【技术实现步骤摘要】
一种带式流转自动浸釉装置
本专利技术涉及日用陶瓷生产技术,特别是一种用于日用陶瓷生产过程中的自动上釉装置。
技术介绍
在以往的日用陶瓷生产中,各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉,手工浸釉生产效率低,同时由于在施釉过程中手指接触坯体,使坯体在施釉后留下手指印,影响坯体的施釉质量。另外,由于釉水中加有多种化工材料,这些化工材料对人体有腐蚀作用,长期手工浸釉对人体有危害。为了提高生产效率,提高产品质量,改善工人生产环境,降低成本等,技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中,针对陶瓷上釉工序的技术文献有:1、专利文献【公开号:CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”,该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置,以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按 ...
【技术保护点】
1.一种带式流转自动浸釉装置,传送带一(1)和传送带二(6)分别安装在传送支架一(17)和传送支架二(7)上,传送带一(1)和传送带二(6)的上方为待施釉的碗坯(2)和完成上釉的碗坯(2),传送支架一 (17)的右端为导向板(3),传送支架二(7)左端的上方为吸盘(5),所述传送支架一(1)和传送支架二(7)之间为釉池(8), 其特在在于:釉池(8)的内部放置转位机构以及浸釉传送机构,所述浸釉传送机构包括异形支架(4)和小皮带(16),异形支架(4)放置于釉池(8)的内部,小皮带(16)则与异形支架(4)配合安装,小皮带(16)的一端与导向板(3)接壤;所述转位机构包括主轴 ...
【技术特征摘要】
1.一种带式流转自动浸釉装置,传送带一(1)和传送带二(6)分别安装在传送支架一(17)和传送支架二(7)上,传送带一(1)和传送带二(6)的上方为待施釉的碗坯(2)和完成上釉的碗坯(2),传送支架一(17)的右端为导向板(3),传送支架二(7)左端的上方为吸盘(5),所述传送支架一(1)和传送支架二(7)之间为釉池(8),其特在在于:釉池(8)的内部放置转位机构以及浸釉传送机构,所述浸釉传送机构包括异形支架(4)和小皮带(16),异形支架(4)放置于釉池(8)的内部,小皮带(16)则与异形支...
【专利技术属性】
技术研发人员:黎勤涛,韦郁芬,覃驿,
申请(专利权)人:广西联壮科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广西,45
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