述同心圆组由内圆、中圆、外圆组成，所述内圆用于标定激光孔洞的偏移控制范围，所述中圆用于标定掩膜圈大小和是否发生偏移，所述外圆用于标定掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：公雪，时宝，
申请(专利权)人：润峰电力有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37