本发明专利技术公开了一种带式流转自动浸釉装置，碗坯放置在传送带一上并且传送带一将其运动到传送支架一的末端，随后沿导向板滑倒小皮带上侧，小皮带的驱动和碗坯重力使碗坯浸入釉水然后滑到托盘的相应位置，随后转盘电机转位将碗坯运动到转盘的最上端的位置，吸盘将已完成上釉的碗坯吸住并搬运至传送带二上，传送带二将碗坯运送到下一个工序，从而完成施釉的过程。本发明专利技术用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、自动化程度不高、上釉不均匀存在死角的缺陷。
【技术实现步骤摘要】
一种带式流转自动浸釉装置
本专利技术涉及日用陶瓷生产技术，特别是一种用于日用陶瓷生产过程中的自动上釉装置。
技术介绍
在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”，该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。2、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“陶瓷制品的局部表面上釉”，该技术是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该技术主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。3、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。4、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。5、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。
技术实现思路
本专利技术提供一种带式流转自动浸釉装置，能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程，最大限度缩短日用陶瓷生产时间，同时克服现有施釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷。一种带式流转自动浸釉装置，传送带一和传送带二分别安装在传送支架一和传送支架二上，传送带一和传送带二的上方为待施釉的碗坯和完成上釉的碗坯，传送支架一的右端为导向板，传送支架二左端的上方为吸盘，所述传送支架一和传送支架二之间为釉池，釉池的内部放置转位机构以及浸釉传送机构。所述浸釉传送机构包括异形支架和小皮带，异形支架放置与釉池的内部，小皮带则与异形支架配合安装，小皮带的一端与导向板接壤。所述转位机构包括主轴、托盘、底座、立板和转盘电机以及转盘，所述底座放置在釉池的内部，底座的两边固定立板，立板铰接转盘，所述转盘通过主轴连接，且转盘之间安装托盘，主轴的一端连接转盘电机。所述托盘两端加工有铰耳，中部加工有围边，且为多孔的结构。本专利技术的显著效果在于：1、带式传递，结构简单、紧凑，使用成本和维修成本有效降低，由于零部件多为标准件，通用性好。2、采用将待上釉碗坯完全浸泡在釉池当中的方法，可以保证碗坯的下方、内侧均可以实现碗坯均匀、无死角上釉，上釉效果好。3、整个上釉过程为全自动化，不需要人员参与，生产效率高，且容易与车间其他部分组成自动化流水线。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。图2是本专利技术的装置的主视图，其中A工位碗坯流向工位，B工位为碗坯传送方向标识，C工位为转盘转向标识。图3为局部D处转位机构局部放大示意图。其中：1-传送带一；2-碗坯；3-导向板；4-异形支架；5-吸盘；6-传送带二；7-传送支架二；8-釉池；9-主轴；10-托盘；11-底座；12-立板；13-转盘电机；14-转盘；15-撑杆；16-小皮带;17-传送支架一。具体实施方式对照图1—3，工作人员将待上釉的碗坯2放置到传送带一1上，传送带一1动作将碗坯2向前方输送，当到达传送带一1的右端时，碗坯2经过导向板3滑至放置于釉池8当中的异形支架4上的小皮带16上，小皮带16动作将碗坯2向釉池8的釉水中输送，利用小皮带16的推力和碗坯2的重力势能，碗坯2从异形支架4滑向托盘10，随后转盘电机13驱动转盘14转位，碗坯2向上移动至转盘14的顶端位置，吸盘5将完成上釉的碗坯2搬运至传送带二6上，传送带二6将上釉好的碗坯2运送至下一个工序。本装置结构设计合理，体积小，便于拆卸和携带，价格低廉。对于所属领域额普通技术人员来说，在上述基础上还可以做出其他不同形式的变化或者变动，由此所引申出的显而易见的变化仍属于本专利技术的保护范围之中。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种带式流转自动浸釉装置，传送带一（1）和传送带二（6）分别安装在传送支架一（17）和传送支架二（7）上，传送带一（1）和传送带二（6）的上方为待施釉的碗坯（2）和完成上釉的碗坯（2），传送支架一 （17）的右端为导向板（3），传送支架二（7）左端的上方为吸盘（5），所述传送支架一（1）和传送支架二（7）之间为釉池（8）， 其特在在于：釉池（8）的内部放置转位机构以及浸釉传送机构，所述浸釉传送机构包括异形支架（4）和小皮带（16），异形支架（4）放置于釉池（8）的内部，小皮带（16）则与异形支架（4）配合安装，小皮带（16）的一端与导向板（3）接壤；所述转位机构包括主轴（9）、托盘（10）、底座（11）、立板（12）和转盘电机（13）以及转盘（14），所述底座（11）放置在釉池（8）的内部，底座（11）的两边固定立板（12），立板（12）铰接转盘（14），所述转盘（14）通过主轴（9）连接，且转盘（14）之间安装托盘（10），主轴（9）的一端连接转盘电机（13）。
【技术特征摘要】
1.一种带式流转自动浸釉装置，传送带一（1）和传送带二（6）分别安装在传送支架一（17）和传送支架二（7）上，传送带一（1）和传送带二（6）的上方为待施釉的碗坯（2）和完成上釉的碗坯（2），传送支架一（17）的右端为导向板（3），传送支架二（7）左端的上方为吸盘（5），所述传送支架一（1）和传送支架二（7）之间为釉池（8），其特在在于：釉池（8）的内部放置转位机构以及浸釉传送机构，所述浸釉传送机构包括异形支架（4）和小皮带（16），异形支架（4）放置于釉池（8）的内部，小皮带（16）则与异形支...
【专利技术属性】
技术研发人员：黎勤涛，韦郁芬，覃驿，
申请(专利权)人：广西联壮科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广西,45
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