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本发明涉及一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu‑Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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