全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置及其检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种检测精度较高的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置及其检测方法。全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，在直线导轨上设置有溜板，在直线导轨的下方设置有水槽，在L形辅助检测支架的下板上设置有元件孔，在元件孔内设置有辅助检测平板，L形辅助检测支架使辅助检测平板只可在竖直方向上自由浮动，第一激光位移传感器检测水槽内的水面，第二激光位移传感器检测辅助检测平板的上表面。本发明专利技术采用水面作为参考对象，避免直线导轨本身的直线度误差对检测精度的影响，不会引入系统误差，具有极高的检测精度；采用L形辅助检测支架和辅助检测平面贴合抛光盘表面以起到平滑的作用，改善抛光盘宏观轮廓的检测精度和稳定性。

Device for detecting shape error of polishing disc in full aperture ring polishing and detection method thereof

The invention provides a device for detecting the shape error of a polishing disc in full-bore annular polishing with high detection accuracy and a detection method thereof. A measuring device for the shape error of a polishing disc in full-bore annular polishing is provided with a slide plate on the linear guide rail, a water tank under the linear guide rail, a component hole on the lower plate of the L-shaped auxiliary testing support, an auxiliary testing plate in the component hole, and an L-shaped auxiliary testing support so that the auxiliary testing plate can only be vertical. The first laser displacement sensor detects the water surface in the flume, and the second laser displacement sensor detects the upper surface of the auxiliary detection plate. The invention adopts the water surface as the reference object, avoids the influence of the straightness error of the linear guide rail itself on the detection accuracy, does not introduce the system error, and has the extremely high detection precision; uses the L-shaped auxiliary detection support and the auxiliary detection plane to paste the surface of the polishing plate to play the role of smoothing, and improves the detection of the macroscopic contour of the polishing plate. Accuracy and stability.

【技术实现步骤摘要】
全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置及其检测方法
本专利技术涉及光学加工领域，尤其涉及一种全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置及其方法。
技术介绍
全口径环形抛光广泛应用于大口径平面光学元件的加工，加工的元件具有较低的中频误差。大型环抛机一般采用大理石基盘，通过在其表面浇制沥青作为抛光盘。通常，环抛机的抛光盘的中心位置配置有中心柱，同时抛光盘的侧边位置配置有3个立柱，均通过横梁与中心柱连接，形成3个工位。其中一个工位用于放置修正盘，另外两个工位用于放置工件盘。环抛技术一直存在的一个难题是元件低频面形误差的高效收敛。元件的面形误差主要取决于抛光过程的运动参量以及元件和抛光盘接触界面的压力分布。抛光运动参量包括各盘转速、元件偏心距等，近年来机床运动控制水平的提升已较好地解决了元件面形精度控制在运动参数方面的制约问题。抛光压力分布的均匀性，特别是由于抛光盘表面不平引起的抛光压力分布不均已经成为元件面形精度提升的瓶颈。长期以来，环形抛光缺乏有效的抛光盘形状误差检测和监控方法。CN103978430A和CN105203065A分别提出了一种抛光盘形状误差的检测方法，首先采用标准镜和平尺本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：在直线导轨(9)上设置有溜板(10)，在所述溜板(10)上设置有L形辅助检测支架(11)、第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)，在所述直线导轨(9)的下方设置有水槽(20)，在所述L形辅助检测支架(11)的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板(14)，所述L形辅助检测支架(11)限定辅助检测平板(14)的水平移动，使辅助检测平板(14)只可在竖直方向上自由浮动，所述第一激光位移传感器(12)检测水槽(20)内的水面，所述第二激光位移传感器(13)检测辅助检测平板(14)的上表面。

【技术特征摘要】
1.全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：在直线导轨(9)上设置有溜板(10)，在所述溜板(10)上设置有L形辅助检测支架(11)、第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)，在所述直线导轨(9)的下方设置有水槽(20)，在所述L形辅助检测支架(11)的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板(14)，所述L形辅助检测支架(11)限定辅助检测平板(14)的水平移动，使辅助检测平板(14)只可在竖直方向上自由浮动，所述第一激光位移传感器(12)检测水槽(20)内的水面，所述第二激光位移传感器(13)检测辅助检测平板(14)的上表面。2.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：工作时，所述水槽(20)设置在抛光盘(2)上，所述第一激光位移传感器(12)的检测点指向水槽(20)内的水面，所述第二激光位移传感器(13)的检测点指向辅助检测平板(14)的上表面。3.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述辅助检测平板(14)的下表面与抛光盘(2)上表面贴合，所述辅助检测平板(14)的尺寸大于抛光盘(2)上表面沟槽的最大尺寸。4.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)通过磁力表座固定在溜板(10)上。5.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述第一激光位移传感器(12)和第二激光位移传感器(13)检测的距离数据通过两根数据线输送至PC端进行记录和处理。6.如权利要求1所述的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，其特征在于：所述水槽(20)的形状为长方形，其长度方向与直线导轨(9)对齐，所述水槽(20)的长度...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖德锋，赵世杰，谢瑞清，孙荣康，任乐乐，王健，许乔，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川,51