抗反射膜制造技术

本发明专利技术涉及一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu‑Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗反射膜
相关申请的交叉引用本申请要求向韩国知识产权局于2016年3月9日提交的韩国专利申请第10-2016-0028468号、2016年3月11日提交的韩国专利申请第10-2016-0029336号、2016年3月14日提交的韩国专利申请第10-2016-0030395号以及于2017年3月9日提交的韩国专利申请第10-2017-0029954号的优先权的权益，其全部公开内容通过引用并入本文。本专利技术涉及抗反射膜。更具体地，本专利技术涉及这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时，还同时实现高耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。
技术介绍
通常，诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有用于使从外部入射的光的反射最小化的抗反射膜。作为使光的反射最小化的方法，存在以下方法：使填料如细陶瓷颗粒分散在树脂中，并涂覆在基底膜上以赋予不规则性的方法(防眩光(AG)涂覆)；通过在基底膜上形成具有不同折射率的复数个层来利用光的干涉的方法(防反射(AR)涂覆)；和它们的混合方法。其中，在AG涂覆的情况下，反射光的绝对量等于一般的硬涂覆，但是通过经由不规则性使用光散射来减少进入眼睛的光的量可以获得低反射效果。然而，由于AG涂覆因表面不规则性而具有差的表面清晰度，近来已经进行了许多关于AR涂覆的研究。对于使用AR涂覆的膜，其中在基底膜上层合有硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等的多层结构已经商业化。然而，如上所述的形成复数个层的方法的缺点在于，由于形成各层的过程是分开进行的，因此层间粘合力(界面粘合性)弱，并且耐刮擦性低。此外，通常，为了改善包括在抗反射膜中的低折射率层的耐刮擦性，主要尝试了添加具有纳米尺寸的多种颗粒(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石颗粒等)的方法。然而，当如上所述使用纳米尺寸的颗粒时，在降低低折射率层的反射率的同时，还同时提高耐刮擦性方面存在限制，并且低折射率层的表面的防污性由于具有纳米尺寸的颗粒而大大降低。因此，已经积极进行了许多研究来减少从外部入射的光的绝对反射量并且提高表面的防污性和耐刮擦性，但由此产生的物理特性的改善程度不足。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时，还同时实现高耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。技术方案提供了这样的抗反射膜：其在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。在下文中，将更详细地描述根据本专利技术的具体实施方案的抗反射膜。在本公开内容中，可光聚合化合物统指当用光照射时(例如当用可见光或紫外光照射时)引起聚合反应的化合物。此外，含氟化合物是指化合物中包含至少一个氟元素的化合物。此外，(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酰基((meth)acryl)是指包括丙烯酸酯/丙烯酰基和甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酰基两者。此外，(共聚)聚合物是指包括共聚物和均聚物两者。此外，中空无机颗粒是指源自硅化合物或有机硅化合物的二氧化硅颗粒，其中在二氧化硅颗粒的表面上和/或内部存在空的空隙。根据本专利技术的一个实施方案，可以提供这样的抗反射膜：其在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。因此，本专利技术人对抗反射膜进行了深入研究，并通过实验发现，在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值的抗反射膜可以在具有低反射率和高透光率的同时，还同时实现高耐刮擦性和防污性，由此完成了本专利技术。具体地，示出抗反射膜的使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图表示y轴的傅里叶变换幅度相对于x轴的膜厚度。傅里叶变换幅度的极值与厚度方向上的电子密度的变化有关。当在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个傅里叶变换幅度的极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个傅里叶变换幅度的极值时，可以实现较低的反射率并且提高耐刮擦性和防污性，同时在膜厚度方向上存在两个具有不同电子密度的层。具体地，由于抗反射膜在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值，因此可以保持抗反射膜内部优化的电子密度和折射率分布，由此实现较低的反射率并且具有抗刮擦或外部污染物的相对稳定的结构。极值意指在示出抗反射膜的使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在对应于y轴的反射率的傅里叶变换分析幅度的方向上凸出显示的点。更具体地，极值意指当与周围的函数值相比，“Y轴的傅里叶变换幅度相对于X轴的厚度”的函数值为最大或者最小的情况。例如，其意指“Y轴的傅里叶变换幅度相对于X轴的厚度”的函数的微分值为零。此外，极值可意指局部最大值。使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量可以使用波长为的Cu-Kα射线对尺寸为1cm×1cm(宽度×长度)的抗反射膜来进行。具体地，在调整样品台使得2θ(2θ)值为0之后，确定样品的半切(half-cut)，然后在入射角和反射角满足镜面条件的状态下进行反射率测量，由此测量X射线反射率图案。使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析可以通过使用PANalytical的X’Pert反射率程序来进行。具体地，在傅里叶变换中，输入值包括起始角度、终止角度和临界角度，例如，可以输入0.1°作为起始角度，输入1.2°作为终止角度，并且0.163°或0.18°作为临界角度。同时，在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在35nm至55nm的厚度处表现出一个极值并且在85nm至105nm的厚度处表现出一个极值的抗反射膜的特征可以通过调整抗反射膜的组分、光学特性、表面特性和内部特性来实现。实施方案的抗反射膜可以包括公知的详细配置。例如，抗反射膜可以包括硬涂层和形成在硬涂层上的低折射率层，并且根据需要，其还可以包括具有不同特性的一个或更多个层。距离表面35nm至55nm的厚度和85nm至105nm的厚度各自是从抗反射膜的表面定义或测量的厚度。当如上所述抗反射膜包括硬涂层和形成在硬涂层上的低折射率层时，距离表面35nm至55nm的厚度和85nm至105nm的厚度各自可以是距离低折射率层的表面的厚度。更具体地，抗反射膜可以包括硬涂层和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒。具体地，在抗反射膜中，与中空无机纳米颗粒相比，实心无机纳米颗粒可以更多地分布于靠近硬涂层与低折射率层之间的界面。过去，过量地添加无机颗粒以提高抗反射膜的耐刮擦性，但是在提高抗反射膜的耐刮擦性方面存在限制，而且存在反射率和防污性大大降低的问题。相反，当使中空无机纳米颗粒和实心无机纳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu‑Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.09 KR 10-2016-0028468;2016.03.11 KR 10-2011.一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中示出所述抗反射膜的使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图表示y轴的傅里叶变换幅度相对于x轴的膜厚度。3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量是使用波长为的Cu-Kα射线对尺寸为1cm×1cm(宽度×长度)的抗反射膜进行的。4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜包括硬涂层和形成在所述硬涂层上的低折射率层，并且距离表面35nm至55nm的厚度和85nm至105nm的厚度各自为距离所述低折射率层的表面的厚度。5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜包括硬涂层和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散于所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒。6.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中与所述中空无机纳米颗粒相比，所述实心无机纳米颗粒更多地分布于靠近所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面。7.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的所述低折射率层总厚度的50％以内。8.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中与所述实心无机纳米颗粒相比，全部中空无机纳米颗粒的30体积％或更多存在于沿所述低折射率层的厚度方向距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面更远的距离处。9.根据权利要求6所述的抗反射膜，其中全部实心无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于距离所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面的所述低折射率层总厚度的30％以内。10.根据权利要求9...

【专利技术属性】
技术研发人员：边真锡，具滋弼，金芙敬，张锡勋，张影来，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR