一种定点释放化学作用的力流变抛光方法技术

一种定点释放化学作用的力流变抛光方法，在具有剪切增稠效应的非牛顿流体抛光液中加入含有化学抛光液的包裹体；在抛光过程中，随着抛光液与工件相对运动速度的增大，工件对抛光液造成的剪切力不断增大，抛光液产生流变现象，粘度迅速增加；由此，抛光液对分散在其中的包裹体作用力也相对增强，包裹体在与工件接触面受挤压破碎，包裹体中的化学物质释放到工件被抛光表面；所述化学物质受到高速、高压的作用，与工件表面快速发生化学反应，在工件表面形成的化学反应物，由抛光液中磨粒高效去除且不会对工件本体材料产生机械损伤，从而提高工件材料的抛光效率与和质量。本发明专利技术高效、低成本并且对环境友好。

A force rheology polishing method for releasing chemical effect at fixed point

A fixed-point chemical-releasing force-rheological polishing method in which an inclusion containing a chemical polishing fluid is added to a non-Newtonian fluid polishing fluid with shear thickening effect; during polishing, with the increase of the relative velocity between the polishing fluid and the workpiece, the shear force caused by the workpiece to the polishing fluid increases continuously, and the polishing fluid is produced. Rheological phenomena, viscosity increases rapidly; thus, the polishing fluid on the dispersion of inclusions in which the force is relatively enhanced, the inclusion in contact with the workpiece is crushed by extrusion, the inclusion of chemical substances released to the workpiece polished surface; the chemical substances by high-speed, high-pressure role, and the workpiece surface occurs rapidly. Chemical reactions, chemical reactants formed on the surface of the workpiece, are efficiently removed by abrasive particles in the polishing fluid without mechanical damage to the workpiece body material, thereby improving the polishing efficiency and quality of the workpiece material. The invention is efficient, low cost and environmentally friendly.

【技术实现步骤摘要】
一种定点释放化学作用的力流变抛光方法
本专利技术属于精密超精密加工技术，涉及一种基于非牛顿流体剪切增稠效应的高效，高质量的力流变抛光方法。
技术介绍
近年来，科学技术的众多应用领域里，出现了诸如特种光学玻璃、单晶硅、蓝宝石、钽酸锂及各种功能性陶瓷等硬脆或软脆性难加工材料；此外，各类科技产品的表面形状也越来越向曲面甚至复杂曲面延伸，进一步增加了其超精密加工的难度。抛光加工技术一直以来作为超精密加工技术的主要方法，其目的是为了降低工件表面的粗糙度、去除加工中产生的损伤层，可用于加工复杂曲面。对于具有复杂曲面形状的零件，高表面质量的抛光要求抛光用的工具要与工件的曲面良好的吻合；为实现高效率的抛光，在同样的抛光工艺因素条件下(主要是抛光时的速度及压强因素)要求抛光工具与工件表面接触区域即抛光面积要大。因此，怎样解决抛光效率和抛光质量的矛盾，同时考虑加工经济性的问题，已经成为了超精密加工
的一项重要课题。一些先进的抛光技术，如弹性发射加工(EEM)、化学机械抛光(CMP)、磁流变抛光(MRF)和磁流变磨粒流抛光(MRAFF)及磁力研磨理论的超声波振动辅助复合加工等，已经成为获得超精密光滑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种定点释放化学作用的力流变抛光方法，其特征在于：在具有剪切增稠效应的非牛顿流体抛光液中加入含有化学抛光液的包裹体；在抛光过程中，随着抛光液与工件相对运动速度的增大，工件对抛光液造成的剪切力不断增大，抛光液产生流变现象，粘度迅速增加；由此，抛光液对分散在其中的包裹体作用力也相对增强，包裹体在与工件接触面受挤压破碎，包裹体中的化学物质释放到工件被抛光表面；所述化学物质受到高速、高压的作用，与工件表面快速发生化学反应，在工件表面形成的化学反应物，由抛光液中磨粒高效去除且不会对工件本体材料产生机械损伤，从而提高工件材料的抛光效率与和质量。

【技术特征摘要】
1.一种定点释放化学作用的力流变抛光方法，其特征在于：在具有剪切增稠效应的非牛顿流体抛光液中加入含有化学抛光液的包裹体；在抛光过程中，随着抛光液与工件相对运动速度的增大，工件对抛光液造成的剪切力不断增大，抛光液产生流变现象，粘度迅速增加；由此，抛光液对分散在其中的包裹体作用力也相对增强，包裹体在与工件接触面受挤压破碎，包裹体中的化学物质释放到工件被抛光表面；所述化学物质受到高速、高压的作用，与工件表面快速发生化学反应，在工件表面形成的化学反应物，由抛光液中磨粒高效去除且不会对工件本体材料产生机械损伤，从而提高工件材料的抛光效率与和质量。2.如权利要求1所述的一种定点释放化学作用的力流变抛光方法，其特征在于：非牛顿流体抛光液中所加入的包裹体的胶囊受到设定大小的剪切力作用才会破碎。3.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕冰海，邵琦，贺乾坤，宋志龙，杨易彬，陈士豪，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33